JP2008083322A - 入力機能付き表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】入力位置を光学的に検出する方式を採用した場合でも、入力位置を確実に特定することができる入力機能付き表示装置を提供すること。
【解決手段】入力機能付き表示装置１００では、液晶装置１１０の表示光出射面１５０に利用者の指先などが接触して抵抗パターン５１、５２の間で電気抵抗の変化が生じたか否かを判定回路５３で監視する接触監視機構５が構成されている。このため、利用者の指先などが表示光出射面１５０に接触した場合のみ、複数の画素のいずれの画素に形成されている受光素子３４での受光量が増大したかに基づいて表示光出射面１５０での入力位置を特定し、それ以外の場合には、入力位置の特定を行わない。
【選択図】図５

Description

本発明は、表示体の表示光出射面への接触を光学的に検出する入力機能付き表示装置に関するものである。

表示体の表示光出射面への接触を光学的に検出する入力機能付き表示装置としては、例えば、複数の画素の各々に画素電極、画素トランジスタおよび受光素子が形成された素子基板と、この素子基板との間に液晶層を保持する対向基板とを備えたパネル状の液晶装置を用いたものが提案されている。かかる入力機能付き表示装置では、利用者が液晶装置の表示光出射面の所定位置に接触すると、その反射光が液晶装置に入射する。従って、複数の画素のいずれの画素に形成されている受光素子での受光量が増大したかを検出すれば、表示光出射面での入力位置を検出することができる（例えば特許文献１参照）。
特開２００５−３５２４９０号公報

しかしながら、特許文献１に開示のような入力機能付き表示装置では、例えば、利用者が入力位置を迷った場合などにおいて指先が表示光出射面に触れずに近傍で停止しているような場合でも、受光素子での受光量が増大するため、入力位置の特定を誤ってしまうという問題点がある。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、入力位置を光学的に検出する方式を採用した場合でも、入力位置を確実に特定することができる入力機能付き表示装置を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明では、複数の画素の各々に画素電極、画素スイッチング素子を備え、前記画素毎あるいは複数の画素毎に受光素子を備えた表示体を有し、前記受光素子での受光量の変化により前記表示体の表示光出射面での入力位置を検出する入力機能付き表示装置において、前記表示光出射面への接触の有無を監視する接触監視手段を有し、該接触監視手段において前記表示光出射面への接触があったときに前記入力位置を特定することを特徴とする。

本発明では、接触監視手段によって表示光出射面への接触の有無を監視し、その監視結果において、表示光出射面への接触があったときに前記入力位置の特定する。このため、利用者が入力位置を迷った場合などにおいて指先が表示光出射面に触れずに近傍で停止しているような場合には、受光素子での受光量が増大した場合でも、入力位置を特定しないため、入力位置の誤検出を防止することができる。

本発明において、前記表示体は、例えば、前記複数の画素の各々に前記画素電極、前記スイッチング素子を備え、前記画素毎あるいは複数の画素毎に前記受光素を備えた素子基板と、該素子基板との間に液晶層を保持する対向基板とを備えた液晶装置である。

この場合、前記表示光出射面が前記対向基板の外側表面である構成を採用することができる。

本発明において、前記接触監視手段は、前記表示光出射面に形成された複数の透明抵抗パターンを備え、当該複数の透明抵抗パターンの間で電気抵抗の変化が生じたときに前記表示光出射面への接触があったと判定することが好ましい。このように構成すると、簡素な構成で接触の有無を確実に監視することができる。また、透明抵抗パターンを利用するため、表示光の出射を妨げることがないので、表示品位を低下させることがない。

本発明において、前記画素スイッチング素子は薄膜トランジスタであり、前記接触監視手段において、前記表示光出射面への接触の有無を判定する判定回路が、前記薄膜トランジスタを構成する複数の薄膜のうちの１乃至複数の薄膜により形成されていることが好ましい。このように構成すると、製造工程数を増大させずに判定回路を形成することができる。

本発明を適用した入力機能付き表示装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器において表示用および入力用として用いられる。

