JP2008049244A - 排ガス処理設備及び排ガス処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、上記従来技術の有する問題点に鑑みて、適正な性能の薬剤供給手段を用いて、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理設備及び排ガス処理方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明に係る排ガス処理方法は、排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理方法であって、第１の集塵手段２の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、第１の集塵手段２の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、第１の集塵手段２と直列に配置された第２の集塵手段３の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、当該薬剤供給量を制御することを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は排ガス処理設備と排ガス処理方法に関し、詳しくは、ゴミ焼却時などに発生する排ガス中の例えば、酸性ガス成分の無害化処理を乾式で行う排ガス処理設備と排ガス処理方法に関する。

ゴミ焼却処理施設などにおいて設けられている排ガス処理設備は、焼却によって生じる排ガスに、ＨＣｌ，ＳＯｘなどの酸性ガスからなる有害成分が含まれているため、これらを除去してから大気に放出するようにしている。すなわち、排ガス中の酸性ガス成分は、粉体状の薬剤が吹き込まれた後、排ガス処理設備を構成するバグフィルタ等からなる集塵機により、塵芥などが除かれると同時に、中和・除去される。このように中和除去されて清浄化された排ガスは、誘引通風機により煙突から大気に放出される（特許文献１参照）

一般の廃棄物焼却設備では、排出される焼却残渣を無害化すると共に、リサイクルして最終処分量を低減するために、灰溶融を行なうことが好都合である。その場合、溶融に不適当な塩類（排ガス処理後の生成物）を溶融しないように、図２に示すように、２段の集塵装置（バグフィルター等）１０，１１を採用していることが多い。

すなわち、排ガス流路内において、１段目の集塵装置１０の上流側で活性炭及び助剤とを吹き込み、排ガス中のダイオキシン類を除去すると共に、除塵を行なう。そして、２段面の集塵装置１１の上流側で酸性成分を除去するための薬剤１２（消石灰、炭酸水素ナトリウム等）を吹き込み、排ガス中の酸性成分を中和除去する。１段目の集塵装置１０で補集された飛灰は、溶融燃焼設備などに送られて溶融処理される。２段目の集塵装置１１で捕集された反応生成物は、別途処理されて最終処分される。この場合、排ガス中の酸性成分（ＨＣＬ、ＳＯｘ）は、２段目の集塵装置１１の出口での濃度が設定値以下となるように、集塵装置１１の出口に設けられた酸性成分連続分析計１３による測定結果をフィードバックして、２段目の集塵装置１１の上流側で吹き込む薬剤の投入量を制御している。

特開２００２−３６１０４０号公報

しかしながら、焼却設備から排出される排ガス中の酸性成分の変動が大きく、そのため上記従来技術の方式では、薬剤供給量を酸性成分（例：ＨＣｌ）濃度の最大値で選定している。しかし、このように構成していても常に薬剤供給量が最大となることは少なく、通常の運転では、薬剤供給設備の供給能力の１０〜２０％程度といった低負荷運転となっているのが現状である。薬剤供給設備は、このような低負荷運転では、薬剤供給を安定して行なうことが困難である。供給量が不安定であれば、結果として過剰な薬剤の吹き込みとなり、薬剤供給量が過剰気味となり、問題である。しかも、使用する薬剤供給設備は過剰性能であり、消費エネルギーも大きく、改善の要請が強い。

そこで、本発明は、上記従来技術の有する問題点に鑑みて、適正な性能の薬剤供給手段を用いて、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理設備及び排ガス処理方法の提供を目的とする。

上記課題は、各請求項記載の発明により達成される。すなわち、本発明に係る排ガス処理方法は、排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理方法であって、
第１の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、第１の集塵手段の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、
第１の集塵手段と直列に配置された第２の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、当該薬剤供給量を制御することを特徴とする。

この構成による作用効果は以下のとおりである。すなわち、第１の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、第１の集塵手段の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、第１の集塵手段と直列に下流側に配置された第２の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第１の集塵手段の上流側に供給される薬剤の供給量を制御することができる。これによって、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理方法を提供することができる。

