JP2008051699A - 有機薄膜の膜厚測定装置及び有機薄膜形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、少なくとも成膜中に構造体に所定の波長の照射光を投光する手段、照射光に対する構造体からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及び反射光強度又は透過光強度に基づいて有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、所定の波長が、有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下、好ましくは10%以下、の吸光度を与える波長範囲に含まれるようにした。
【選択図】図1
Description
このように作製される有機EL素子は、各有機薄膜32〜34を、正孔輸送層、発光層、電子輸送層として機能させ、透明導電膜31に正電圧、電極35に負電圧を印加すると、透明電極から注入された正孔と陰極から注入された電子が有機薄膜33に到達して、電子と正孔の再結合が行われ、そのとき、電気エネルギーが光エネルギーに変換されて有機発光層から光が放出され、ガラス基板30を透過したEL光37が外部に放射される。
特に本発明で成膜される薄膜は有機ELなどに用いるものであり、赤、青及び緑の3色の発光色に関連する多層薄膜を成膜する場合にも対応しなければならないので、この課題への対処は重要である。
またさらに、別の問題として、成膜中の構造体に励起光を照射して蛍光を発光させることによる構造体の劣化が懸念される。原理上明確ではないが、一度励起させた構造体においては、膜厚を正確に制御できたとしても、構造体の膜厚以外の特性について所望の化学的性能又は有機ELとしての所望の発光特性を得られない場合があった。
本発明の第1の側面は、構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、少なくとも成膜中に構造体に所定の波長の照射光を投光する手段、照射光に対する構造体からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及びその反射光強度又は透過光強度に基づいて有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、所定の波長が、有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下、好ましくは10%以下、の吸光度を与える波長範囲に含まれるようにした。
さらに、照射光の吸収が起こらない波長を用いているので、膜厚が増加しても反射率の減衰がなく(又は少なく)、例えば多層膜を形成した結果膜厚が大きくなっても正確に膜厚測定を行うことができる。これより、膜厚が大きい場合でも高い成膜精度を得ることができる。
従って、複数の有機物を用いて比較的厚みが大きい多層膜を成膜する場合に本発明は特に有用である。また、有機物を励起させないので蛍光による構造物の劣化を回避できる。
なお、ここでいう時系列変化とは、予め設定された蒸着速度に、蒸着開始からの経過時間を乗じて得られたパラメータに対する入射光強度の変化のことをいう。同様に、理論値とは、上記パラメータに基づいて算出又は参照される入射光強度の値である。
本発明では構造体に照射する光の波長は、吸収を起こさない帯域で選択される。より具体的には、照射光の波長を、有機物の吸収スペクトルにおいて吸光度のピーク値に対して所定値以下の吸光度を与える波長範囲に含まれるように選択する。
なお、図3又は図4で示す反射率の数値(%)は測定の便宜のため適宜スケーリングしたものであり、グラフ中での相対値を示すものである。以降の反射率を示す各グラフについても同様である。
表2及び表3に、それぞれα−NPD及びAlq3+DCM10%の場合の照射光の波長、吸光度のピークに対する割合、及びその評価を示す。なお、評価の基準は先に示した表1と同様である。
なお、上記実施例において、選択する照射光波長の上限は可視光の範囲、即ち、約800nm以下であればよい。
δ=(2π/λ)nmdとした場合、
膜厚dに対する反射率R(d)は、
R(d)=1−4nm 2ng/{nm 2(1+ng)2+(1−nm)2(ng 2−nm 2)Sin2δ}
と表せることが知られている。
上式から分かるように、膜厚dの増加に対して単層膜の反射率R(d)の振幅は減衰することはない。
ここで、多層膜の反射率は各単層の反射率R(d)に対応する四端子行列の積で表されることから、多層膜においても、層数又は膜厚dの増加に対して反射率の振幅は減衰することはない。また、わずかに吸収があり反射率に減衰的な要素が加わったとしても上式が支配的である範囲であれば、ほとんど減衰しない関数を得ることができる。
2.基板
3.基板ホルダ
4.有機蒸発源
5.有機蒸発材料
6.マスク
7.シャッター
8.Y分岐形状光ファイバ
9、10.光ファイバ
11.Y分岐形状光ファイバ先端
12.光源
13.光検知器
14.コンピュータ
15.蒸着速度検出手段
16.制御装置
17.蒸気
30.ガラス基板
31.透明導電膜
32.正孔輸送層
33.発光層
34.電子輸送層
35.陰極金属
36.缶
37.EL光
Claims (7)
- 構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、少なくとも成膜中に該有機薄膜に所定の波長の照射光を投光する手段、該照射光に対する該有機薄膜からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及び該反射光強度又は該透過光強度に基づいて該有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、
該所定の波長が、該有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれることを特徴とする膜厚測定装置。 - 請求項1記載の膜厚測定装置において、さらに、前記所定の波長が、前記吸光度のピーク値に対して10%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれることを特徴とする膜厚測定装置。
- 請求項1又は請求項2記載の膜厚測定装置において、前記構造体に複数の有機物の層からなる有機薄膜が形成され、
前記所定の波長が、該複数の有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれることを特徴とする膜厚測定装置。 - 請求項3記載の膜厚測定装置において、さらに、前記所定の波長が、全ての該有機物の各吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して10%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれることを特徴とする膜厚測定装置。
- 有機薄膜形成装置であって、請求項1から請求項4いずれか一項に記載の膜厚測定装置、真空槽、該真空槽内部で有機物を蒸発させる1以上の蒸発源、及び該膜厚測定装置による測定結果に基づいて有機薄膜形成の終了タイミングを決定する制御手段からなる有機薄膜形成装置。
- 構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定方法であって、
投光手段によって成膜中に該構造体に所定の波長の照射光を投光するステップ、
受光手段によって該照射光に対する該構造体からの反射光強度又は透過光強度を検出するステップ、及び
該受光手段に接続されたコンピュータによって、該受光手段によって検出された反射光強度又は透過光強度、及び該コンピュータに予め記憶した反射光強度又は透過光強度と膜厚との関係の理論値に基づいて、該有機薄膜の膜厚を特定するステップ
からなり、該所定の波長が、該有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれるように選択されることを特徴とする膜厚測定方法。 - 請求項6記載の膜厚測定方法において、さらに、前記所定の波長が、該吸光度のピーク値に対して10%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれるように選択されることを特徴とする膜厚測定方法。
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