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。

（全体構成）
図１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。

図１（ａ）、（ｂ）において、本形態の入力機能付き表示装置１００は、透過型のアクティブマトリクス方式で画像を表示可能な装置であり、パネル状の液晶装置１１０（表示体）を有している。液晶装置１１０は、素子基板１０と、この素子基板１０との間に液晶層１５を保持する対向基板２０とを備えている。後述するように、素子基板１０には画素電極９ａが形成され、対向基板２０には対向電極２１が形成されている。

液晶装置１１０に対して、表示光の出射側とは反対側（素子基板の側）にはバックライト装置８０が配置されており、バックライト装置８０から出射された光を液晶層１５で光変調して、対向基板２０の側から出射し画像を表示する。また、本形態の入力機能付き表示装置１００では、利用者が表示光出射面１５０を指で触れたときに、その接触位置を光学的に検出することにより、利用者の入力位置を検出するようになっている。

このような構成の入力機能付き表示装置１００を構成するにあたって、素子基板１０の上には、シール材１０７が対向基板２０の縁に沿うように設けられており、対向基板２０は、シール材１０７によって素子基板１０に固着されている。シール材１０７は、光硬化樹脂や熱硬化性樹脂などからなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。素子基板１０と対向基板２０との間において、シール材１０７により囲まれた空間内に電気光学物質としての液晶層１５が封入され、保持されている。

本形態では、液晶層１５として高分子分散型の液晶が用いられており、偏光板などが用いられていない。このため、本形態の入力機能付き表示装置１００では、対向基板２０の外側表面（素子基板１０が対向する側とは反対側の面）によって表示光出射面１５０が構成されている。

対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、素子基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための上下導通材１０６が形成されている。対向基板２０には、シール材１０７の内側領域に遮光性材料からなる額縁１０８が形成され、その内側が画像表示領域１０ａとされている。また、対向基板２０には、素子基板１０に形成された
の画素電極９ａの境界領域に対応する位置にブラックマトリクスと称せられる遮光膜２３が形成されている。

素子基板１０において、シール材１０７の外側領域には、素子基板１０の各辺に沿って、表示用データ線駆動回路１０１、表示用走査線駆動回路１０２、入力位置検出用出力線駆動回路１０３、および入力位置検出用走査線駆動回路１０４が構成されている。表示用データ線駆動回路１０１に沿っては複数の実装端子１０５が形成されている。素子基板１０において、シール材１０７や額縁１０８と重なる領域などを利用して検査回路などが形成されることともある。

（入力機能付き表示装置の電気的構成）
図２を参照して、本発明を適用した入力機能付き表示装置１００の電気的な構成を説明する。図２（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置１００に用いた素子基板の画像表示領域などの電気的な構成を示す等価回路図、および画素１つの分の等価回路図である。

図２（ａ）、（ｂ）に示すように、基板基板１０において、画像表示領域１０ａには、互いに交差する方向に延びた表示用走査線３ａと表示用データ線６ａとの交点に対応して複数の画素１００ａがマトリクス状に形成されている。表示用走査線３ａは、表示用走査線駆動回路１０２に接続され、表示用データ線６ａは、表示用データ線駆動回路１０１に接続されている。また、複数の画素１００ａは各々、表示用画素回路１００ｂと入力位置検出用画素回路１００ｃとを備えている。

表示用画素回路１００ｂは、画素電極９ａ、および画素電極９ａを制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ３１（画素スイッチング素子）が形成されている。画素電極９ａは、薄膜トランジスタ３１のドレインに電気的に接続されており、対向基板２０に形成されている対向電極２１（図１（ｂ）参照）との間に液晶容量３２を構成している。薄膜トランジスタ３１のソースには表示用データ線６ａが電気的に接続され、薄膜トランジスタ３１のゲートには表示用走査線３ａが電気的に接続されている。また、複数の画素１００ａの各々に向けては、表示用走査線３ａに並列して容量線３ｂが延びており、液晶容量３２に並列の保持容量３３が形成されている。このため、薄膜トランジスタ３１を一定期間だけオン状態にして表示用データ線６ａから各画素１００ａに所定のタイミングで画像信号を供給すると、画像信号は、画素電極９ａを介して液晶容量３２に書き込まれ、対向電極２１との間で一定期間保持される。その際、保持容量３３によって、電荷の保持特性が改善され、コントラスト比の高い表示を行うことができる。なお、容量線３ｂは、表示用走査線駆動回路１０２に接続されているが、定電位に保持されている。

