JP2008027549A

JP2008027549A - 光記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2008027549A
Application number: JP2006201787A
Authority: JP
Inventors: Noboru Koga; 昇古賀
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2006-07-25
Filing date: 2006-07-25
Publication date: 2008-02-07
Also published as: TWI416519B; TW200830307A

Abstract

【課題】軸方向加速度(ＦＥ：フォーカスエラー)、トラック方向加速度(ＴＥ：トラッキングエラー)の低減化を図ることを目的とした光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の基板１１と第２の基板１２とを紫外線硬化性樹脂３０による貼り合わせにより重ね合わせた構成の光記録媒体を作製するに当たり、紫外線露光工程においては、第一段階として、紫外線を、中心から外周部へと向かって照射して、少なくとも外周部を残して、当該外周部よりも内側の領域の前記紫外線硬化性樹脂３０を仮硬化しておき、第二段階として、基板のクランプエリア１４のみ接触するセンターピン２２で静止保持した状態で紫外線照射を施し全面露光硬化を行う。
【選択図】図６

Description

本発明は、ディスク状基板を貼り合わせた構成を有する光記録媒体の製造方法に関するものである。

従来、レーザー光を照射することにより、所定の情報の記録、再生、及び消去を行うディスク型の光記録媒体が広く開発・実用化されている。例えば、二枚の基板を所定の樹脂接着剤層を介して積層した構成の光ディスクが、製造、販売されており、具体的には、ＤＶＤやレーザーディスク等が挙げられる。

従来の光記録媒体は機能に応じた種々の構成を有しており、例えば、光透過性の支持基板上にピットやグルーブ等の微細凹凸が形成されているものや、所定の金属反射層、接着剤層、印字層等を介して積層された構成を有するものが知られている。
一般的に、光透過性の支持基板は、ガラス、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＭＭＡ（アクリル樹脂）等よりなり、金属反射層は、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ合金により形成されており、接着剤層は、紫外線硬化型の樹脂より形成される。

なお、以下においては、支持基板上にピットやグルーブ等の溝が形成されたものや、所定の機能層が成膜されたもの、あるいはカバー基板としてのみ機能する光透過性の支持基板のいずれも単に「基板」と表記する。

二枚の基板を貼り合わせる方法としては、従来、紫外線硬化型樹脂を用いたラジカルＵＶ方式が広く知られている。
これは、記録層や反射層が形成されている基板面上に同心円状に、液状の紫外線硬化性樹脂（接着剤）をディスペンサーにより滴下し、他の一方の基板（例えばカバーとなる光透過性基板）を重ね合わせ、所定の回転数と回転時間でもって余分な紫外線硬化性樹脂を振り切り、その後紫外線を照射して光硬化させることにより、貼り合わせ型の光記録媒体を得るものである。

次に、基板貼り合わせ工程について具体的に説明する。
なお便宜上、片側からレーザー光を入射させて記録や再生を行う形式の光ディスクにおいて、レーザー光入射面を下方に配置することとしたとき、下側になる基板をＬａとし、上側になる基板をＬｂと呼ぶこととする。

二枚の基板を紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせる工程においては、通常、上方から紫外線照射を行って基板間の紫外線硬化型接着剤を光硬化させるが、かかる工程においてはＬａ基板を上向きにしてディスク搬送を行う。
Ｌｂ基板の方は、バリア膜（反射層や記録層）が形成されている面を上にして、回転塗布装置のステージ（スピンテーブル）上にセットする。
回転ステージを、数十ｒｐｍ程度の回転速度で回転させながら、ディスペンサーによって液状の紫外線硬化性樹脂（粘度は約５００ｃｐ）を基板中心から約３０ｍｍの円周上に同心円状に滴下し、次いでＬａ基板を、光入射面側を上にして重ねあわせる。この後、回転ステージを数百〜数千ｒｐｍの回転速度で回転させて紫外線硬化性樹脂を基板の終端まで延展する。
その後、この重ね合せた基板を露光用ステージへ搬送し、紫外線硬化処理を行うことにより、貼り合わせ型の光ディスクが得られる。

しかしながら、上述したような貼り合わせ工程によると、基板の反りが矯正されず、ＲＤ（半径方向チルト）値、及びＴＤ（周方向チルト）が大きくなってしまい、多くの不良品発生の原因となっていた。

