JP4485286B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
2 CO2洗浄モジュール
3 剥離処理モジュール
4 水洗モジュール
11 制御部
15 ジョブ管理部
21 基板搬送ローラ
22 吐出スプレー
23 基板到着検知センサ
24 洗浄水タンク
25 圧送ポンプ
26 供給バルブ
27 貯蔵部
31 基板搬送ローラ
32 上流側基板検知センサ
41 基板搬送ローラ
42 下流側基板検知センサ
G1 基板
G2 基板
Claims (4)
- 剥離液による剥離処理後の基板に洗浄液を供給する供給機構と、この供給機構に純水を送液する手段と、この送液される純水に二酸化炭素を溶解させるか否かを切り換える溶解機構とを有し、前記洗浄液として純水又は当該純水に二酸化炭素が溶解されたもののいずれかを前記基板に供給して当該基板を洗浄する洗浄モジュールを備える基板処理装置であって、
基板を所定速度で搬送することにより当該基板を前記洗浄モジュールに対して搬入及び搬出する搬送手段と、
前記洗浄モジュールに次に搬入される基板を検知する上流側基板検知手段と、
この上流側基板検知手段により基板が検知されたときに、当該基板の洗浄処理に純水に二酸化炭素が溶解されたものを用いるか否かを、当該基板の処理内容を示すレシピデータに基づいて判断する第1判断手段と、
前記洗浄モジュールにおいて純水又は純水に二酸化炭素が溶解されたもののいずれが前記供給機構により供給されているかを判断する第2判断手段と、
前記第1、第2判断手段による判断結果に基づいて前記溶解機構を制御する制御手段とを備えており、
前記制御手段は、前記第1判断手段によって基板の洗浄に純水を用いると判断され、かつその時点で前記洗浄モジュールにおいて先行する基板に対して純水に二酸化炭素が溶解されたものが供給されていると前記第2判断手段により判断された第1の処理状況では、当該先行する基板に対する洗浄処理が完了した後、純水への二酸化炭素の溶解を停止させるべく前記溶解機構を制御する一方、前記第1判断手段によって基板の洗浄に純水に二酸化炭素が溶解されたものを用いると判断され、かつその時点で前記洗浄モジュールにおいて先行する基板に対して純水が供給されていると前記第2判断手段により判断された第2の処理状況では、前記上流側基板検知手段による基板の検知後、純水に二酸化炭素を溶解させるべく前記溶解機構を制御し、
前記上流側基板検知手段は、前記第2の処理状況における基板検知後、前記洗浄モジュールに当該基板が到達するまでの時間が、前記基板検知後、純水に二酸化炭素が溶解されたものの供給が前記供給機構により実質的に開示されるまでの時間以上となる位置において基板を検知することを特徴とする基板処理装置。 - 前記制御手段は、前記第1判断手段により基板の洗浄に純水を用いると判断され、かつ、その時点で純水に二酸化炭素が溶解されたものが基板に対して供給されていないと前記第2判断手段により判断された場合であって、前記溶解機構によって純水に二酸化炭素が溶解されているときには、当該溶解機構による純水への二酸化炭素の溶解を即座に停止させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御手段は、前記第1判断手段によって純水に二酸化炭素を溶解させたものを基板の洗浄に用いると判断され、かつ、その時点において前記溶解機構によって純水に二酸化炭素が溶解されていないときには、当該溶解機構による純水への二酸化炭素の溶解を即座に開始させることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記洗浄モジュールから基板が搬出されたことを検知する下流側基板検知手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記下流側基板検知手段による検出結果に基づいて、前記洗浄モジュールでの先行する基板に対する洗浄処理が完了したか否かを判断することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。
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JP2002141269A (ja) * | 2000-11-01 | 2002-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
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