基板１０において、各画素１００ａに向けては、さらに、表示用走査線３ａと並列に入力位置検出用走査線３ｃおよび定電位線３ｄが延び、表示用データ線６ａと並列に入力位置検出用出力線６ｂおよび定電位線６ｃが延びている。入力位置検出用走査線３ｃおよび定電位線３ｄは、入力位置検出用走査線駆動回路１０４に接続されている。入力位置検出用出力線６ｂおよび定電位線６ｃは、入力位置検出用出力線駆動回路１０３に接続されている。

入力位置検出用画素回路１００ｃは、定電位線３ｄにゲートが接続された薄膜トランジスタ構造を備えた受光素子３４と、入力位置検出用出力線６ｂにゲートが接続された入力位置検出信号の出力制御用の薄膜トランジスタ３６とを備えている。受光素子３４のソースは定電位線６ｃに接続され、薄膜トランジスタ３６のドレインは入力位置検出用出力線６ｂに接続されている。また、入力位置検出用画素回路１００ｃは保持容量３５を備えており、この保持容量３５の一方の端子は定電位線３ｄに接続され、他方の端子は受光素子３４のドレインおよび薄膜トランジスタ３６のソースに接続されている。

（入力機能付き表示装置の具体的構成）
図３および図４は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置１００に用いた素子基板において相隣接する画素の平面図、並びにＡ−Ａ′線およびＢ−Ｂ′線に相当する位置で入力機能付き表示装置１００を切断したときの断面図である。なお、図４には、画素電極９ａについては長くて太い点線で示し、表示用走査線３ａおよびそれと同時形成された薄膜については実線で示し、表示用データ線６ａおよびそれと同時形成された薄膜については一点鎖線で示し、半導体膜については短くて細い点線で示してある。

図３に示すように、素子基板１０上には、各画素１００ａ毎に画素電極９ａが形成されている。また、各画素電極９ａの横方向の境界領域に沿って、表示用走査線３ａ、容量線３ｂ、入力位置検出用走査線３ｃおよび定電位線３ｄが延びており、各画素電極９ａの縦方向の境界領域に沿って、表示用データ線６ａ、入力位置検出用出力線６ｂおよび定電位線６ｃが延びている。

図４に示すように、素子基板１０の基体は、石英基板や耐熱性ガラス板などの透明基板１０ｂからなり、対向基板２０の基体は、石英基板や耐熱性ガラス板などの透明基板２０ｂからなる。素子基板１０には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電膜からなる画素電極９ａが形成されており、その上側には配向膜１６が形成されている。対向基板２０には、カラーフィルタ２７、保護膜２８、ＩＴＯ膜などの透明導電膜からなる対向電極２１、および配向膜２６が形成されている。配向膜１６、２６は、ラビング処理等の所定の配向処理が施されたポリイミド膜などからなる。

素子基板１０には、透明基板１０ｂの表面にシリコン酸化膜などからなる下地保護膜１２が形成されているとともに、その表面側において、画素電極９ａに対応する位置には、画素スイッチング用の薄膜トランジスタ３１が形成されている。薄膜トランジスタ３１では、島状の半導体膜１ａに対して、チャネル形成領域、ソース領域およびドレイン領域が形成されており、表示用走査線３ａの一部がゲート電極として、チャネル形成領域にゲート絶縁膜２を介して対向している。薄膜トランジスタ３１の上層側には、シリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜４、７が形成されている。層間絶縁膜４の表面には表示用データ線６ａが形成され、この表示用データ線６ａは、層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタ３１のソース領域に電気的に接続している。層間絶縁膜７の表面にはＩＴＯ膜からなる画素電極９ａが形成されている。画素電極９ａは、層間絶縁膜７に形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極６ｅに電気的に接続し、このドレイン電極６ｅは、層間絶縁膜４およびゲート絶縁膜２に形成されたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタ３１のソース領域に電気的に接続している。