ＲＤ（半径方向チルト）値、及びＴＤ（周方向チルト）値を矯正するためには、例えば、紫外線露光時に、基板を載置するステージとして減圧吸着機能を有するものを用いたり、あるいは基板の内外周部のみに基板受け部を有するステージを適用したりして形状（反り、ＲＤ、ＴＤ）を固定、又は矯正する方法がある。
しかしながら、上記方法では、ＲＤとＴＤの値に関しては矯正が図られるが、軸方向加速度（ＦＥ：フォーカスエラー）、トラック方向加速度（ＴＥ：トラックエラー）値が大きくなってしまうという問題がある。これに関して、（１）基板がステージに貼り付くことにより、ディスク基板とステージとの間の微少な塵や接着剤ダストが固着したりすること、（２）基板面内において吸着されている部分と吸着されていない部分とがあるため、ミクロ的な凹凸が発生し、この影響を受けた接着剤が波状に硬化してしまうこと、（３）ステージ面上の吸着孔の形が残存して硬化してしまうこと、等の不具合が、ＴＥ(トラック方向加速度)、及びＦＥ(軸方向加速度)の悪化の原因となっていることが解った。

ところで近年、特に、ＤＶＤの分野においては高速記録化への要望が高まってきており、軸方向加速度、トラック方向加速度の品質向上が重要視されている。
軸方向加速度（フォーカスエラー）に関しては、例えば、Single DVD+/−R/RWや、DVD+R、２層ディスク等はオレンジブックによれば、残留フォーカス・トラッキングエラーで規定されており、軸方向加速度（フォーカスエラー）にして最外周で１．０ｍ／ｓ²以下が求められるようになってきている。トラック方向加速度（トラックエラー）に関しては、最外周で０．４ｍ／ｓ²以下であることが求められている。
また、上記の軸方向加速度は回転数が３０Ｈｚ（１８００ｒｐｍ）のとき、基準面と直行する方向における記録層の加速度で、３０Ｈｚから１．５ｋＨｚの帯域で測定している。ディスク基板表面の凹凸等が原因で加速度が悪化して大きな値を示す基板では、フォーカス・トラッキングサーボの引き込み応答性、追従性、安定性に影響を及ぼす。

ＦＥ（Focus Error）及びＴＥ（Tracking Error）は、Plexter PX-716Aドライブの、ＦＥ・ＴＥのテスト機能を使用することにより、基板を高速で回転させた場合に、ＦＥ／ＴＥのそれぞれの振幅(大きさ)を計測できる。
通常、ＤＶＤ＋/−Ｒ/ＲＷドライブでは、再生時にディスク面のたわみ(面ブレ)で、ピックアップとディスクとの距離が変動し、フォーカス(焦点)が外れるのを防ぐ機能(フォーカスサーボ)と、ディスクのセンターホールの偏心が生じたり、トラックが局所で蛇行したりした場合にも、トラックを外れないように修正する機能(トラッキングサーボ)との、二つの光学的サーボを有している。
この二つのサーボ動作中においては、正確にピットを読もうと、対物レンズを修正するための制御信号を計算しているのである。
この制御信号が、フォーカスエラー信号・トラッキングエラー信号といわれるものであり、通常、ＦＥ／ＴＥと表現し、以下の意味となる。
ＦＥ：フォーカスエラー：ピックアップが、ディスク表面にレーザーの焦点を合わせる為の制御信号（フォーカシングアクチュエータ制御信号）のレベルの振幅をＤＡＣで取り込んだ値。これにより、成形の悪いディスクや、反りや面ブレがある物理特性の悪いディスクを記録前に見つけることが可能である。このＦＥの値の変動が少ないほど、面ブレが少ないと判断される。
ＴＥ：トラッキングエラー：ピックアップがディスクのウォブルに追従するための制御信号（トラッキングアクチュエータ制御信号）のレベルの振幅をＤＡＣで取り込んだ値。
上述したことから、これらＦＥ／ＴＥにより、高速回転時のメディア加速度を検査することが可能である。

上記軸方向加速度は、露光用ステージ面に数μｍの塵や接着剤が付着した状態で基板を載置して紫外線硬化処理を行った場合に著しく悪化することが確認されているので、特にこれを１．０ｍ／ｓ²以下とするような光記録媒体を作製する場合に、良品率や設備稼働率を実用上良好な状態にすることが課題となっている。

