JP2008027504A - 磁気ヘッド - Google Patents

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Abstract

【課題】磁気ヘッドの媒体相対面を熱膨張により突出させるためのヒータ効率が高く、加熱による悪影響を最小限に抑えることを可能とする。
【解決手段】磁気ヘッドは、ライトコイル54により発生した磁束を磁極部から記録媒体に向けて放出して情報を磁気的に記録するライトヘッドと、記録媒体から放出される記録磁束を電気信号に変換する読取素子を備えたリードヘッドとで構成される。ライトコイル54の薄膜コイルパターンを配置した領域に相対するライトコイル相対領域70に、通電過熱により媒体相対面を熱膨張により記録媒体側に突出させるヒータコイル60を絶縁層を介して配置する。ヒータコイル60は、ライトコイル相対領域70の外部に幅広の端子パターンを配置し、ライトコイル相対領域70内に記端子パターンより幅の狭いヒータパターンを配置する。
【選択図】 図8

Description

本発明は、回転する記録媒体上に浮上させてデータを読み書きする磁気ヘッドに関し、特に、ヒータの通電加熱に伴う熱膨張により媒体相対面の突出量を変化させてヘッドと記録媒体との間のクリアランスを制御可能とする磁気ヘッドに関する。
従来、磁気ディスク装置の高記録密度を実現するため磁気ディスクの記録面に対する磁気ヘッドの浮上量を低下させる必要があり、近年にあっては、10nmオーダーの浮上量が実現されている。
しかしながら、磁気ヘッドの浮上量が低下すると磁気ディスク面の微小突起との衝突が発生しやすくなり、またヘッドごとのクリアランスのばらつきがメカの公差範囲で存在するため、媒体接触を考慮すると、浮上量を公差範囲を超えて低く設定することができない問題がある。
この問題を解消する方法として、ヘッドにヒータを内蔵し、ヒータの通電に伴うヘッド浮上面の熱膨張による突出現象を利用して、ヘッドと磁気ディスクの記録面とのクリアランスをコントロールする特許文献1〜3のものが提案されている。
特許文献1は、薄膜磁気ヘッドの絶縁体層の中にヒータとして機能する薄膜抵抗体を形成し、必要に応じて薄膜抵抗体に通電して発熱させることにより、磁極先端部を熱膨張させて突出させるようにしている。
特許文献2は、装置温度や記録再生により素子温度の上昇に対し、ヘッドに設けられた電気伝導膜に印加する電力を変化させて一定素子温度に保つことで、素子と記録媒体の間に一定のクリアランスを保つようにしている。
特許文献3は、加熱によりヘッドの空気軸受面の一部を膨張突出させて記録再生素子と磁気ディスク面との距離を増加させる浮上量増加用加熱装置と、加熱によりヘッド空気軸受面の他の一部を膨張突出させて記録再生素子と磁気ディスク面との距離を減少させる浮上量減少用加熱装置とをヘッドに設け、装置起動時などに衝突を起すことなく再生できるように浮上量を修正している。
特開平5−20635号公報 特開2005−071546号公報 特開2005−276284号公報
このようなヒータを内蔵した従来の磁気ヘッドにあっては、少ないヒータの発熱量でヘッドの突出量が大きくとれるようにヒータ効率を高める必要があるが、従来のヒータ内蔵の磁気ヘッドにあっては、どのようなヒータコイルの配置がヒータ効率を高めるかについては十分に言及されておらず、磁気ヘッドによってはヒータ効率が低く、ヒータ通電量を大きくしないと十分な突出量がえられないという問題がある。
また、ヘッドの突出量を大きくするためにヒータコイルの通電により高温になりすぎると、ヒータコイルのマイグレーションやリード素子やライト素子への熱の影響が大きくなり、磁気ヘッドの耐久性と性能が低下するという問題がある。
本発明は、媒体相対面を熱膨張により突出させるためのヒータ効率が高く、加熱による悪影響を最小限に抑えることを可能とする磁気ヘッドを提供することを目的とする。
本発明は、スパイラル状の薄膜コイルパターンで構成されるライトコイルにより発生した磁束を磁極部から記録媒体に向けて放出して情報を磁気的に記録するライトヘッドと、ライトヘッドの近傍に配置され前記記録媒体から放出される記録磁束を電気信号に変換する読取素子を備えたリードヘッドとで構成される磁気ヘッドに於いて、
ライトコイルの薄膜コイルパターンを配置した領域に相対するライトコイル相対領域に、通電過熱により媒体相対面を熱膨張により記録媒体側に突出させるヒータコイルを絶縁層を介して配置し、
ヒータコイルは、ライトコイル相対領域の外部に幅広の端子パターンを配置し、ライトコイル相対領域内に前記端子パターンより幅の狭いヒータパターンを配置したことを特徴とする。