半導体膜１ａにおいて、ドレイン領域からの延設部分１ｂ（下電極）に対しては、ゲート絶縁膜２と同時形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して、表示用走査線３ａと同層の容量線３ｂの一部が上電極として対向することにより、保持容量３３が構成されている。このようにして、表示用画素回路１００ｂが構成されている。

また、素子基板１０では、下地保護膜１２の上層に半導体膜１ｃが形成されており、この半導体膜１ｃには、受光素子３４として機能する薄膜トランジスタのチャネル形成領域、ソース領域およびドレイン領域が形成されている。また、定電位線３ｄの一部がゲート電極として、チャネル形成領域にゲート絶縁膜２を介して対向している。受光素子３４の上層側には層間絶縁膜４、７が形成されている。層間絶縁膜４の表面には定電位線６ｃが形成され、この定電位線６ｃは、層間絶縁膜４およびゲート絶縁膜２に形成されたコンタクトホールを介して受光素子３４のソース領域に電気的に接続している。半導体膜１ｃにおいて、ドレイン領域からの延設部分１ｄ（下電極）に対しては、ゲート絶縁膜２と同時形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して、定電位線３ｄの一部が上電極として対向することにより、保持容量３５が構成されている。

さらに、半導体膜１ｃにおいて、延設部分１ｄから延びた端部１ｅには、薄膜トランジスタ３６のチャネル形成領域、ソース領域およびドレイン領域が形成されており、入力位置検出用走査線３ｃの一部がゲート電極として、チャネル形成領域にゲート絶縁膜２を介して対向している。また、薄膜トランジスタ３６の上層側には層間絶縁膜４、７が形成されている。層間絶縁膜４の表面には入力位置検出用出力線６ｂが形成され、この入力位置検出用出力線６ｂは、層間絶縁膜４およびゲート絶縁膜２に形成されたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタ３６のドレイン領域に電気的に接続している。このようにして、入力位置検出用画素回路１００ｃが構成されている。なお、入力位置検出用画素回路１００ｃが構成されている領域では、透明基板１０ｂと下地保護膜１２との間にクロム膜やアルミニウム膜などの遮光膜８ａが形成されており、バックライト装置８０からの光が入力位置検出用画素回路１００ｃに入射することが阻止されている。

本形態において、薄膜トランジスタ３１、３６、保持容量３３、３５、および受光素子３４は、同一の層間に形成された薄膜同士は同時形成されたものであり、各々の工程を利用して同時形成される。また、半導体膜１ａ、１ｃは、素子基板１０に対してアモルファスシリコン膜を形成した後、レーザアニールやランプアニールなどにより多結晶化されたポリシリコン膜である。

（位置検出動作）
図５（ａ）は、本発明を適用した入力機能付き表示装置１００への入力方法を示す説明図である。

図２、図３および図４において、本形態の入力機能付き表示装置１００では、入力位置検出用画素回路１００ｃに形成した受光素子３５（薄膜トランジスタ）のチャネル領域に光が入射すると、光電流が流れ、その電荷が保持容量３５に蓄積される。従って、入力位置検出用走査線３ｃを介して薄膜トランジスタ３６に走査信号を出力すると、保持容量３５に蓄積された電荷に対応した信号が入力位置検出用出力線６ｂを介して入力位置検出用出力線駆動回路１０３に出力される。それ故、利用者の指先などが入力機能付き表示装置１００の表示光出射面１５０の所定位置に接触すると、その反射光が液晶装置１１０に入射するので、複数の画素１００ａのいずれの画素に形成されている受光素子３４での受光量が増大する。従って、入力位置検出用出力線駆動回路１０３は、受光量が増大した受光素子３４を備えた画素１００ａの位置に対応する信号を出力するので、入力機能付き表示装置１００では、表示光出射面１５０で指先が触れた位置（入力位置）を検出することができる。よって、表示光出射面１５０に表示されたスイッチボタンのいずれを利用者が押したかを特定することができる。