紫外線照射工程を行うステージ面に塵が付着する原因としては、元々基板に付着していた塵がステージ面上に転移してしまうこと等が挙げられる。最終的に目的とする光記録媒体の実用上の品質に影響を及ぼす塵の大きさは数μｍ以上程度であるため、搬送系や人体からの移転や、Ｒ−Ｔｉｌｔ安定化のための保護層塗布後〜貼り合わせまでの一日間以上放置時間での塵の付着は回避なければならない問題である。
また、ステージ面上への樹脂付着の原因としては、二枚の基板を重ねたときの外周端部からの垂れ落ちや、装置トラブルが発生した際の、ディスク滞留時の接着剤内周穴、外周端への流れ込み等が挙げられる。

最終的に目的とする光記録媒体の品質の向上を図ることを目的とした基板の貼り合わせ方法については、従来においても種々の検討がなされてはいるが（例えば、下記特許文献１参照。）、今後、一層高速記録化が進むと予想される光記録媒体の分野においては、更なるＦＥ／ＴＥの低減化を図るべく、その製造方法についての改良が必須となってきている。

特許第３６３４９３号

そこで本発明においては、上述した従来の問題点に鑑みて、光ディスクの光硬化による貼り合わせを行うに当たり、軸方向加速度(ＦＥ：フォーカスエラー)、トラック方向加速度(ＴＥ：トラッキングエラー)の低減化を図ることを目的とした光記録媒体の製造方法を提供することとする。

請求項１の発明に係る光記録媒体の製造方法においては、中心孔を有する第１の基板上に、紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、前記第１の基板と、中心孔を有する第２の基板とを重ね、前記紫外線硬化性樹脂を基板回転によりスピンアウトする工程と、紫外線を照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線露光工程とを有しており、前記紫外線露光工程においては、第一段階として、紫外線を、前記基板の中心から外周部へと向かってスポット照射し、少なくとも外周部を残して当該外周部よりも内側領域における前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化し、第二段階として、前記重ね合わせた基板を、当該基板のクランプエリアのみ接触するセンターピンで静止保持した状態として紫外線照射を施し、全面露光硬化を行うこととする

請求項２の発明に係る光記録媒体の製造方法においては、中心孔を有する第１の基板上に、紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、前記第１の基板と、中心孔を有する第２の基板とを重ね、前記紫外線硬化性樹脂を基板回転によりスピンアウトする工程と、紫外線を照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線露光工程とを有しており、前記紫外線露光工程においては、第一段階として、紫外線を、前記基板の中心から外周部方向への領域に範囲照射し、少なくとも外周部を残して当該外周部よりも内側領域における前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化し、第二段階として、前記重ね合わせた基板を、当該基板のクランプエリアのみ接触するセンターピンで静止保持した状態として紫外線照射を施し、全面露光硬化を行うこととする。

請求項３の発明に係る光記録媒体の製造方法においては、中心孔を有する第１の基板、及び第２の基板のそれぞれに紫外線硬化性樹脂を塗布し、基板回転によりスピンアウトする工程と、前記第一の基板と前記第二の基板とを重ね、紫外線を照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線露光工程とを有しており、前記紫外線露光工程においては、第一段階として、紫外線を、前記基板の中心から外周部方向への領域に範囲照射し、少なくとも外周部を残して当該外周部よりも内側領域における前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化し、第二段階として、前記重ね合わせた基板を、当該基板のクランプエリアのみ接触するセンターピンで静止保持した状態として紫外線照射を施し、全面露光硬化を行うこととする。

本発明によれば、基板を紫外線硬化樹脂を接着層として貼り合わせ工程において、紫外線露光硬化を二段階に分けて行うこととし、貼り合わせ基板の外周部を含めた全面露光を行う工程においては、目的とする光記録媒体の記録領域（グルーブエリア）が、露光ステージ台と非接触状態として接触による樹脂層形状への影響を回避したので、面ブレや、ＴＤ（周方向チルト）悪化の発生を防止でき、更には、フォーカスエラー（ＦＥ）、トラッキングエラーの劣化を効果的に抑制できた。
また、光記録媒体の製造における歩留まりの飛躍的な向上が図られ、低コストかつ簡易な工程により、高品質な光記録媒体が作製できた。