ここで、ライトコイル相対領域は、ヒータコイルの媒体相対面側のコイル外縁部と媒体相対面と反対側のコイル外縁部に略接し、且つ、コイル外縁部に直交する位置のコイル外縁に略接する楕円領域又は円領域である。
ヒータコイルは磁極部の内側磁極側又は外側磁極側に絶縁層を介して配置する。
ヒータコイルは、ライトコイル相対領域における外側磁極に相対する領域を除く領域に配置された連接パターンである。
ヒータコイルの連接パターンは、略W字状の連接パターンであり、更にW字パターンの一端を領域境界に位置して領域外の端子パターンと連結し、W字パターンの他端をW字パターンの一端側に戻した後に領域境界に延在して他の端子パターンと連結する。
ヒータコイルの連接パターンは、略W字状の連接パターンであり、W字パターンの一端及び他端を領域境界に延在してそれぞれ端子パターンと連結する。
ヒータコイルは、ライトコイル相対領域の20%以上の面積を占めるようにヒータパターンを配置する。
ヒータコイルは、端子パターンとヒータパタンで構成されるヒータコイルの全抵抗の70パーセント以上の抵抗値がライトコイル相対領域に存在するようにヒータパターンを配置する。
ヒータコイルは、タングステン及びチタンタングステンを含む高抵抗発熱材料で形成される。
本発明によれば、ライトコイルの薄膜コイルパターンを配置した領域に相対するライトコイル相対領域に、通電過熱により媒体相対面を熱膨張により記録媒体側に突出させるヒータコイルを絶縁層を介して配置したことにより、ヒータの最も発熱するヒータパターンがライトコイルに相対して近接配置され、ヒータの通電による熱はライトコイルに効率良く伝えられてライトコイルを熱膨張させ、ライトコイルの熱膨張によりヘッドの媒体相対面を効率的に媒体側に突き出し、ライト素子(ライトギャップによる磁束放出部)やリード素子のクリアランスを制御できる。
またヒータコイルの熱はライトコイルを伝わって拡散するため、ヒータ過熱による局所的な温度上昇を回避し、ヒータコイルのマイグレーションやライト素子及びリード素子への熱の影響が抑えられ、磁気ヘッドの耐久性と性能の低下を防止することができる。
またヒータコイルは、ライトコイル相対領域の外部に幅広の端子パターンを配置し、ライトコイル相対領域内に端子パターンより幅の狭いヒータパターンを配置したことにより、ヒータとして発熱効果を得たい部分は細くして抵抗を高くし、発熱に関係の無い端子パターンは太くして抵抗を低くして発熱を抑え、発熱の効率化を図ることができる。
図1は本発明の磁気ヘッドが使用される磁気ディスク装置の説明図である。図1において、磁気ディスク10は筐体カバーを取り外した筐体ベース12内の構造を示しており、筐体ベース12にスピンドルモータにより一定速度で回転される磁気ディスク14が設けられ、磁気ディスク14に対してはロータリアクチュエータ16が軸部15により回動自在に配置されている。
ロータリアクチュエータ16は先端に本発明による磁気ヘッド18を支持し、後部にコイル22を配置している。コイル22は筐体ベース12に固定された下ヨーク24上の磁石26に沿って回動可能であり、コイル22の上側には図示しない下ヨーク24と同一形状の上ヨークが配置されるが、本実施形態にあっては上ヨークを取り外した状態で示している。
下ヨーク24、磁石26及び上ヨーク(図示せず)により磁気回路部が形成され、この磁気回路部の中にコイル22が配置されることで、ロータリアクチュエータ16を駆動するボイスコイルモータを構成している。ロータリアクチュエータ16は図示の状態で磁気ディスク14から磁気ヘッド18をランプロード機構20に退避させてラッチしている。
図2は本発明による磁気ヘッドの実施形態を示した断面図である。図2において、本実施形態の磁気ヘッド18はスライダの先端側に設けられている。磁気ヘッド18は基板34の先端側にリードヘッド36及びライトヘッド38を配置している。
磁気ヘッド18は磁気ディスク14の媒体面に向かい合う媒体相対面40を持っており、媒体相対面40は磁気ディスク14の矢印で示すディスク移動方向32の動きによる空気流を受けて浮上するエアベアリングの一部を構成している。
基板34に続いて設けたリードヘッド36は、アルミナとして知られた酸化アルミニウムAl2O3を用いた絶縁層45の中にシールド層42,44を形成し、シールド層42,44の間となる媒体相対面40のリードギャップとなる位置にリード素子46を配置しており、リード素子46としてはGMR素子(Giant Magneto Resistive)が使用される。