また、他の本発明に係る排ガス処理方法は、排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理方法であって、
第１の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、当該計画濃度が５０％になるように第１の集塵手段の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、
第１の集塵手段と直列に配置された第２の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の集塵手段の上流側に供給される薬剤の供給量を制御することを特徴とする。

この構成による作用効果は以下のとおりである。すなわち、第１の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、当該計画濃度が５０％になるように第１の集塵手段の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、第１の集塵手段と直列に下流側に配置された第２の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の集塵手段の上流側に供給される薬剤の供給量を制御することができる。これによって、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理方法を提供することができる。

また、上記発明の排ガス処理方法を実施するための好適な一実施形態の排ガス処理設備は、排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理設備であって、
第１の集塵手段と第２の集塵手段を直列に配置し、かつ
前記第１の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段と、
前記第２の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段と、
前記第１の集塵手段の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段と、
前記第２の集塵手段の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段と、
前記第１の薬剤供給手段及び第２の薬剤供給手段を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、第１の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、前記薬剤が供給されるように第１の薬剤供給手段を制御し、かつ、第２の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、当該第１の薬剤供給手段による薬剤供給量を制御することを特徴とする。

この構成による作用効果は以下のとおりである。すなわち、排ガス処理設備は、第１の集塵手段と第２の集塵手段を直列に配置している。第２の集塵手段は、第１の集塵手段の下流側に配置される。そして、第１の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段と、第２の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段と、第１の集塵手段の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段と、第２の集塵手段の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段と、第１の薬剤供給手段及び第２の薬剤供給手段を制御する制御手段とを有して構成される。そして、制御手段は、第１の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、薬剤が供給されるように第１の薬剤供給手段を制御し、かつ、第２の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、当該第１の薬剤供給手段による薬剤供給量を制御することができる。

これによって、適正な性能の薬剤供給手段を用いて、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理設備を提供することができる。さらに、安定供給ができるため、従来技術に比較して、薬剤使用量を低減することができる。
また、適正能力の薬剤供給手段を採用するので、運転動力を従来方式に比較して大幅に低減できる。また、この構成では、薬剤供給手段を２つ必要とするが、通常、上流側の第１の集塵手段には、薬剤を供給しないため、溶融対象物に混入する反応生成物を最小に抑えることが出来る。

上記の排ガス処理設備において、制御手段は、第１の薬剤供給手段によって薬剤が供給される場合に、第２の薬剤供給手段によって供給される薬剤の供給量が固定されるように第２の薬剤供給手段を制御することが好ましい実施態様である。

また、上記発明の排ガス処理方法を実施するための好適な一実施形態の排ガス処理設備は、排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理設備であって、
第１の集塵手段と第２の集塵手段を直列に配置し、かつ
前記第１の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段と、
前記第２の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段と、
前記第１の集塵手段の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段と、
前記第２の集塵手段の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段と、
前記第１の薬剤供給手段及び第２の薬剤供給手段を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、第１の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、第１の薬剤供給手段を制御して、当該計画濃度が５０％になるように前記薬剤を供給し、かつ、第２の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の薬剤供給手段による薬剤供給量を制御することを特徴とする。

この構成による作用効果は以下のとおりである。すなわち、排ガス処理設備は、第１の集塵手段と第２の集塵手段を直列に配置している。第２の集塵手段は、第１の集塵手段の下流側に配置される。そして、第１の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段と、第２の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段と、第１の集塵手段の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段と、第２の集塵手段の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段と、第１の薬剤供給手段及び第２の薬剤供給手段を制御する制御手段とを有して構成される。そして、制御手段は、第１の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、第１の薬剤供給手段を制御して、当該計画濃度が５０％になるように薬剤を供給し、かつ、第２の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の薬剤供給手段による薬剤供給量を制御することができる。

これによって、適正な性能の薬剤供給手段を用いて、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理設備を提供することができる。さらに、安定供給ができるため、従来技術に比較して、薬剤使用量を低減することができる。

また、適正能力の薬剤供給手段を採用するので、運転動力を従来方式に比較して大幅に低減できる。また、この構成では、薬剤供給手段を２つ必要とするが、通常、上流側の第１の集塵手段には、薬剤を供給しないため、溶融対象物に混入する反応生成物を最小に抑えることができる。また、薬剤供給手段の性能を従来方式と比較して５０％能力のものにできる。また、通常運転中でも薬剤供給手段を１台ずつメンテナンスが行なえる。

