JP2008063660A - ピストンを電気めっきでコーティングするための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】保持装置が実質的に皿状に形成され、内室の底に配置されており、保持装置の中央に、縦長に形成されたセンタリング装置が配置されており、該センタリング装置の長手方向軸線が、保持装置の平面に対して平行に位置し、かつセンタリング装置の長さが、ピストンの、スカートエレメントの領域における半径方向の内径に等しく、その結果、ピストンが、そのピストントップとは反対の側で、センタリング装置に被せ嵌め可能であり、該センタリング装置の長手方向軸線がその際ピン孔の軸線に対して垂直に、かつピストンのピストン軸線に対して垂直に位置するようになっており、かつカバーが保持装置の半径方向外側の縁部に固定されているようにした。
【選択図】図1
Description
−ピストンおよび電解液を受容するためのポット状の内室と、
−ピストンを固定するための保持装置と、
−シェード状に形成され、ピストンの近傍に配置され、かつピストンのコーティングしたい面だけを被覆しないカバーと、
−一方では電解液内に沈められたアノードに電気的に接続され、他方では直流電圧源のプラス極に電気的に接続されている第1の電気的なコンタクトと、
−一方ではピストンに電気的に接続され、他方では直流電圧源のマイナス極に電気的に接続されている第2の電気的なコンタクトと
が設けられている形式のものに関する。
−保持装置が実質的に皿状に形成され、内室の底に配置されており、
−保持装置の中央に、縦長に形成されたセンタリング装置が配置されており、該センタリング装置の長手方向軸線が、保持装置の平面に対して平行に位置し、かつセンタリング装置の長さが、コーティングしたいピストンの、スカートエレメントの領域における半径方向の内径に等しく、その結果、コーティングしたいピストンが、そのピストントップとは反対の側で、センタリング装置に被せ嵌め可能であり、該センタリング装置の長手方向軸線がその際ピン孔の軸線に対して垂直に、かつコーティングしたいピストンのピストン軸線に対して垂直に位置するようになっており、かつ
−カバーが保持装置の半径方向外側の縁部に固定されている、
ようにした。
1′ 装置1の上側の端面
2 ピストン
3 内室
4 内室の外側の壁
5 アノード
6 内室3の底
7 保持装置
8,8′ カバー
9,9′ ピン孔10,10′の外側の開口
10,10′ ピン孔
11,11′ 外面
12,12′ スカートエレメント
13 ピストン2のリング部
14 ピストン2のトップランド
15 第1の電気的なコンタクト
16 第2の電気的なコンタクト
17 供給開口
18 供給通路
19,20 側方通路
21,22 流入開口
23 内室の縁部
24,25 排出通路
26 ピストントップ
27 センタリング装置
28 カバー8,8′の外縁
29 ピストン軸線
Claims (6)
- ピストントップ(26)と、該ピストントップ(26)に一体成形されたスカートエレメント(12,12′)と、2つのピン孔(10,10′)とを備えたピストン(2)を電気めっきでコーティングするための装置(1)であって、
−ピストン(2)および電解液を受容するためのポット状の内室(3)と、
−ピストン(2)を固定するための保持装置(7)と、
−シェード状に形成され、ピストンの近傍に配置され、かつピストン(2)のコーティングしたい面だけを被覆しないカバー(8,8′)と、
−一方では電解液内に沈められたアノード(5)に電気的に接続され、他方では直流電圧源のプラス極に電気的に接続されている第1の電気的なコンタクト(15)と、
−一方ではピストン(2)に電気的に接続され、他方では直流電圧源のマイナス極に電気的に接続されている第2の電気的なコンタクト(16)と
が設けられている形式のものにおいて、
−保持装置(7)が実質的に皿状に形成され、内室(3)の底に配置されており、
−保持装置(7)の中央に、縦長に形成されたセンタリング装置(27)が配置されており、該センタリング装置(27)の長手方向軸線が、保持装置(7)の平面に対して平行に位置し、かつセンタリング装置(27)の長さが、コーティングしたいピストン(2)の、スカートエレメント(12,12′)の領域における半径方向の内径に等しく、その結果、コーティングしたいピストン(2)が、そのピストントップとは反対の側で、センタリング装置(27)に被せ嵌め可能であり、該センタリング装置(27)の長手方向軸線がその際ピン孔(10,10′)の軸線に対して垂直に、かつコーティングしたいピストン(2)のピストン軸線(29)に対して垂直に位置するようになっており、かつ
−カバー(8,8′)が保持装置(7)の半径方向外側の縁部に固定されている
ことを特徴とする、ピストンを電気めっきでコーティングするための装置。 - 保持装置(7)が、電気伝導性の材料から成っており、第2の電気的なコンタクト(16)に電気的に接続されており、その結果、保持装置(7)に固定され、保持装置(7)と電気的に接触しているピストン(2)が、やはり第2の電気的なコンタクト(16)に電気的に接続されている、請求項1記載の装置。
- アノード(5)が円筒形に形成されており、内室(3)の半径方向外側の壁に配置されている、請求項1または2記載の装置。
- アノード(5)が、白金めっきされたチタンから成っている、請求項1から3までのいずれか1項記載の装置。
- 内室(3)の底が流入開口(21,22)を有しており、該流入開口(21,22)が、電解液を供給するための通路(18,19,20)に接続されている、請求項1から4までのいずれか1項記載の装置。
- 流入開口(21,22)が、ピストン(2)のコーティングしたい面の半径方向外側でその近傍に配置されている、請求項5記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006042049A DE102006042049A1 (de) | 2006-09-05 | 2006-09-05 | Vorrichtung zum galvanischen Beschichten eines Kolbens |
DE102006042049.7 | 2006-09-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008063660A true JP2008063660A (ja) | 2008-03-21 |
JP5134892B2 JP5134892B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=38989719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007229260A Expired - Fee Related JP5134892B2 (ja) | 2006-09-05 | 2007-09-04 | ピストンを電気めっきでコーティングするための装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7964069B2 (ja) |
JP (1) | JP5134892B2 (ja) |
DE (1) | DE102006042049A1 (ja) |
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JP2022054758A (ja) * | 2020-09-28 | 2022-04-07 | 日立Astemo株式会社 | ロッドの製造方法およびロッドの製造装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10520006B1 (en) * | 2017-08-07 | 2019-12-31 | Jimmie Sauseda | Fastener protection caps and methods |
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-
2006
- 2006-09-05 DE DE102006042049A patent/DE102006042049A1/de not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-08-30 US US11/897,473 patent/US7964069B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-04 JP JP2007229260A patent/JP5134892B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP7458952B2 (ja) | 2020-09-28 | 2024-04-01 | 日立Astemo株式会社 | ロッドの製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE102006042049A1 (de) | 2008-03-06 |
JP5134892B2 (ja) | 2013-01-30 |
US7964069B2 (en) | 2011-06-21 |
US20080053824A1 (en) | 2008-03-06 |
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A621 | Written request for application examination |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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