リードヘッド36に続いてはライトヘッド38が設けられる。ライトヘッド38は磁極部48を有し、磁極部48はリードヘッド36側の内側磁極50と先端側の外側磁極52を備えている。磁極部48としてはパーマロイや鉄コバルト合金系の磁性材料が使用される。
外側磁極52は媒体相対面40側に位置して前方に突出し、媒体相対面40の部分で内側磁極50との間にライトギャップ56を形成している。内側磁極50と外側磁極52の連結部の下側にはコイル相通部が形成され、内側磁極50と外側磁極52の連結部を中心としてスパイラル状にライトコイル54を配置している。
本実施形態のライトコイル54は2重巻き構造としている。ライトコイル54はライト電流を流すことで記録用の磁束を発生し、この磁束は磁極部48のライトギャップ56から磁気ディスク14側に放出され、磁気ディスク14に対し磁気的な情報の記録を行う。
このような磁気ヘッドに対し、本実施形態にあっては、ライトヘッド38におけるライトコイル54から見て内側磁極50側にヒータコイル60を配置している。ヒータコイル60はタングステン(W)またはチタンタングステン(TiW)などの高抵抗発熱材料で作られており、ヒータコイル60により通電することで、絶縁層45を介して相対するライトコイル54に熱を伝え、ライトコイル54を効率的に熱膨張させ、媒体相対面40のリード素子46及びライトギャップ56を含む部分を磁気ディスク14側に突出させる。
図3は磁気ヘッドに設けたヒータコイル60に通電して過熱した際の媒体相対面40の熱膨張による突出を示しており、ヒータコイル60の通電による発熱でライトコイル54に熱を伝えて熱膨張させ、これによって磁気ディスク14に相対した媒体相対面40を突出部62に示すように突出させ、リード素子46及びライトギャップ56を磁気ディスク14に近付けて最適なクリアランスコントロールを可能とする。
図4は本実施形態の磁気ヘッド18について、絶縁層を除いて内部構造を示した斜視図である。図4において、基板34の前面に、2枚のシールド層42,44からなるリードヘッド36を介してライトヘッド38の磁極部を構成する内側磁極50が配置され、内側磁極50から突出した部分に外側磁極52を配置している。
外側磁極52は磁気ディスクに対する相対面側に先端部64を形成しており、先端部64の幅が磁気ディスクにおける記録幅を決めることになる。外側磁極52と内側磁極50の間にはライトコイル54がスパイラル状に2重巻きで配置されている。即ちライトコイル54は、端子パターン55−1から引き込まれて外側磁極52側でスパイラル状に巻き込んだ後、中心部で基板34側に屈曲し、同方向にスパイラル状に巻き回した後に端子パターン55−2を取り出している。
図5は図4のライトコイル54を除いて内部構造を示した説明図である。ライトコイル54を除くと、その背後にヒータコイル60が配置されている。ヒータコイル60は図4に示したライトコイル54に相対した位置に所定幅のコイルパターンを形成し、このコイルパターンに対し幅の広い端子パターン66−1,66−2を連結している。
図6は図3のライトギャップ位置で奥行方向に切断して示した断面図である。図6の断面図から明らかなように、ライトコイル54は外側磁極52と内側磁極50を結ぶ連結部分の周囲に2重巻きにスパイラル状に配置されていることが分かる。また外側磁極52の先端部64の内側にはライトギャップ56が形成されている。更に基板34側となるシールド層42,44の間には、リード素子46が配置されてリードヘッド36を構成している。
図7は図6のライトコイル54を外してヒータコイルの配置を示した説明図である。
図8は本実施形態のライトコイルとヒータコイルの配置関係を透視状態で示した説明図である。図8において、ライトコイル54は端子パターン55−2を取り出している内側のスパイラル部分を示しており、このライトコイル54の背後に、透視状態で示すようにヒータコイル60が配置されている。
ヒータコイル60の配置位置は、ライトコイル54のスパイラル形状で決まるライトコイル相対領域70に略含まれるように配置される。ライトコイル相対領域70は、ライトコイル54の上下のコイル外縁54−11,54−12及び、この実施形態では左側のコイル外縁54−13に略接する楕円の内部領域としている。このライトコイル相対領域70に対しヒータコイル60は、ヒータとして機能する所定幅のコイルパターンを、本実施形態にあっては略W字状に配置している。
更に詳細には、ヒータコイル60のライトコイル相対領域70内のコイルパターンは、略W字型のパターンの一端に端子パターン66−1を連設し、略W字パターンのパターンについては、更に、水平方向の端子パターン66−1の連設側に戻った後に、上部に設けた別の端子パターン66−2に連設している。
