JP2008071930A - 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【手段】有機EL表示パネルは、第1及び第2電極並びに第1及び第2電極間に挟持された有機機能層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子と、有機エレクトロルミネッセンス素子を担持する基板と、基板に形成された配線電極と、を有する有機EL表示パネルであって、有機機能層は、互いに積層された機能有機膜と導電性有機材料からなる抵抗結合有機膜とを含み、抵抗結合有機膜は第2電極及び配線電極間にまで延在した接続部を有する。
【選択図】 図2
Description
前記有機機能層は、互いに積層された機能有機膜と導電性有機材料からなる抵抗結合有機膜とを含み、
前記抵抗結合有機膜は前記第2電極及び前記配線電極間にまで延在した接続部を有することを特徴とする。
前記有機機能層は互いに積層された機能有機膜と導電性有機材料からなる抵抗結合有機膜とを含み、前記抵抗結合有機膜が前記第2電極及び前記配線電極間にまで延在した接続部を形成する接続部形成工程を含み、
接続部形成工程は、前記機能有機膜と前記抵抗結合有機膜とを異なるパターンで形成する機能有機膜及び抵抗結合有機膜形成工程と、前記抵抗結合有機膜及び前記第2電極を、前記配線電極の一部に重なるような接続部パターンで形成する工程と、前記第2電極をマスクにして、前記抵抗結合有機膜をエッチングする工程を含むことを特徴とする。
図7は基板10上にマトリクス状に配置された複数の有機EL素子を備えたパッシブ駆動型有機EL表示パネルの部分拡大背面図である。
実施例1として、パッシブ駆動型有機EL表示パネルを作製した。
実施例2として、アクティブ駆動型有機EL表示パネルを作製した。
有機EL表示パネルにおいて、第2電極15及び配線電極19間の接続部Cnの抵抗は、低ければ低い方がよい。実施形態2として、接続部Cnの抵抗を低くするために、抵抗結合有機膜141の接続部Cnに関わる部分の抵抗を低くする低抵抗構造を実施形態1に付加する。
図29に示すように、接続部Cnを抵抗結合有機膜141と低抵抗金属膜LRFの2層構造、言い換えれば、配線電極19を、第1電極13材料/低抵抗金属の2層構造としてもよい。この場合、接続部のための低抵抗金属を成膜する成膜工程を設けて全体として接続部の合計のシート抵抗ρ/dを低くできる。
さらに、低抵抗構造として抵抗結合有機膜141の少なくとも接続部Cnに、部分的に比抵抗が低い材料部分となる構造を用いることができる。たとえば、図10〜図12に示す工程の間に図30に示す工程を加えて、抵抗結合有機膜141を形成後インクジェットノズルを用いて部分的に接続部Cnに比抵抗を低くするドーパントの溶液を塗布し乾燥拡散させることで実現可能である。この場合、接続部のためのたとえば金属ナノ粒子をドープする成膜工程を設けて全体として接続部のシート抵抗を低くできる。かかるドーピング処理が低抵抗化処理工程である。かかるドーパントは、抵抗結合有機膜141の第1材料の電気抵抗値よりも低い電気抵抗値を有する第2材料である。
また、低抵抗構造は、接続部Cnに対応する配線電極19の部分を予めパターニングして表面に凹凸を設けることにより、実現できる。たとえば、図10〜図12に示す工程の間に図32に示す工程を加えて、配線電極19凹凸表面の上に形成された接続部Cnの抵抗結合有機膜141は凹凸となり、その表面積が大きくなると同時に、凹凸の角部で抵抗結合有機膜141膜厚が部分的に薄くなり、接続抵抗を低くできる。なお、配線電極19の接続部Cn部分の凹凸は多層にしてもよい。凹凸の高低差は低抵抗化のために、抵抗結合有機膜141の膜厚の1/2以上が望ましく、さらに該膜厚以上であるとより好ましい。
さらに、低抵抗構造は、抵抗結合有機膜形成工程の後工程でのレーザ光照射などで形成することができる。すなわち、低抵抗構造は、図34に示すように、抵抗結合有機膜141を形成後、抵抗結合有機膜の接続部Cnにレーザ光を照射し、図35に示すように、抵抗結合有機膜141に凹凸を作ること、あるいは、図36に示すように、抵抗結合有機膜141を部分的に除去することで実現できる。そうすれば、図37および図38に示すように、本実施形態では、接続部Cnの抵抗結合有機膜141に部分的に第2電極15及び第1電極13が短絡しより低い抵抗値の領域を形成した以外、図2の構造と同一の構造を有することができる。
また、図39に示すように、第2電極15の形成後に、接続部Cnの第2電極15の上からレーザ光を照射すると、この部分で、第2電極15、抵抗結合有機膜141及び第1電極13が一旦溶解して接合箇所が連続性を持つように再度固化し、両者を融合させ、図40に示すように、接続部Cnを介して溶接状態となり、低抵抗化が達成できる。
13 第1電極
14 有機機能層
15 第2電極
16 封止膜
19 配線電極
141 抵抗結合有機膜
142 機能有機膜
Claims (16)
