JP2008024994A - プレス打ち抜き性に優れた電気電子部品用銅合金板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置用リードフレームの素材として好適なCu−Fe−P系銅合金板の板表面の{311}面からのX線回折強度ピークの半価幅βをそのピーク高さHで割った値が0.015以上となるような転位密度を有することによって、せん断面率を低下させ、高強度で、かつ、スタンピング加工の際のプレス打ち抜き性を向上させる。
【選択図】図1
Description
本発明では、プレス打ち抜き性を向上させ、要求されるプレス打ち抜き性を満足するために、Cu−Fe−P系銅合金板表面の{311}面からのX線回折強度ピークの半価幅をそのピーク高さで割った値が0.015以上であるような、一定量以上の転位密度を有することとする。これによって、より具体的には、引張強度が500MPa以上、硬さが150Hv以上である高強度のCu−Fe−P系銅合金板のプレス打ち抜き性を向上させることができる。
Cu−Fe−P系銅合金板表面の{311}面からのX線回折強度ピークの半価幅をそのピーク高さで割った値が0.015以上であるような転位密度を導入するためには、後述する通り、最終冷間圧延での導入歪み量を大きくする。即ち、最終冷間圧延における、ロール径を80mmφ未満の小径ロールとするか、1パス当たりの圧下率を20%以上とするか、ロール長さ(ロール幅)を500mm以上とする、などの手段を選択して使用するか、組み合わせて使用する。
前記した通り、特許文献1や2で行なっている、銅合金板にリードを打抜き、その際のばり高さを測定するプレス打ち抜き性の試験条件では、この要求されるプレス打ち抜き性を正確に評価できなくなっている。
本発明では、半導体リードフレーム用などとして、引張強度が500MPa以上、硬さが150Hv以上である高強度と、前記したプレス打ち抜き性とを併せて達成する。このために、Cu−Fe−P系銅合金板として、質量%で、Feの含有量が0.01〜0.50%の範囲、前記Pの含有量が0.01〜0.15%の範囲とした、残部Cuおよび不可避的不純物からなる基本組成とする。
Feは、Fe又はFe基金属間化合物として析出し、銅合金の強度や耐熱性を向上させる主要元素である。Feの含有量が0.01%未満では、製造条件によっては、上記析出粒子の生成量が少なく、導電率の向上は満たされるものの、強度向上への寄与が不足し、強度が不足する。一方、Feの含有量が0.50%を超えると、導電率やAgメッキ性が低下する。そこで、導電率を無理に増加させるために、上記析出粒子の析出量を増やそうとすると、逆に、析出粒子の成長・粗大化を招く。このため強度とプレス打ち抜き性が低下する。したがって、Feの含有量は0.01〜0.50%の範囲とする。
Pは、脱酸作用がある他、Feと化合物を形成して、銅合金の高強度化させる主要元素である。P含有量が0.01%未満では、製造条件によっては、化合物の析出が不十分であるため、所望の強度が得られない。一方、P含有量が0.15%を超えると、導電性が低下するだけでなく、熱間加工性やプレス打ち抜き性が低下する。したがって、Pの含有量は0.01〜0.15%の範囲とする。
Znは、リードフレームなどに必要な、銅合金のはんだ及びSnめっきの耐熱剥離性を改善する。Znの含有量が0.005%未満の場合は所望の効果が得られない。一方、3.0%を超えるとはんだ濡れ性が低下するだけでなく、導電率の低下も大きくなる。したがって、選択的に含有させる場合のZnの含有量は、用途に要求される導電率とはんだ及びSnめっきの耐熱剥離性とのバランスに応じて(バランスを考慮して)、0.005〜3.0%の範囲から選択する。
Snは、銅合金の強度向上に寄与する。Snの含有量が0.001%未満の場合は高強度化に寄与しない。一方、Snの含有量が多くなると、その効果が飽和し、逆に、導電率の低下を招く。したがって、選択的に含有させる場合のSn含有量は、用途に要求される強度(硬さ)と導電率のバランスに応じて(バランスを考慮して)、0.001〜5.0%の範囲から選択して含有させることとする。
Mn、Mg、Caは、銅合金の熱間加工性の向上に寄与するので、これらの効果が必要な場合に選択的に含有される。Mn、Mg、Caの1種又は2種以上の含有量が合計で0.0001%未満の場合、所望の効果が得られない。一方、その含有量が合計で1.0%を越えると、粗大な晶出物や酸化物が生成して強度や耐熱性を低下させるだけでなく、導電率の低下も激しくなる。従って、これらの元素の含有量は総量で0.0001〜1.0%の範囲で選択的に含有させる。
これらの成分は銅合金の強度を向上させる効果があるので、これらの効果が必要な場合に選択的に含有される。これらの成分の1種又は2種以上の含有量が合計で0.001%未満の場合、所望の効果か得られない。一方、その含有量が合計で1.0%を越えると、粗大な晶出物や酸化物が生成して、強度や耐熱性を低下させるだけでなく、導電率の低下も激しく、好ましくない。従って、これらの元素の含有量は合計で0.001〜1.0%の範囲で選択的に含有させる。なお、これらの成分を、上記Mn、Mg、Caと共に含有する場合、これら含有する元素の合計含有量は1.0%以下とする。
これらの成分は不純物元素であり、これらの元素の含有量の合計が0.1%を越えた場合、粗大な晶出物や酸化物が生成して強度や耐熱性を低下させる。従って、これらの元素の含有量は合計で0.1%以下とすることが好ましい。