なお、図8では、ヒータコイル60のコイルパターンとして連接パターンを矩形状で示したが、角を面取りをしたパターンであっても良い。
ここで、ライトコイル相対領域70内におけるヒータコイル60の所定幅のコイルパターンの配置は、例えば図5のライトコイル54を外した内部構造から明らかなように、ライトヘッド38における外側磁極52に相対した部分、具体的にはスパイラル状に配置するライトコイル54の中心部から媒体相対面40側に至る記録磁束を放出する部分を除いた両側及び上部の領域を、パターン配置領域としている。
ヒータコイル60のライトコイル相対領域70に配置している所定幅のコイルパターンの具体例としては、例えば厚みが0.1μm〜0.2μmであり、パターン幅は2μm〜4μmであり、端子パターン66−1,66−2を含むヒータコイル60の全体のヒータ抵抗は50Ω〜150Ωであり、ヒータ通電量は0〜100mAの範囲で突出量を変えるために制御する。
本発明の望ましい実施形態にあっては、端子パターン66−1,66−2を含むヒータコイル60全体の抵抗に対し、ライトコイル相対領域70に配置している所定幅のコイルパターンの部分の抵抗が全体抵抗の70%以上とすることが望ましい。
図9はライトコイル相対領域70に存在するヒータ抵抗の割合(%)を変化させた場合のヒータ温度72と突き出し量74のグラフ図であり、ヒータ発熱量は100mWと一定にした場合である。
図9において、突き出し量74はヒータ抵抗の割合の増加と共に増加するが、ヒータ温度72はヒータ抵抗の割合約70%で極値を持ち、ヒータ抵抗の割合が低いとコイル相対領域外での発熱が大きくなるため、ヒータ温度は上昇する。ヒータ抵抗の割合70%ではライトコイルに熱が効率的に逃げ、ヒータ温度が最低となる。
そこで本実施形態にあっては、突き出し量の大きい領域でヒータ設計をすることを考え、ライトコイル相対領域70に存在するヒータ抵抗の割合はは70%以上とすることが望ましい。また、ライトコイル相対領域70内に占めるヒータコイル60の面積としては20%以上とすることが望ましい。
このように本実施形態にあっては、ライトコイル相対領域70内に収まるように、ヒータコイル60のヒータとして機能する所定幅のコイルパターンを配置し、ライトコイル相対領域70を外れる外側については幅の広い端子パターン66−1,66−2とすることで、ヒータ効率を高めることができる。
即ち、ヒータコイル60に通電したときの発熱をライトコイル相対領域70に位置する所定幅のコイルパターンの部分に集中して行い、幅の広い端子パターン66−1,66−2での発熱はほとんど起きないようにし、これによって、ライトコイル相対領域70に配置したヒータコイル60のコイルパターンに相対するライトコイル54に効率良く熱を伝え、ライトコイル54を加熱して熱膨張させることで、図3に示したように磁気ヘッド18の媒体相対面40のライトギャップ56及びリード素子46を含む部分を、突出部62に示すように磁気ディスク14側に効率的に突き出すことができる。
また図8のように、ライトコイル相対領域70に発熱部が集中配置されたヒータコイル60の熱を効率良くライトコイル54に伝えることができるため、ヒータコイル60の温度を低く抑えることができ、局所的な温度上昇を回避し、ヒータコイル60のマイグレーションやライトギャップ(ライト素子)やリード素子の性能劣化を防止することができる。
更に、ヒータコイル60は、ライトコイル相対領域70の外部に幅広の端子パターン66−1,66−2を配置し、ライトコイル相対領域70内に端子パターン66−1,66−2より幅の狭いヒータコイル60のヒータパターンを配置したことにより、ヒータとして発熱効果を得たい部分は細くして抵抗を高くし、発熱に関係の無い端子パターンは太くして抵抗を低くして発熱を抑え、発熱の効率化を図ることができる。
図10は本発明による磁気ヘッドの他の実施形態であり、この実施形態は、ヒータコイル60を図2の実施例とは反対に、ライトコイル54に対し外側磁極52側に絶縁層を介して配置したことを特徴とする。
本実施形態にあっても、ヒータコイル60に通電したときの熱をライトコイル54に効率良く伝え、ライトコイル54を加熱して熱膨張させることで、媒体相対面40のライトギャップ56及びリード素子46を含む部分を、突出部62に示すように磁気ディスク14側に効率的に突き出すことができる。