- 第1及び第2電極並びに前記第1及び第2電極間に挟持された有機機能層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を担持する基板と、前記基板に形成された配線電極と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示パネルであって、
前記有機機能層は、互いに積層された機能有機膜と導電性有機材料からなる抵抗結合有機膜とを含み、
前記抵抗結合有機膜は前記第2電極及び前記配線電極間にまで延在した接続部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。 - 前記第2電極と前記抵抗結合有機膜が略同一のパターンで形成されたことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 前記機能有機膜が、前記第2電極よりも狭い領域に形成されたことを特徴とする請求項1又は2記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 前記接続部の前記抵抗結合有機膜の膜厚方向の抵抗値が1kΩ以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 前記接続部における前記抵抗結合有機膜の比抵抗が、前記有機機能層における前記抵抗結合有機膜の比抵抗に比べて小さいことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 前記接続部における前記抵抗結合有機膜の表面粗さが、前記有機機能層における前記抵抗結合有機膜に比べて大きいことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 前記接続部における前記抵抗結合有機膜の膜厚が、前記有機機能層における前記抵抗結合有機膜に比べて小さいことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 前記接続部において、前記配線電極はパターン化され凹凸が形成されたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。
- 第1及び第2電極並びに前記第1及び第2電極間に挟持された有機機能層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を担持する基板と、前記基板に形成された配線電極と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法であって、
前記有機機能層は互いに積層された機能有機膜と導電性有機材料からなる抵抗結合有機膜とを含み、前記抵抗結合有機膜が前記第2電極及び前記配線電極間にまで延在した接続部を形成する接続部形成工程を含み、
接続部形成工程は、前記機能有機膜と前記抵抗結合有機膜とを異なるパターンで形成する機能有機膜及び抵抗結合有機膜形成工程と、前記抵抗結合有機膜及び前記第2電極を、前記配線電極の一部に重なるような接続部パターンで形成する工程と、前記第2電極をマスクにして、前記抵抗結合有機膜をエッチングする工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。 - 前記機能有機膜を形成する工程が、前記第2電極よりも狭い領域に前記機能有機膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項9記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
- 前記配線電極上に形成した前記抵抗結合有機膜の少なくとも一部を、低抵抗化する工程を含むことを特徴とする請求項9または請求項10記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
- 低抵抗化工程が、前記抵抗結合有機膜にドーパントを添加する工程であることを特徴とする請求項11記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
- 前記ドーパントを添加する工程が、ドーパントを含む溶液を塗布する工程であることを特徴とする請求項12記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
- 低抵抗化工程が、前記抵抗結合有機膜の表面に凹凸を設ける工程であることを特徴とする請求項11記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
- 前記凹凸を設ける工程が、光照射によって行われる工程であることを特徴とする請求項14記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
- 前記配線電極上に形成した前記第2電極に光を照射する溶接工程を含むことを特徴とする請求項9又は10記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
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