本発明の製造方法において作製される光記録媒体は、中心孔を有する二枚のディスク状基板（第１の基板、第２の基板）が、紫外線硬化性樹脂による接着層を介して積層された構成を有している。
支持基板の材料としては、従来公知のものをいずれも適用できる。但し、本発明方法においては、基板間に介在させる紫外線硬化性樹脂の光硬化のため、紫外線照射側の基板は、紫外線に対する透過性を有している材料とする。
第１の基板、及び第２の基板は、最終的に目的とする光記録媒体に応じて、種々の構成を有しているものとする。例えば、ガラスや、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＭＭＡ（アクリル樹脂）等の光透過性の支持基板面上にピットやグルーブ等の微細凹凸が形成されているもの、金属反射層、光磁気記録層、相変化記録層等が形成されているものが挙げられる。
これら第１の基板、及び第２の基板の双方に記録層が形成されていてもよく、一方の基板のみに記録層を有し、他の一方の基板はカバー基板としてのみ機能するものとしてもよい。

次に、本発明の光記録媒体の製造方法について、図を参照して具体的な態様を挙げて説明するが、本発明方法は、下記の各例に限定されるものではない。

〔第一の実施形態〕
図１に示すように、中心孔を有するディスク形状の支持基板を用意し、これに所定の記録層をスパッタリング成膜し、第１の基板１１とする。
第１の基板１１の記録層形成面を上にして、回転ステージ２０上で減圧吸着する。
次に回転ステージ２０を数十ｒｐｍ程度の回転数で回転させながら、ディスペンサー（図示せず）によって紫外線硬化性樹脂３０（粘度：５００ｃｐ）を、ディスク基板の中心から約３０ｍｍの円周上に同心円状に滴下する。
次に、他方のディスク基板（第２の基板１２）を重ね合わせて貼り合わせ、回転ステージ２０を、数百〜数千回転／ｒｐｍで回転させ、紫外線硬化性樹脂３０をディスク終端まで展開させる。

次に、紫外線樹脂に対する露光硬化を行う。
紫外線露光工程は、二段階に分けて行う。第一段階として、図２に示すように、露光ヘッド５０を、基板の中心から外周部へと向かって図中矢印Ａ方向に移動させ、紫外線をスポット照射する。このとき、少なくとも基板の外周部を残して、外周部よりも内側の領域の紫外線硬化性樹脂を仮硬化する。
ここで、外周部とは、例えばディスク外端から５ｍｍ〜１０ｍｍの領域であると定義でき、上記第一段階の硬化工程においては、ディスクの中心孔を含めて内径２０〜５０ｍｍの領域の紫外線硬化性樹脂を露光硬化する。
このとき、回転ステージ２０の回転数を制御することによって、基板間の樹脂膜厚を調整し、均一な樹脂層が形成できる。
この段階で、図３に示すように、基板間の外周部に存在する紫外線硬化性樹脂は、固化していない状態となっている。

上記のように、基板間の外周部の紫外線硬化性樹脂を硬化させずにしておくと、回転ステージと基板が接触したとしても、樹脂の軟性に裕度があるため修正が可能であり、最終的に光記録媒体を作製する上での、フォーカスエラーやトラッキングエラーに結びつくような形状変形の発生が回避できる。
また、第一段階として外周部よりも内側の領域を予め仮硬化しておくことにより、ＲＤ（半径方向チルト）、面ブレ、樹脂膜厚等を保持した状態で後述する第二段階の本露光工程へ移行できる。

次に、搬送吸着ヘッド４０により貼り合わせ基板１３を回転ステージ２０から外し、図４〜５に示すように、第二段階の紫外線露光を行う光照射ステージ２１に載置する。
光照射ステージ２１は、図６に示すように、貼り合わせ基板１３の中心孔を通してクランプエリア１４のみ接触するセンターピン２２を具備しており、この光照射ステージ２１に静止状態で載置かれた状態では、グルーブ形成領域への接触による負荷が無い状態となっている。
この状態で上面から紫外線を全面照射し、基板間の紫外線硬化性樹脂の光硬化を行い、貼り合わせ型の光ディスクを作製する。
得られた光ディスクを、ＰＸ−７１６Ａドライブを用いて、ＴＥ（トラックエラー）／ＦＥ（フォーカスエラー）を測定した。その結果、図７に示すように、第１の基板１１、第２の基板１２のいずれにおいても、面内で低い水準で推移し、実用上良好なレベルに安定していることが確かめられた。