図11はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図である。図11において、この実施形態のヒータコイル60−1は、基本的には図8に示したヒータコイル60と同じ略W字状で右側を水平方向に戻した後に外部に引き出す形状としているが、ライトコイル54のコイル外縁が横幅を持つことから、これに対応した横に長い楕円形状のライトコイル相対領域70が形成され、このライトコイル相対領域70に合うように、外側磁極52の部分を除く両側及び上部にヒータコイル60−1のコイルパターンを配置している。
図12はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図であり、この実施形態のヒータコイル60−2は、ライトコイル相対領域70の外側磁極52に相対する部分を除いて略W字状にコイルパターンを配置している。即ちヒータコイル60−2は、略W型のコイルパターンそのものであり、略W型コイルパターンの上部両端をそのままライトコイル相対領域70の外側に取り出して、幅の広い端子パターン66−1,66−2に連設している。
この図12のヒータコイル60−2については、図11のヒータコイル60−1と対比すると、右上部から左側に戻る水平部分のコイルパターンがない分、ヒータ抵抗が小さくなる。
図13はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態であり、本実施形態のヒータコイル60−3は、図11のヒータコイル60−1の略W字型のコイルパターンの右側上部の端部から端子リード66−2への連設が横方向の1回のパターンであったものを、ヒータコイル60−3にあっては右方向に移動した後に上部に移動して更に元に折り返した後にライトコイル相対領域70の外部に取り出すようにしている。このため図13のヒータコイル60−3は、図12に比べ、ライトコイル相対領域70におけるヒータの抵抗を更に増加させることができる。
図14はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態であり、この実施形態のヒータコイル60−4は基本的には図11〜図13と同じ略W字型であるが、W字型の外側磁極52の上部に位置する中央部分を上方に、櫛歯状に延在して折り返すことで、十分な長さのコイル長を確保している。
図15はコイルパターンの異なる他の実施形態であり、この実施形態のヒータコイル60−5は、外側磁極52の上側のライトコイル相対領域70内にのみコイルパターンを櫛の歯状に折り返して配置している。
図16はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態であり、この実施形態のヒータコイル60−6は図15と同様に、外側磁極52の上部のライトコイル相対領域70にコイルパターンを配置しているが、図15に比べ横方向の配置領域を小さめにしている。
図17はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図であり、この実施形態のヒータコイル60−7は基本的には図12と同じ外側磁極52の両側及び上部に略W字型のコイルパターンを配置しているが、ライトコイル相対領域70がライトコイル54のスパイラル形状から略円形であり、更に円形のライトコイル相対領域70内に配置した所定幅のヒータコイル60−7のコイルパターンに対し、両側に幅の広い端子パターン66−1,66−2を配置し、横方向にコイルパターンを引き出して連設している。
図18はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態であり、この実施形態のヒータコイル60−8は、外側磁極52の両側については図17のヒータコイル60−7のコイルパターンと同じであるが、外側磁極52の上部については、コイルパターンを上方に屈曲して折り返すことで、ライトコイル相対領域70に占める所定幅のコイルパターンの面積を増加させてヒータ抵抗を増加させている。
図19はヒータコイルパターンの異なる他の実施形態であり、外側磁極52の両側については図16のヒータコイル60−7と同じであるが、外側磁極52の上部については略M字型に所定幅のコイルパターンを配置し、図18に比べ更に、ライトコイル相対領域70内に占めるヒータコイルの面積を増加させてヒータ抵抗を増加させるようにしている。
この図8、図11〜図19の各実施形態に示したいずれのヒータコイル60,60−1〜60−9についても、ライトコイル相対領域70におけるヒータコイルの抵抗が75%以上であり、あるいはヒータコイルの占める面積が20%以上となる条件を満足するように配置している。
