JP2008041327A - マスクおよびマスクを使用した表示素子ならびにマスクを使用した表示素子の製造方法 - Google Patents

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011033624A1 (ja) 2009-09-16 2011-03-24 三菱電機株式会社 全熱交換素子
JP2013028835A (ja) * 2011-07-28 2013-02-07 Kyocera Crystal Device Corp 膜形成方法
WO2016158407A1 (ja) * 2015-04-02 2016-10-06 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
WO2018138824A1 (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 シャープ株式会社 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び有機el表示装置の製造方法
EP3617341A3 (en) * 2018-08-29 2020-07-01 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly, and apparatus and method for manufacturing display apparatus including the mask assembly
CN112575286A (zh) * 2019-09-27 2021-03-30 旭晖应用材料股份有限公司 金属遮罩
WO2021145523A1 (ko) * 2020-01-15 2021-07-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크
US20220399531A1 (en) * 2021-06-14 2022-12-15 Samsung Display Co., Ltd. Mask and method for manufacturing the same
KR102895634B1 (ko) * 2020-01-15 2025-12-05 삼성디스플레이 주식회사 마스크

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5726163A (en) * 1980-07-23 1982-02-12 Hitachi Ltd Mask for forming thin film and its manufacture
JP2001355058A (ja) * 2000-06-12 2001-12-25 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透明導電膜付き基板及びその製造方法
JP2002030415A (ja) * 2000-07-17 2002-01-31 Toray Ind Inc 導電膜パターン化用マスク
JP2002038254A (ja) * 2000-07-24 2002-02-06 Toray Ind Inc 導電膜パターン化用マスク
WO2006009103A1 (ja) * 2004-07-16 2006-01-26 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5726163A (en) * 1980-07-23 1982-02-12 Hitachi Ltd Mask for forming thin film and its manufacture
JP2001355058A (ja) * 2000-06-12 2001-12-25 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透明導電膜付き基板及びその製造方法
JP2002030415A (ja) * 2000-07-17 2002-01-31 Toray Ind Inc 導電膜パターン化用マスク
JP2002038254A (ja) * 2000-07-24 2002-02-06 Toray Ind Inc 導電膜パターン化用マスク
WO2006009103A1 (ja) * 2004-07-16 2006-01-26 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011033624A1 (ja) 2009-09-16 2011-03-24 三菱電機株式会社 全熱交換素子
JP2013028835A (ja) * 2011-07-28 2013-02-07 Kyocera Crystal Device Corp 膜形成方法
WO2016158407A1 (ja) * 2015-04-02 2016-10-06 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JPWO2016158407A1 (ja) * 2015-04-02 2018-01-25 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
US10711338B2 (en) 2017-01-26 2020-07-14 Sharp Kabushiki Kaisha Vapor deposition mask and manufacturing method for organic EL display device
WO2018138824A1 (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 シャープ株式会社 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び有機el表示装置の製造方法
EP3617341A3 (en) * 2018-08-29 2020-07-01 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly, and apparatus and method for manufacturing display apparatus including the mask assembly
US10903459B2 (en) 2018-08-29 2021-01-26 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly, and apparatus and method for manufacturing display apparatus including the mask assembly
CN112575286A (zh) * 2019-09-27 2021-03-30 旭晖应用材料股份有限公司 金属遮罩
CN112575286B (zh) * 2019-09-27 2022-09-23 旭晖应用材料股份有限公司 金属遮罩
WO2021145523A1 (ko) * 2020-01-15 2021-07-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크
CN114945866A (zh) * 2020-01-15 2022-08-26 三星显示有限公司 掩模
KR102895634B1 (ko) * 2020-01-15 2025-12-05 삼성디스플레이 주식회사 마스크
US20220399531A1 (en) * 2021-06-14 2022-12-15 Samsung Display Co., Ltd. Mask and method for manufacturing the same

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