JP2008078366A - ネガ型現像装置とポジ型現像装置を並列した現像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1)現像装置がネガ型現像装置60Nとポジ型現像装置60Pで構成され、2)露光装置からネガ型現像装置或いはポジ型現像装置へ基板を移載する振り分け移載機構R1、3)ネガ型現像装置或いはポジ型現像装置からポストベーク装置へ基板を移載する振り戻し移載機構、4)振り分け移載機構及び振り戻し移載機構R2を制御する制御機構を具備する。
【選択図】図3
Description
図1は、フォトリソグラフィ法によりパターンを形成する製造ラインの一例の構成の概略を示す説明図である。
図1に示すように、一例として示すフォトリソグラフィ法によりパターンを形成する製造ラインは、洗浄装置(1)、塗布装置(2)、減圧乾燥装置(3)、プリベーク装置(4)、露光装置(5)、現像装置(6)、ポストベーク装置(7)が順次に設けられたものである。
フォトリソグラフィ法によりパターンを形成する際に用いるフォトレジストは、ネガ型フォトレジストとポジ型フォトレジストに大別されるが、あるネガ型フォトレジストには、そのネガ型フォトレジストに対応した成分の現像液が用いられ、また、あるポジ型フォトレジストには、そのポジ型フォトレジストに対応した成分の現像液が用いられる。
しかし、例えば、ネガ型フォトレジストを用いてパターンを形成する作業と、ポジ型フォトレジストを用いてパターンを形成する作業とを混在して行う場合には、すなわち、製造ライン中の一基の現像装置にて、異なった2種の成分の現像液を使用する場合には、その都度現像液を切替えてパターンの形成作業を行うことになる。
特に、ネガ型フォトレジストに対応した現像液からポジ型フォトレジストに対応した現像液に切替えた場合、ネガ型用の現像液に含有する成分が少量でも残留し、ポジ型用の現像液に混入すると、その影響は顕著であり、線幅、膜厚、シミ・ムラなどの品質に与える影響は大きい。
1)前記現像装置が、ネガ型現像装置及びその現像液供給系と、該ネガ型現像装置と並列に設けられたポジ型現像装置及びその現像液供給系とで構成され、
2)前記露光装置からネガ型現像装置へ基板を移載、或いは露光装置からポジ型現像装置へ基板を移載する振り分け移載機構、
3)前記ネガ型現像装置からポストベーク装置へ基板を移載、或いはポジ型現像装置からポストベーク装置へ基板を移載する振り戻し移載機構、
4)上記振り分け移載機構、及び振り戻し移載機構を制御する制御機構を具備することを特徴とするネガ型現像装置とポジ型現像装置を並列した現像装置である。
A)1)前記露光装置はパターン露光後の基板を受け渡すための受け渡し部(53)を有し、
2)前記ネガ型現像装置は現像処理を行う基板を受け取るための受け取り部(62N)及び現像処理後の基板を受け渡すための受け渡し部(63N)を有し、
3)前記ポジ型現像装置は現像処理を行う基板を受け取るための受け取り部(62P)及び現像処理後の基板を受け渡すための受け渡し部(63P)を有し、
4)前記ポストベーク装置は加熱処理を行う基板を受け取るための受け取り部(72)を有し、
B)1)上記露光装置の受け渡し部(53)と、ネガ型現像装置の受け取り部(62N)及びポジ型現像装置の受け取り部(62P)の間の基板の搬送方向(直線上)(X)上には、前記振り分け移載機構(R1)が配置され、
2)上記ネガ型現像装置の受け渡し部(63N)及びポジ型現像装置の受け渡し部(63P)と、ポストベーク装置の受け取り部(72)の間の基板の搬送方向(直線上)(X)上には、前記振り戻し移載機構(R2)が配置され、
C)1)上記ネガ型現像装置の受け取り部(62N)及びポジ型現像装置の受け取り部(62P)は、振り分け移載機構(R1)の位置で基板の搬送方向(直線上)(X)上と直交する方向(Y)に位置し、
2)上記ネガ型現像装置の受け渡し部(63N)及びポジ型現像装置の受け渡し部(63P)は、振り戻し移載機構(R2)の位置で基板の搬送方向(直線上)(X)上と直交する方向(Y)に位置することを特徴とするネガ型現像装置とポジ型現像装置を並列した現像装置である。
本発明による現像装置は、ネガ型フォトレジストを用いた際に、パターン露光されたネガ型フォトレジスト膜を現像するネガ型現像装置と、ポジ型フォトレジストを用いた際に、パターン露光されたポジ型フォトレジスト膜を現像するポジ型現像装置とで構成されている。ネガ型現像装置とポジ型現像装置は並列して設けられた現像装置である。
従って、1基の現像装置であって、ネガ型フォトレジストを用いたパターンを形成する際の現像処理と、ポジ型フォトレジストを用いたパターンを形成する際の現像処理を効率よく行うことができる現像装置である。
現像装置(60)は、ネガ型現像装置(60N)とポジ型現像装置(60P)で構成されている。
ネガ型現像装置(60N)内での基板の搬送方向(XN)及びポジ型現像装置(60P)内での基板の搬送方向(XP)は、上記直線(搬送方向(X))と平行であり、且つ、上記直線(搬送方向(X))を対称軸として、図3中、上下に対称する位置に配置されている。