なお本発明は上記の実施形態に限定されず、その目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含む。また本発明の磁気ヘッドにおけるヒータコイルのコイルパターンとしては、上記の実施形態に示した形状に限定されず、外側磁極52から媒体相対面側の部分を除くライトコイル相対領域内であれば、適宜のコイルパターンの配置形状とすることができる。更に本発明は上記の実施形態に示した数値による限定は受けない。
ここで本発明の特徴をまとめて列挙すると次の付記のようになる。
(付記)

(付記1)
スパイラル状の薄膜コイルパターンで構成されるライトコイルにより発生した磁束を磁極部から記録媒体に向けて放出して情報を磁気的に記録するライトヘッドと、前記ライトヘッドの近傍に配置され前記記録媒体から放出される記録磁束を電気信号に変換する読取素子を備えたリードヘッドとで構成される磁気ヘッドに於いて、
前記ライトコイルの薄膜コイルパターンを配置した領域に相対するライトコイル相対領域に、通電過熱により媒体相対面を熱膨張により記録媒体側に突出させるヒータコイルを絶縁層を介して配置し、
前記ヒータコイルは、前記ライトコイル相対領域の外部に幅広の端子パターンを配置し、前記ライトコイル相対領域内に前記端子パターンより幅の狭いヒータパターンを配置したことを特徴とする磁気ヘッド。(1)
(付記2)
付記1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ライトコイル相対領域は、前記ヒータコイルの媒体相対面側のコイル外縁部と前記媒体相対面と反対側のコイル外縁部に略接し、且つ、前記コイル外縁部に直交する位置のコイル外縁に略接する楕円領域又は円領域であることを特徴とする磁気ヘッド。(2)
(付記3)
付記1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルを前記磁極部の内側磁極側又は外側磁極側に絶縁層を介して配置したことを特徴とする磁気ヘッド。(3)
(付記4)
付記1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、前記ライトコイル相対領域における外側磁極に相対する領域を除く領域に配置された連接パターンであることを特徴とする磁気へッド。(4)
(付記5)
付記4記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルの連接パターンは、略W字状の連接パターンであり、更に前記W字パターンの一端を領域境界に位置して領域外の端子パターンと連結し、前記W字パターンの他端を前記W字パターンの一端側に戻した後に領域境界に延在して他の端子パターンと連結したことを特徴とする磁気へッド。(5)
(付記6)
付記5記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルの連接パターンは、略W字状の連接パターンであり、前記W字パターンの一端及び他端を領域境界に延在してそれぞれ端子パターンと連結したことを特徴とする磁気へッド。(6)
(付記7)
付記2記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、前記ライトコイル相対領域の20%以上の面積を占めるようにヒータパターンを配置したことを特徴とする磁気ヘッド。(7)
(付記8)
付記1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、端子パターンとヒータパタンで構成されるヒータコイルの全抵抗の70パーセント以上の抵抗値が前記ライトコイル相対領域に存在するようにヒータパターンを配置したことを特徴とする磁気ヘッド。(8)
(付記9)
付記1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、タングステン及びチタンタングステンを含む高抵抗発熱材料で形成されたことを特徴とする磁気ヘッド。(9)
本発明の磁気ヘッドが使用される磁気ディスク装置の説明図 本発明による磁気ヘッドの実施形態を示した断面図 ヒータコイルに通電した際の熱膨張による突出状態の説明図 本実施形態を絶縁層を除いて示した斜視図 図4のライトコイルを外してヒータコイルの配置を示した斜視図 図3をライトギャップ位置で切断して示した断面図 図6の図4のライトコイルを外してヒータコイルの配置を示した断面図 本実施形態のライトコイルとヒータコイルの配置関係を透視状態で示した説明図 本実施形態のライトコイル相対領域に存在するヒータ抵抗の割合を変化させた場合のヒータ温度と突き出し量のグラフ図 本発明による磁気ヘッドの他の実施形態を示した断面図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図 ヒータコイルパターンの異なる他の実施形態の説明図