（誤検出防止のための構成）
図５（ｂ）は、本発明を適用した入力機能付き表示装置１００に形成した誤検出防止手段の説明図である。

本形態の入力機能付き表示装置１００では、例えば、利用者が入力位置を迷った場合などにおいて指先が表示光出射面１５０に触れずに近傍で停止しているような場合、受光素子３４での受光量が増大したときでも、入力位置を誤検出するのを防止することを目的に、図２（ａ）に示すように、抵抗パターン５１、５２と、この抵抗パターン５１、５２を用いて表示光出射面１５０への接触の有無を判定する判定回路５３とを備えた接触監視機構５が構成されている。ここで、判定回路５３は、利用者が表示光出射面１５０に触れているか否かの判定信号を入力位置検出用出力線駆動回路１０３に出力する。

ここで、判定回路５３は、薄膜トランジスタによって構成されており、かかる判定回路５３の薄膜トランジスタは、図３および図４を参照して説明した薄膜トランジスタ３１、３６、保持容量３３、３５、および受光素子３４の製造工程を利用して素子基板１０に形成された素子である。

このような接触監視機構５を構成するにあたって、本形態では、図５（ｂ）に示すように、対向基板２０の外側表面（表示光出射面１５０）には、所定の隙間を介して対向する２本の櫛歯状の抵抗パターン５１、５２が形成されている。本形態において、抵抗パターン５１、５２は、ＩＴＯ膜などの透明導電膜から構成されており、表示光の出射を妨げない。

また、２本の抵抗パターン５１、５２には、素子基板１０からフレキシブル基板５５などを介して定電圧が印加されているとともに、２本の抵抗パターン５１、５２が導通したか否の信号が抵抗５６により生成されて判定回路５３に出力されるようになっている。ここで、判定回路５３には、指先が表示光出射面１５０に触れていない場合には低レベルの信号が出力される一方、図５（ｂ）に示すように、指先が２本の抵抗パターンに跨るように接触すると、判定回路５３には低レベルの信号が出力される。それ故、判定回路５３は、入力信号のレベルが低い場合には、２値化信号の「０」を入力位置検出用出力線駆動回路１０３に出力する一方、入力信号のレベルが高い場合には、２値化信号の「１」を入力位置検出用出力線駆動回路１０３に出力する。その結果、入力位置検出用出力線駆動回路１０３は、判定回路５３から、利用者が表示光出射面１５０に触れている旨の判定信号を受けた場合には、利用者の表示光出射面１５０への接触位置（入力位置）の特定を行い、その結果を出力するが、判定回路５３から、利用者が表示光出射面１５０に触れていないの判定信号を受けた場合には、利用者の表示光出射面１５０への接触位置（入力位置）の特定を行わない。

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の入力機能付き表示装置１００では、接触監視機構５によって表示光出射面１５０への接触の有無を監視し、その監視結果において、表示光出射面１５０への接触があったときに入力位置の特定する。このため、利用者が入力位置を迷った場合などにおいて指先が表示光出射面１５０に触れずに近傍で停止しているような場合には、受光素子３４での受光量が増大した場合でも、入力位置を特定しないため、入力位置の誤検出を防止することができる。

また、接触監視機構５は、表示光出射面１５０に形成された透明な抵抗パターン５１、５２を利用しているため、簡素な構成で接触の有無を確実に監視することができる。また、透明な抵抗パターン５１、５２を利用するため、表示光の出射を妨げることがないので、表示品位を低下させることがない。

［その他の実施の形態］
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した形態であれば、本発明の権利範囲に属する。

例えば、上記実施の形態では、薄膜トランジスタ３１、３６、保持容量３３、３５、受光素子３４、および判定回路５３の薄膜トランジスタを構成するにあたって、ポリシリコン膜を用いたが、半導体膜としてはアモルファスシリコン膜を用いてもよい。

また、上記形態では、表示光出射面１５０に形成された透明な抵抗パターン５１、５２を用いて接触監視機構５を構成したが、接触監視機構５を構成するにあたっては、例えば、表示光出射面１５０に透明な電極を形成するとともに、この電極にキャパシタを接続し、透明な電極に利用者の指先が触れた際にキャパシタが放電されることを検出する構成を採用してもよい。

