JP2008032702A - 欠陥検査装置および欠陥検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】制御部14は、搬入された基板の検査時に、基板上の欠陥を識別する欠陥情報を生成する。検査が行われた後、制御部14は、その検査時に生成された欠陥情報と、基板の下層レイヤーの検査時に生成された欠陥情報とを比較し、前記下層レイヤーが欠陥と重複する重複欠陥を除いて前記最上層レイヤー上に発生した欠陥を識別する注目欠陥情報を生成する。判断部13は、データ演算部から出力された最上層レイヤーNの注目欠陥情報を比較し、基板の搬出先を判断し、制御部14に通知する。
【選択図】図1
Description
Claims (8)
- レイヤーの製造工程毎に基板上の欠陥を検査し、前記欠陥を識別する欠陥情報を生成する欠陥検査装置において、
最上層レイヤーの検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、前記基板の下層レイヤーの検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報とを比較し、前記下層レイヤーが欠陥と重複する重複欠陥を除いて前記最上層レイヤー上に発生した欠陥を識別する注目欠陥情報を生成する情報生成手段と、
前記注目欠陥情報に基づいて、前記基板の搬出先を判断する判断手段と、を備えた欠陥検査装置。 - 前記情報生成手段は、前記最上層レイヤーの検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、前記基板の複数の下層レイヤー検査時に生成された前記基板の複数の前記欠陥情報とを比較し、前記注目欠陥情報を生成する請求項1に記載の欠陥検査装置。
- 前記情報生成手段は、現製造工程後の検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、現製造工程よりも前の製造工程の検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報とを比較して、前記注目欠陥情報を生成する請求項1に記載の欠陥検査装置。
- 前記情報生成手段は、現製造工程後の検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、前記現製造工程よりも前の製造工程の検査時に生成された前記基板の前記注目欠陥情報とを比較し、前記現製造工程の工程で製造された前記最上層レイヤー上の新たな前記注目欠陥情報を生成し、前記判断手段は、前記新たな前記注目欠陥情報に基づいて、前記基板の搬出先を判断する請求項1に記載の欠陥検査装置。
- レイヤーの製造工程毎に基板上の欠陥を検査し、前記欠陥を識別する欠陥情報を生成する欠陥検査方法において、
最上層レイヤー検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、前記基板の下層レイヤー検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報とを比較して、前記下層レイヤーの欠陥と重複する重複欠陥を除いて、前記最上層レイヤー上に発生した欠陥を識別する注目欠陥情報を生成する第1のステップと、
前記注目欠陥情報に基づいて、前記基板の搬出先を判断する第2のステップと、
を備えた欠陥検査方法。 - 前記第1のステップにおいて、前記最上層レイヤーの検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、前記基板の複数の下層レイヤー検査時に生成された前記基板の複数の前記欠陥情報とを比較して、前記注目欠陥情報を生成する請求項5に記載の欠陥検査方法。
- 前記第1のステップにおいて、現製造工程後の検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報と、前記現製造工程よりも前の製造工程の検査時に生成された前記基板の前記欠陥情報とを比較して、前記注目欠陥情報を生成する請求項5に記載の欠陥検査方法。
- 前記第1のステップにおいて、現製造工程後の検査時に生成された前記基板の欠陥情報と、前記現製造工程よりも前の製造工程の検査時に生成された前記基板の前記注目欠陥情報とを比較して、前期現製造工程で製造された前記最上層レイヤー上の新たな前記注目欠陥情報を生成し、
前記第2のステップにおいて、前記新たな前記注目欠陥情報に基づいて、前記基板の搬出先を判断する請求項5に記載の欠陥検査方法。
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JP2007175160A Pending JP2008032702A (ja) | 2006-07-03 | 2007-07-03 | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2007
- 2007-07-03 JP JP2007175160A patent/JP2008032702A/ja active Pending
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