（実施形態１の排ガス処理方法及び排ガス処理設備）
本発明に係る実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る排ガス処理設備及び排ガス処理方法の概略について説明する図である。

本発明の排ガス処理方法は、排ガス処理経路１内に設けられた第１の集塵手段２の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、第１の集塵手段２の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、第１の集塵手段２と直列に下流側に配置された第２の集塵手段３の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第１の集塵手段２の上流側に供給される薬剤の供給量を制御することができる。

上記排ガス処理方法を実現する好適な排ガス処理設備の一例は、以下のとおりである。すなわち、排ガス処理設備は、第１の集塵手段２と第２の集塵手段３を直列に配置し、かつ、第２の集塵手段３は、第１の集塵手段２の下流側に配置される。第１，第２の集塵手段２，３は、例えば、公知のバグフィルタ等で実現される。

また、第１の集塵手段２の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段４が配置される。また、第２の集塵手段３の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段５が配置である。薬剤供給手段４，５は、公知の薬剤貯蓄タンク、薬剤輸送用の配管経路、吹き込み用送風機（又は空気輸送手段）、ダクト、定量供給装置、ダンパ等で構成できる。第１，第２の薬剤供給手段４，５は、後述する制御手段８によって制御され、薬剤供給の開始、停止等の制御、薬剤の一定量供給制御が可能に構成されている。

（薬剤）
また、本発明において、第１の集塵手段２の上流側に供給される薬剤は、ダイオキシン除去のための活性炭と助剤（例：ケイ素、アルミニウムが主成分）が例示される。また、第２の集塵手段３の上流側に供給される薬剤は、酸性ガス成分の除去のための、消石灰、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素ナトリウムを主成分とするBICAR（商品名）等が例示される。

また、第１の集塵手段２の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段６が配置される。また、第２の集塵手段３の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段７が配置される。第１の検出手段６は、所定ガス成分（例：ＨＣｌ）の濃度を検出するための公知の検出装置であれば特に制限されないが、特に、実質的にリアルタイム検出可能なレーザ式ＨＣｌ計が好ましい。レーザ式ＨＣｌ計の詳細は、特開２００２−３６１０４０号に記載されている。第２の検出手段７は、所定ガス成分（例：ＨＣｌ、ＳＯｘ）の濃度を検出するための公知の検出装置であれば特に制限されないが、例えば、連続分析計、レーザ式ガス分析計が例示され、特に、実質的にリアルタイム検出可能なレーザ式ガス分析計が好ましい。

また、第１及び第２の薬剤供給手段４，５を制御する制御手段８が設けられている。制御手段８は、ＣＰＵ（又はＭＰＵ）とメモリ等のハードウエア資源と各種制御プログラムの協働作用によって実現されてもよく、専用回路、ファームウエア、シーケンス回路等の単独、組合せ等で実現してもよい。

制御手段８は、第１の検出手段６によって検出された所定ガス成分（例：ＨＣｌ）の濃度値が所定値を超えた場合に、薬剤が供給されるように第１の薬剤供給手段４を制御し、かつ、第２の検出手段７によって検出された所定ガス成分（例：ＨＣｌ、ＳＯｘ）の濃度値が所定の範囲となるように、当該第１の薬剤供給手段４による薬剤供給量を制御する。

また、制御手段８は、第１の薬剤供給手段４によって薬剤が供給される場合に、第２の薬剤供給手段５によって供給される薬剤の供給量が固定されるように第２の薬剤供給手段５を制御することができる。第２の集塵手段３の上流側に供給される薬剤の供給量を固定することで、第１の集塵手段２の上流側に供給される薬剤の供給量を容易に制御でき、複雑なアルゴリズム、制御方法とならないので好ましい。

また、「第２の薬剤供給手段５によって供給される薬剤の供給量が固定される」という意味は、第１の薬剤供給手段４による供給が開始された時点での、第２の薬剤供給手段５による供給量をそのまま保つことを意味することに限定されず、適宜設定でき、つまり、第１の薬剤供給手段４が稼動している間、第２の薬剤供給手段５による供給量が一定であればよい。なお、「固定」及び「一定」は、個々の設備能力・性能に依存し、略固定、略一定というように許容範囲、誤差等を含む概念である。