符号の説明
10:磁気ディスク装置
12:筐体ベース
14:磁気ディスク
16:ロータリアクチュエータ
18:磁気ヘッド
20:ランプロード機構
22:コイル
24:下ヨーク
26:磁石
28:スライダ本体
32:ディスク移動方向
34:基板
36:リードヘッド
38:ライトヘッド
40:媒体相対面
42,44:シールド層
45:絶縁層
46:リード素子
48:磁極部
50:内側磁極
52:外側磁極
54−1:上部コイル部
54−2:下部コイル部
54−11,54−12,54−13:コイル外縁
55−1,55−2,66−1,66−2:端子パターン
56:ライトギャップ
58:オーバーコート層
60,60−1〜60−9:ヒータコイル
62:突出部
64:先端部
70:ライトコイル相対領域

Claims (9)

  1. スパイラル状の薄膜コイルパターンで構成されるライトコイルにより発生した磁束を磁極部から記録媒体に向けて放出して情報を磁気的に記録するライトヘッドと、前記ライトヘッドの近傍に配置され前記記録媒体から放出される記録磁束を電気信号に変換する読取素子を備えたリードヘッドとで構成される磁気ヘッドに於いて、
    前記ライトコイルの薄膜コイルパターンを配置した領域に相対するライトコイル相対領域に、通電過熱により媒体相対面を熱膨張により記録媒体側に突出させるヒータコイルを絶縁層を介して配置し、
    前記ヒータコイルは、前記ライトコイル相対領域の外部に幅広の端子パターンを配置し、前記ライトコイル相対領域内に前記端子パターンより幅の狭いヒータパターンを配置したことを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 請求項1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ライトコイル相対領域は、前記ヒータコイルの媒体相対面側のコイル外縁部と前記媒体相対面と反対側のコイル外縁部に略接し、且つ、前記コイル外縁部に直交する位置のコイル外縁に略接する楕円領域又は円領域であることを特徴とする磁気ヘッド。
  3. 請求項1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルを前記磁極部の内側磁極側又は外側磁極側に絶縁層を介して配置したことを特徴とする磁気ヘッド。
  4. 請求項1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、前記ライトコイル相対領域における外側磁極に相対する領域を除く領域に配置された連接パターンであることを特徴とする磁気へッド。
  5. 請求項4記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルの連接パターンは、略W字状の連接パターンであり、更に前記W字パターンの一端を領域境界に位置して領域外の端子パターンと連結し、前記W字パターンの他端を前記W字パターンの一端側に戻した後に領域境界に延在して他の端子パターンと連結したことを特徴とする磁気へッド。
  6. 請求項5記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルの連接パターンは、略W字状の連接パターンであり、前記W字パターンの一端及び他端を領域境界に延在してそれぞれ端子パターンと連結したことを特徴とする磁気へッド。
  7. 請求項2記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、前記ライトコイル相対領域の20%以上の面積を占めるようにヒータパターンを配置したことを特徴とする磁気ヘッド。
  8. 請求項1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、端子パターンとヒータパタンで構成されるヒータコイルの全抵抗の70パーセント以上の抵抗値が前記ライトコイル相対領域に存在するようにヒータパターンを配置したことを特徴とする磁気ヘッド。
  9. 請求項1記載の磁気ヘッドに於いて、前記ヒータコイルは、タングステン及びチタンタングステンを含む高抵抗発熱材料で形成されたことを特徴とする磁気ヘッド。
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