〔第二の実施形態〕
上述した第一段階の露光として、図２に示したようなスポット照射に代えて、図８に示すような構成の所定の範囲に紫外線露光を行うことができる照射ヘッド５１を用いて、紫外線を貼り合わせ基板１３の中心部から外周部方向への所望の領域に照射した。すなわち定点ワイドレンジ照射を行い、基板の外周部を残して、この外周部よりも内側の所定領域の紫外線硬化性樹脂を仮硬化した。
その他の条件、及び構成に関しては、上述した第一の実施形態と同様にして貼り合わせ型の光ディスクを作製した。
得られた光ディスクを、ＰＸ−７１６Ａドライブを用いて、ＴＥ／ＦＥを測定したところ、上記第一の実施形態と同様に、第１の基板１１、第２の基板１２のいずれにおいても、面内で低い水準で推移し、実用上良好なレベルに安定していることが確かめられた。

〔第三の実施形態〕
図９に示すように、第１の基板１１、及び第２の基板１２のそれぞれに紫外線硬化性樹脂を塗布し、基板回転によりスピンアウトし、その後、気泡の混入を防止しながら真空中で重ね合わせた。
その他の条件、及び構成に関しては、上述した第二の実施形態と同様にして光ディスクを作製した。
得られた光ディスクを、ＰＸ−７１６Ａドライブを用いて、ＴＥ／ＦＥを測定したところ、上記第一の実施形態と同様に、第１の基板１１、第２の基板１２のいずれにおいても、面内で低い水準で推移し、実用上良好なレベルに安定していることが確かめられた。

〔比較例１〕
図１に示すように、中心孔を有するディスク形状の支持基板を用意し、これに所定の記録層をスパッタリング成膜して第１の基板１１とした。第１の基板１１の記録層形成面を上にして、回転ステージ２０上に減圧吸着する。
次に回転ステージ２０を数十ｒｐｍ程度の回転数で回転させながら、ディスペンサー（図示せず）によって紫外線硬化性樹脂３０（粘度：５００ｃｐ）を、ディスク基板の中心から約３０ｍｍの円周上に同心円状に滴下する。
次に、他方のディスク基板（第２の基板１２）を重ね合わせて貼り合わせ、回転ステージ２０を、数百〜数千回転／ｒｐｍで回転させ、紫外線硬化性樹脂３０をディスク終端まで展開させる。

次に、紫外線露光工程を行う。
両基板間の紫外線硬化性樹脂を硬化させずに、回転ステージ２０から外し、図１０に示すような、基板の内周部と外周部の双方に受け部６１、６２を有する光照射ステージ６０に載置した状態で上方から全面的に紫外線照射して樹脂の露光を行い、光ディスクを作製した。この例においては、光照射ステージ６０の受け部６１と６２とは、光ディスクのグルーブ形成領域へ接触しておらず、当該領域への負荷が無い状態となっている。
作製された光ディスクを、ＰＸ−７１６Ａドライブを用いて、ＴＥ／ＦＥを測定した。その結果、図１１に示すように、特に内周部と外周部において大きな面ブレが発生しており、ＴＥ／ＦＥの悪化が確認された。

〔比較例２〕
第１の基板１１（支持基板上に記録層をスパッタリングしたもの）を、記録層形成面を上にして、回転ステージ上に減圧吸着する。
続いてステージを数十ｒｐｍ程度の回転数で回転させながらディスペンサーによって紫外線硬化性樹脂（粘度：５００ｃｐ）を、中心から約３０ｍｍの円周上に同心円状に滴下する。
他方の基板（第２の基板１２）を貼り合わせ、回転ステージを数百〜数千回転／ｒｐｍで回転させ、紫外線硬化性樹脂を基板の終端部まで展開させる。続いて、回転ステージの回転数制御により、基板間膜厚を制御し均一な層を形成する。
続いて図１２に示すように、貼り合わせ基板１３が全面的に基板受け部６５に載置された状態となる光照射ステージ７０上で、紫外線露光ヘッドを用いてスポット的に基板内周から外周に向かって移動させ、紫外線硬化性樹脂を外周部まで光硬化し、光ディスクを作製した。
上述した方法により作製された光ディスクは、紫外線硬化性樹脂を硬化する前段階で基板受け部６５により光ディスクのグルーブ形成部が接触による影響を受けるので、光照射ステージ面上に付着している微細な塵や樹脂の影響により、基板間の樹脂膜に凹凸が発生してしまい、最終的に作製された光ディスクをＰＸ−７１６Ａドライブを用いてＴＥ／ＦＥを測定したところ、図１３に示すように、全面的に大きな面ブレが発生し、実用上満足な結果が得られなかった。