（実施形態２の排ガス処理方法及び排ガス処理設備）
本発明に係る実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る排ガス処理設備及び排ガス処理方法の概略について説明する図である。

本発明の排ガス処理方法は第１の集塵手段２の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、当該計画濃度が５０％になるように第１の集塵手段２の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、第１の集塵手段２と直列に下流側に配置された第２の集塵手段３の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の集塵手段３の上流側に供給される薬剤の供給量を制御することができる。

上記排ガス処理方法を実現する好適な排ガス処理設備の一例は、以下のとおりである。すなわち、排ガス処理設備は、実施形態１と同様に、第１の集塵手段２、第２の集塵手段３、第１の薬剤供給手段４、第２の薬剤供給手段５、第１の検出手段６、第２の検出手段７、制御手段８を有して構成される。実施形態１と異なる実施形態２の特徴を中心に説明する。

制御手段８は、第１の検出手段６によって検出された所定ガス成分（例：ＨＣｌ）の濃度値が所定の計画濃度（例えば、ＨＣｌ濃度が最大１０００ｐｐｍで計画している設備）の５０％（５００ｐｐｍ）を超えた場合に、第１の薬剤供給手段４を制御して、当該計画濃度が５０％（５００ｐｐｍ）、又はその近傍になるように薬剤を供給し、かつ、第２の検出手段７によって検出された所定ガス成分（例：ＨＣｌ、ＳＯｘ）の濃度値が所定の範囲となるように、第２の薬剤供給手段５による薬剤供給量を制御することができる。「計画濃度」は、排ガス処理設備で処理可能な排ガスの最大濃度であり、この計画濃度によって設備の性能が決定され、選定される。

［実施例１］
第１、第２の集塵手段２，３として、バグフィルタを用いる。第１、第２の薬剤供給手段４，５は、同じ供給能力（同容量）のものを用いる。また、第１、第２の薬剤供給手段４，５は、排ガス処理能力の最大負荷の５０％に対応する供給能力である。第１の検出手段６は、ＨＣｌ検出のレーザ式分析計である。第２の検出手段７は、ＨＣｌ検出の連続分析計である。

運転開始すると、第２の検出手段７の検出濃度が所定の濃度範囲になるように、その検出濃度に従って制御手段８が第２の薬剤供給手段５を制御し、第２の集塵手段３の上流側にのみ、薬剤（例：消石灰、炭酸水素ナトリウム等）を供給する。この場合、第１の薬剤供給手段４は稼動していない。

そして、第１の検出手段６の検出濃度が所定値を超えた場合に（第２の薬剤供給手段５の薬剤供給装置の負荷が９０％を超えた時点に相当する場合に）、制御手段８は、第１の薬剤供給手段４を制御して、第１の集塵手段２の上流側に薬剤（例：活性炭、助剤等）の供給を開始し、第２検出手段７の検出濃度が所定の濃度範囲になるように、その薬剤供給量を制御する。そして、制御手段８は、第２の薬剤供給手段５による薬剤の供給量を、その時点による供給量に固定するように制御する。

［実施例２］
第１、第２の集塵手段２，３として、バグフィルタを用いる。第１、第２の薬剤供給手段５は、同じ供給能力（同容量）のものを用いる。また、第１、第２の薬剤供給手段４，５は、排ガス処理能力の最大負荷の５０％に対応する供給能力である。第１の検出手段６は、ＨＣｌ検出のレーザ式分析計である。第２の検出手段７は、ＨＣｌ検出の連続分析計である。計画濃度は最大１０００ｐｐｍである。

運転開始すると、第２の検出手段７の検出濃度が所定の濃度範囲になるように、その検出濃度に従って制御手段８が第２の薬剤供給手段５を制御し、第２の集塵手段３の上流側にのみ、薬剤（例：消石灰、炭酸水素ナトリウム等）を供給する。この場合、第１の薬剤供給手段４は稼動していない。