次に、銅合金板組織を上記本発明規定の組織とするための、好ましい製造条件について以下に説明する。本発明銅合金板は、上記転位密度を導入した本発明規定の組織とするための、最終冷間圧延条件などの好ましい条件を除き、通常の製造工程自体を大きく変えることは不要で、常法と同じ工程で製造できる。
Cu−Fe−P系銅合金板表面の{311}面からのX線回折強度ピークの半価幅をそのピーク高さで割った値が0.015以上であるような転位密度を導入するためには、後述する通り、最終冷間圧延での導入歪み量を大きくする。即ち、最終冷間圧延における、ロール径を80mmφ未満の小径ロールとするか、1パス当たりの最小圧下率(冷延率、加工率)を20%以上とするか、ロール長さ(ロール幅)を500mm以上とする、などの手段を選択して使用するか、組み合わせて使用する。
本発明では、最終冷間圧延後に、低温での最終焼鈍を行なうことが好ましい。この最終焼鈍条件は、100〜400℃で0.2分以上300分以下の低温条件とすることが好ましい。通常のリードフレームに用いられる銅合金板の製造方法では、強度が低下するため、歪み取りのための焼鈍(350℃×20秒程度)を除き、最終冷間圧延後に最終焼鈍はしない。しかし、本発明では、前記冷間圧延条件によって、また、最終焼鈍の低温化によって、この強度低下が抑制される。そして、最終焼鈍を低温で行なうことにより、プレス打ち抜き性が向上する。
銅合金板試料について、通常のX線回折法により、ターゲットにCoを用い、管電圧50kV、管電流200mA 、走査速度2°/min、サンプリング幅0.02°、測定範囲(2θ)30°〜115°の条件で、リガク製X線回折装置を用いてX線回折パターンを取得した。ここから、板表面の{311}面からのX線回折強度ピークの半価幅を前記した方法により求めた。測定は2箇所行い、半価幅はそれらの平均値とした。
銅合金板試料の硬さ測定は、マイクロビッカース硬度計にて、0.5kg の荷重を加えて3箇所行い、硬さはそれらの平均値とした。
銅合金板試料の導電率は、ミーリングにより、幅10mm×長さ300mm の短冊状の試験片を加工し、ダブルブリッジ式抵抗測定装置により電気抵抗を測定して、平均断面積法により算出した。
前記した試験条件により銅合金板試料のせん断面率(せん断面比率)を測定した。光学式マイクロスコープを用いた切断面の表面写真からの画像解析の際に、設けたリードの最大のばり高さも参考までに測定した。
前記発明例1〜14は、上記プレス打ち抜き試験において観察されたばり高さ(最大)は、いずれも5μm以下であった。また、前記比較例15〜17も、プレス打ち抜き試験におけるばり高さは、いずれも5μm以下であり、発明例と遜色は無かった。一方、前記比較例18〜21は、プレス打ち抜き試験におけるばり高さは、いずれも6μmを超えており、上記発明例よりも劣っていた。
Claims (9)
- 質量%で、Fe:0.01〜0.50%、P:0.01〜0.15%を各々含有する銅合金板であって、板表面の{311}面からのX線回折強度ピークの半価幅をそのピーク高さで割った値が0.015以上であることを特徴とするプレス打ち抜き性に優れた電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が、更に、質量%で、Sn:0.005〜5.0%を含有する請求項1に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が、更に、質量%で、Zn:0.005〜3.0%を含有する請求項1または2に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板の引張強度が500MPa以上、硬さが150Hv以上である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が、更に、質量%で、Mn、Mg、Caのうち1種又は2種以上を合計で0.0001〜1.0%含有する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が、更に、質量%で、Zr、Ag、Cr、Cd、Be、Ti、Co、Ni、Au、Ptのうち1種又は2種以上を合計で0.001〜1.0%含有する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が、更に、質量%で、Mn、Mg、Caのうち1種又は2種以上を合計で0.0001〜1.0%と、Zr、Ag、Cr、Cd、Be、Ti、Co、Ni、Au、Ptのうち1種又は2種以上を合計で0.001〜1.0%とを各々含有するとともに、これら含有する元素の合計含有量を1.0%以下とした請求項1乃至6のいずれか1項に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が、Hf、Th、Li、Na、K、Sr、Pd、W、S、Si、C、Nb、Al、V、Y、Mo、Pb、In、Ga、Ge、As、Sb、Bi、Te、B、ミッシュメタルの含有量を、これらの元素全体の合計で0.1質量%以下とした請求項1乃至7のいずれか1項に記載の電気電子部品用銅合金板。
- 前記銅合金板が半導体リードフレーム用である請求項1乃至8のいずれか1項に記載の電気電子部品用銅合金板。
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