上述した例においては、片面光入射タイプの、基板積層型の光ディスクを作製する場合について説明したが、本発明方法は、上述した例に限定されるものではなく、単層ディスクや高精度に貼合わせの加速度低減を要求される他品種、工程にて同様に実施できるものである。

第一の実施形態における光記録媒体の作製工程図を示す。第一段階の紫外線露光工程図を示す。第一の実施形態における一工程図を示す。貼り合わせ基板を光照射ステージへと移送する状態図を示す。貼り合わせ基板を光照射ステージに載置した状態図を示す。第二段階の紫外線露光工程図を示す。ＴＥ／ＦＥの測定結果を示す。第二の実施形態における、光記録媒体の作製工程図を示す。第三の実施形態における、光記録媒体の作製工程図を示す。比較例１における光記録媒体の紫外線露光工程図を示す。比較例１における、ＴＥ／ＦＥの測定結果を示す。比較例２における光記録媒体の紫外線露光工程図を示す。比較例２における、ＴＥ／ＦＥの測定結果を示す。

符号の説明

１１第１の基板
１２第２の基板
１３貼り合わせ基板
１４クランプエリア
２０回転ステージ
２１光照射ステージ
２２センターピン
３０紫外線硬化性樹脂
４０搬送吸着ヘッド
５０露光ヘッド
５１照射ヘッド
６０光照射ステージ
６１内周部の受け部
６２外周部の受け部
６５基板受け部
７０光照射ステージ

Claims

中心孔を有する第１の基板上に、紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、
前記第１の基板と、中心孔を有する第２の基板とを重ね、前記紫外線硬化性樹脂を基板回転によりスピンアウトする工程と、
紫外線を照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線露光工程とを有しており、
前記紫外線露光工程においては、
第一段階として、紫外線を、前記基板の中心から外周部へと向かってスポット照射し、少なくとも外周部を残して当該外周部よりも内側領域における前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化し、
第二段階として、前記重ね合わせた基板を、当該基板のクランプエリアのみ接触するセンターピンで静止保持した状態として紫外線照射を施し、全面露光硬化を行うことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
中心孔を有する第１の基板上に、紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、
前記第１の基板と、中心孔を有する第２の基板とを重ね、前記紫外線硬化性樹脂を基板回転によりスピンアウトする工程と、
紫外線を照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線露光工程とを有しており、
前記紫外線露光工程においては、
第一段階として、紫外線を、前記基板の中心から外周部方向への領域に範囲照射し、少なくとも外周部を残して当該外周部よりも内側領域における前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化し、
第二段階として、前記重ね合わせた基板を、当該基板のクランプエリアのみ接触するセンターピンで静止保持した状態として紫外線照射を施し、全面露光硬化を行うことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
中心孔を有する第１の基板、及び第２の基板のそれぞれに紫外線硬化性樹脂を塗布し、基板回転によりスピンアウトする工程と、
前記第一の基板と前記第二の基板とを重ね、紫外線を照射して、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線露光工程とを有しており、
前記紫外線露光工程においては、
第一段階として、紫外線を、前記基板の中心から外周部方向への領域に範囲照射し、少なくとも外周部を残して当該外周部よりも内側領域における前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化し、
第二段階として、前記重ね合わせた基板を、当該基板のクランプエリアのみ接触するセンターピンで静止保持した状態として紫外線照射を施し、全面露光硬化を行うことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
前記基板の外周部とは、基板外周端から中心方向に、少なくとも５ｍｍの幅の領域であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光記録媒体の製造方法。