そして、第１の検出手段６の検出濃度が５００ｐｐｍを超えた場合に、制御手段８は、第１の薬剤供給手段４を制御して、第１の集塵手段２の上流側に薬剤（例：活性炭、助剤等）の供給を開始し、第１の検出手段６の検出濃度が５００ｐｐｍになるように、その薬剤供給量を制御する。そして、制御手段８は、第２の検出手段７の検出濃度が所定の濃度範囲になるように、第２の薬剤供給手段５による薬剤の供給量を制御する。

実施例１、２の結果、適正な性能の第１、第２の薬剤供給手段４，５を用いて、薬剤の安定供給を可能とする排ガス処理設備を提供することができた。さらに、安定供給ができるため、従来技術に比較して、薬剤使用量を低減することができた。また、適正能力の第１、第２の薬剤供給手段４，５を採用するので、運転動力を従来方式に比較して大幅に低減できた。また薬剤供給手段を２つ必要とするが、通常運転時には、上流側の第１の集塵手段２に薬剤を供給しないため、溶融対象物に混入する反応生成物を最小に抑えることができた。

＜別実施形態＞
上記実施形態１，２における第１の集塵手段２の上流側に薬剤を供給する第１の薬剤供給手段４を、従来方式の活性炭吹き込みライン共用することができる。かかる場合、設備コストを従来方式と同様に構成できるので好ましい。

排ガス処理設備の一例について説明する図 従来の排ガス処理設備ついて説明する図

符号の説明

１ 排ガス処理経路
２ 第１の集塵手段
３ 第２の集塵手段
４ 第１の薬剤供給手段
５ 第２の薬剤供給手段
６ 第１の検出手段
７ 第２の検出手段
８ 制御手段
１０、１１ バグフィルタ
１３ 連続分析計

Claims (5)

1. 排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理方法であって、
   第１の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、第１の集塵手段の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、
   第１の集塵手段と直列に配置された第２の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、当該薬剤供給量を制御する
   ことを特徴とする排ガス処理方法。
2. 排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理方法であって、
   第１の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、当該計画濃度が５０％になるように第１の集塵手段の上流側に所定の薬剤の供給を開始し、
   第１の集塵手段と直列に配置された第２の集塵手段の出口側の所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の集塵手段の上流側に供給される薬剤の供給量を制御する
   ことを特徴とする排ガス処理方法。
3. 排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理設備であって、
   第１の集塵手段と第２の集塵手段を直列に配置し、かつ
   前記第１の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段と、
   前記第２の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段と、
   前記第１の集塵手段の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段と、
   前記第２の集塵手段の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段と、
   前記第１の薬剤供給手段及び第２の薬剤供給手段を制御する制御手段とを有し、
   前記制御手段は、第１の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定値を超えた場合に、前記薬剤が供給されるように第１の薬剤供給手段を制御し、かつ、第２の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、当該第１の薬剤供給手段による薬剤供給量を制御する
   ことを特徴とする排ガス処理設備。
4. 前記制御手段は、
   第１の薬剤供給手段によって薬剤が供給される場合に、第２の薬剤供給手段によって供給される薬剤の供給量が固定されるように第２の薬剤供給手段を制御することを特徴とする請求項３に記載の排ガス処理設備。
5. 排ガス中の所定成分を処理する集塵手段を備える排ガス処理設備であって、
   第１の集塵手段と第２の集塵手段を直列に配置し、かつ
   前記第１の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第１の薬剤供給手段と、
   前記第２の集塵手段の上流側に、所定の薬剤を供給する第２の薬剤供給手段と、
   前記第１の集塵手段の出口側に所定ガス成分の濃度を検出する第１の検出手段と、
   前記第２の集塵手段の出口側に所定のガス成分の濃度を検出する第２の検出手段と、
   前記第１の薬剤供給手段及び第２の薬剤供給手段を制御する制御手段とを有し、
   前記制御手段は、第１の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の計画濃度の５０％を超えた場合に、第１の薬剤供給手段を制御して、当該計画濃度が５０％になるように前記薬剤を供給し、かつ、第２の検出手段によって検出された所定ガス成分の濃度値が所定の範囲となるように、第２の薬剤供給手段による薬剤供給量を制御する
   ことを特徴とする排ガス処理設備。

Images