尚、ネガ型現像装置(60N)とポジ型現像装置(60P)には、各々、現像液タンク、送液ポンプ、及び送液配管で構成される、ネガ型現像液供給系(80N)とポジ型現像液供給系(80P)が接続されており、各々にネガ型現像液或いはポジ型現像液が供給されるようになっている。
また、振り分け移載機構(R1)、及び振り戻し移載機構(R2)を制御する制御機構(図示せず)が設けられている。
ベーク装置の受け取り部(72)の間の上記直線上には、振り戻し移載機構(R2)として第二ロボット(例えば、円筒座標型ロボット)が配置されている。
受け取り部(62N)及び受け取り部(62P)は、振り分け移載機構(R1)の位置で上記直線(搬送方向(X))と直交する方向(Y)に位置している。
また、受け渡し部(63N)及び受け渡し部(63P)は、振り戻し移載機構(R2)の位置で上記直線(搬送方向(X))と直交する方向(Y)に位置している。
ポストベーク装置(70)においてポストベーク処理が施され、基板上に所望するパターンが形成される。
これにより、露光装置(50)以前の各装置にて各処理が施された基板上には所望するポジ型フォトレジストを用いたパターンが形成される。
パターン形成用のポジ型フォトレジストの塗布膜が設けられた基板は、露光装置(50)におけるパターン露光後に、第一ロボット(R1)によってポジ型現像装置(60P)へ
移載される。ポジ型現像装置(60P)における現像処理後に、基板は第二ロボット(R2)によってポストベーク装置(70)へ移載され、ポストベーク装置(70)によってポストベーク処理が施される。
2・・・塗布装置
3・・・減圧乾燥装置
4・・・プリベーク装置
5、50・・・露光装置
6・・・現像装置
7、70・・・ポストベーク装置
8・・・現像液供給系
8−1、81N、81P・・・現像液タンク
8−2、82N、82P・・・送液ポンプ
8−3、83N、83P・・・送液配管
51・・・露光装置本体
53・・・露光装置の受け渡し部
60・・・本発明による現像装置
60N・・・ネガ型現像装置
60P・・・ポジ型現像装置
61N・・・ネガ型現像装置本体
61P・・・ポジ型現像装置本体
62N・・・ネガ型現像装置の受け取り部
62P・・・ポジ型現像装置の受け取り部
63N・・・ネガ型現像装置の受け渡し部
63P・・・ポジ型現像装置の受け渡し部
71・・・ポストベーク装置本体
72・・・ポストベーク装置の受け取り部
80N・・・ネガ型現像液供給系
80P・・・ポジ型現像液供給系
R1・・・振り分け移載機構(第一ロボット)
R2・・・振り戻し移載機構(第二ロボット)
X・・・基板の搬送方向
XN・・・ネガ型現像装置内での基板の搬送方向
XP・・・ポジ型現像装置内での基板の搬送方向
Claims (2)
- 少なくとも洗浄装置、塗布装置、プリベーク装置、露光装置、現像装置、ポストベーク装置が、この順序に設けられ、複数の基板を順次に水平に上記洗浄装置へ搬送し、上記各装置にて順次に搬送される基板上に各処理を連続して行いパターンを形成する製造ラインの上記現像装置において、
1)前記現像装置が、ネガ型現像装置及びその現像液供給系と、該ネガ型現像装置と並列に設けられたポジ型現像装置及びその現像液供給系とで構成され、
2)前記露光装置からネガ型現像装置へ基板を移載、或いは露光装置からポジ型現像装置へ基板を移載する振り分け移載機構、
3)前記ネガ型現像装置からポストベーク装置へ基板を移載、或いはポジ型現像装置からポストベーク装置へ基板を移載する振り戻し移載機構、
4)上記振り分け移載機構、及び振り戻し移載機構を制御する制御機構を具備することを特徴とするネガ型現像装置とポジ型現像装置を並列した現像装置。 - 請求項1記載のネガ型現像装置とポジ型現像装置を並列した現像装置において、
A)1)前記露光装置はパターン露光後の基板を受け渡すための受け渡し部(53)を有し、
2)前記ネガ型現像装置は現像処理を行う基板を受け取るための受け取り部(62N)及び現像処理後の基板を受け渡すための受け渡し部(63N)を有し、
3)前記ポジ型現像装置は現像処理を行う基板を受け取るための受け取り部(62P)及び現像処理後の基板を受け渡すための受け渡し部(63P)を有し、
4)前記ポストベーク装置は加熱処理を行う基板を受け取るための受け取り部(72)を有し、
B)1)上記露光装置の受け渡し部(53)と、ネガ型現像装置の受け取り部(62N)及びポジ型現像装置の受け取り部(62P)の間の基板の搬送方向(直線上)(X)上には、前記振り分け移載機構(R1)が配置され、
2)上記ネガ型現像装置の受け渡し部(63N)及びポジ型現像装置の受け渡し部(63P)と、ポストベーク装置の受け取り部(72)の間の基板の搬送方向(直線上)(X)上には、前記振り戻し移載機構(R2)が配置され、
C)1)上記ネガ型現像装置の受け取り部(62N)及びポジ型現像装置の受け取り部(62P)は、振り分け移載機構(R1)の位置で基板の搬送方向(直線上)(X)上と直交する方向(Y)に位置し、
2)上記ネガ型現像装置の受け渡し部(63N)及びポジ型現像装置の受け渡し部(63P)は、振り戻し移載機構(R2)の位置で基板の搬送方向(直線上)(X)上と直交する方向(Y)に位置することを特徴とするネガ型現像装置とポジ型現像装置を並列した現像装置。
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