また、本発明では、対向基板２０の外側表面によって表示光出射面１５０が構成されている場合を例に説明したが、表示光出射面側に偏光板やカバーガラスが配置された場合には、対向基板２０の外側表面に代えて、最も観察者側に配置される部材の外側表面によって表示光出射面１５０が構成される。この場合には、最も観察者側に配置される部材の外側表面に利用者が触れたか否かを監視するように構成すればよい。

さらに、上記形態で、液晶装置１１０を用いた例を説明したが、エレクトロルミネッセンス装置を用いた入力機能付き表示装置１００に本発明を適用してもよい。

さらにまた、各画素１００ａの構成などについても、例えば、保持容量３３、３５を省略した構成などを採用してもよい。

［電子機器への搭載例］
次に、上述した実施形態に係る入力機能付き表示装置１００を適用した電子機器について説明する。図６（ａ）に、入力機能付き表示装置１００を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。図６（ｂ）に、入力機能付き表示装置１００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、入力機能付き表示装置１００に表示される画面がスクロールされる。図６（ｃ）に、入力機能付き表示装置１００を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が入力機能付き表示装置１００に表示される。

なお、入力機能付き表示装置１００が適用される電子機器としては、図６に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した入力機能付き表示装置１００が適用可能である。

（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力機能付き表示装置に用いた素子基板の画像表示領域などの電気的な構成を示す等価回路図、および画素１つの分の等価回路図である。 本発明を適用した入力機能付き表示装置に用いた素子基板において相隣接する画素の平面図である。 本発明を適用した入力機能付き表示装置の断面断面図である。 本発明を適用した入力機能付き表示装置の動作および接触監視機構の構成を示す説明図である。 本発明に係る入力機能付き表示装置を用いた電子機器の説明図である。

符号の説明

１ａ、１ｃ・・半導体膜、５・・接触監視機構（接触監視手段）、９ａ・・画素電極、１０・・素子基板、１５・・液晶層、２０・・対向基板、２１・・対向電極、３１・・薄膜トランジスタ（画素スイッチング素子）、３４・・受光素子、５１、５２・・抵抗パターン、５３・・判定回路、８０・・バックライト装置、１００・・入力機能付き表示装置、１１０・・液晶装置（表示体）、１５０・・表示光出射面、１０１・・表示用データ線駆動回路、１０２・・表示用走査線駆動回路、１０３・・入力位置検出用出力線駆動回路、１０４・・入力位置検出用走査線駆動回路

Claims (5)

1. 複数の画素の各々に画素電極、画素スイッチング素子を備え、前記画素毎あるいは複数の画素毎に受光素子を備えた表示体を有し、前記受光素子での受光量の変化により前記表示体の表示光出射面での入力位置を検出する入力機能付き表示装置において、
   前記表示光出射面への接触の有無を監視する接触監視手段を有し、
   該接触監視手段において前記表示光出射面への接触があったときに前記入力位置を特定することを特徴とする入力機能付き表示装置。
2. 前記表示体は、前記複数の画素の各々に前記画素電極、前記画素スイッチング素子を備え、前記画素毎あるいは複数の画素毎に前記受光素子を備えた素子基板と、該素子基板との間に液晶層を保持する対向基板とを備えた液晶装置であることを特徴とする請求項１に記載の入力機能付き表示装置。
3. 前記表示光出射面は、前記対向基板の外側表面により構成されていることを特徴とする請求項２に記載の入力機能付き表示装置。
4. 前記接触監視手段は、前記表示光出射面に形成された複数の透明抵抗パターンを備え、当該複数の透明抵抗パターンの間で電気抵抗の変化が生じたときに前記表示光出射面への接触があったと判定することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の入力機能付き表示装置。
5. 前記画素スイッチング素子は薄膜トランジスタであり、
   前記接触監視手段において、前記表示光出射面への接触の有無を判定する判定回路が、前記薄膜トランジスタを構成する複数の薄膜のうちの１乃至複数の薄膜により形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の入力機能付き表示装置。

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