JP2008001838A - 半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法 - Google Patents
半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008001838A JP2008001838A JP2006174301A JP2006174301A JP2008001838A JP 2008001838 A JP2008001838 A JP 2008001838A JP 2006174301 A JP2006174301 A JP 2006174301A JP 2006174301 A JP2006174301 A JP 2006174301A JP 2008001838 A JP2008001838 A JP 2008001838A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grinding
- wafer
- pressure
- sensitive adhesive
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Abstract
【解決手段】基材フィルムの片表面に、(A)アクリル系粘着剤ポリマー100質量部、(B)官能基を2個以上有する架橋剤0.1〜30質量部及び(C)分子量1000〜5000のジオール型ポリプロピレングリコール1〜30質量部を含む粘着剤層用塗布液を用いて形成された粘着剤層を有し、該(A)アクリル系粘着剤ポリマーが、(A−1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位、(A−2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位及び(A−3)ポリプロピレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するモノマー単位含むことを特徴とする。
【選択図】なし
Description
この問題を防止するために、粘着フィルムの粘着剤層の厚みを厚くし、ウェハ表面の凹部と粘着剤層の密着性を向上させる手段が採られている。しかしながら、この手段を用いた場合には、粘着フィルムのウェハ表面に対する粘着力がウェハの強度以上に大きくなり、ウェハの厚み、表面形状等の諸条件によっては、裏面研削後に該粘着フィルムをウェハ表面から剥離する際に、自動剥がし機で剥離トラブルが発生したり、時にはウェハを完全に破損してしまうことがあった。
ここに開示される半導体ウェハの保護部材(粘着フィルム)は、その感圧接着層(粘着剤層)に水溶性ポリマーを含有することによって、該保護部材を回路パターン形成面等から剥離した後に、有機溶剤による前洗浄をすることなく直接水洗しても充分に清澄に洗浄処理でき、従って有機溶剤による前洗浄を省略できると記載されている。さらに、裏面研磨時等における接着界面への水の浸入防止、研磨屑による回路パターン形成面等への汚染防止、剥がれによるウェハ損傷の防止等の保護機能、及び剥離時における研磨ウェハ等の割れ防止の剥離容易性も満足し、且つ、ブリードで半導体ウェハに付着した水溶性ポリマーも水洗で容易に洗浄することができるとも記載されている。
加えて、近年の半導体ウェハ表面の多様化により、粘着剤の一部が残り易い表面形状を有するウェハが多くなってきている。例えば、スマートカード用途に適したチップを有するウェハとして、高さ5〜100μmの突起状のハイバンプ電極を有するウェハが生産されるようになってきている。このような突起状のハイバンプ電極を表面に有する半導体ウェハの裏面を研削する場合には、研削後のウェハから粘着フィルムを剥離する際に、ウェハの表面に粘着剤の一部が残り、ウェハ表面を汚染することがあった。この糊残りによる汚染は、特にハイバンプ電極の周辺に発生することが多く、その場合には洗浄等の後処理によっても汚染の除去が困難であり、特に大きな問題となることがあった。このようなハイバンプ電極周辺に発生する糊残りによる汚染は、特許文献2に開示される半導体ウェハの保護部材を用いた場合でも、水洗による汚染の除去が不十分となることがあった。
<1> 半導体ウェハの裏面を研削する際にその回路形成表面に貼着される半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムであって、基材フィルムの片表面に、(A)アクリル系粘着剤ポリマー、及び、該(A)アクリル系粘着剤ポリマー100質量部に対し、(B)1分子中に官能基を2個以上有する架橋剤0.1〜30質量部と、(C)重量平均分子量1000〜5000の両末端官能基がジオール型のポリアルキレングリコール1〜20質量部と、を含む粘着剤層用塗布液を用いて形成された粘着剤層を有し、該(A)アクリル系粘着剤ポリマーが、モノマー全量中、(A−1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位を60質量%〜98質量%、(A−2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位を1質量%〜30質量%、及び(A−3)ポリプロピレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するモノマー単位を1質量%〜10質量%含有してなるモノマー組成物により調製されたポリマーであることを特徴とする半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム。
また、前記(A−1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位が、炭素数1〜12のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル単位であること、前記(A−2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位が、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、及びメタクリルアミドから選ばれた少なくとも1種のモノマー単位であること、(B)架橋剤の分子内に存在する架橋反応性官能基が、エポキシ基、イソシアネート基、アジリジン基及びメラミン基なる群から選ばれた少なくとも1種の官能基であることが好ましい。
ここで粘着フィルムに用いられる基材フィルムの厚みは目的に応じて適宜選択されるが、10〜500μmであることが好ましい。
具体的には、本発明によれば、半導体ウェハの裏面を研削するに際し、ウェハ表面と粘着剤層との間に水及び研削屑が浸入することに起因するウェハの破損及びウェハ表面の汚染が起こらない。粘着力が適正な範囲にあるため、粘着フィルムをウェハから剥離する際のウェハの破損が起こらず、光照射装置等の設備を新たに工程に導入する必要もない。さらに、粘着フィルムをウェハから剥離した後に糊残りや粘着剤層からの低分子成分のブリードアウトが生じないので、半導体ウェハの表面を汚染することがない。
[半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム]
本発明の半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム(以下、単に「粘着フィルム」と称する場合がある。)は、半導体ウェハの裏面を研削する際にその回路形成表面に貼着される半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムであって、基材フィルムの片表面に、(A)アクリル系粘着剤ポリマー、及び、該(A)アクリル系粘着剤ポリマー100質量部に対し、(B)1分子中に官能基を2個以上有する架橋剤0.1〜30質量部と、(C)重量平均分子量1000〜5000のジオール型ポリプロピレングリコール1〜20質量部と、を含む粘着剤層用塗布液を用いて形成された粘着剤層を有し、該(A)アクリル系粘着剤ポリマーが、モノマー全量中、(A−1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位を60質量%〜98質量%、(A−2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位を1質量%〜30質量%、及び(A−3)ポリプロピレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するモノマー単位を1質量%〜10質量%含有してなるモノマー組成物により調製されたポリマーであることを特徴とする。
以下、本発明の粘着フィルムの各構成要素について詳細に説明する。
本発明に係る粘着剤層用塗布液は、(A)アクリル系粘着剤ポリマー(以下、適宜「粘着剤ポリマー」と称する。)を必須成分として含有する。
本発明に係る(A)粘着剤ポリマーとしては、(A−1)アクリル酸アルキルエステル及び/又はメタクリル酸アルキルエステルを主モノマーとして、(A−2)架橋剤と反応し得る官能基を有するコモノマー、及び、(A−3)ポリプロピレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するモノマー単位を含むモノマー混合物を共重合して得られるポリマーであることが好ましい。
(A)粘着剤ポリマーの共重合形成に用いられる主モノマーとしては、アクリル酸アルキルエステル及びメタクリル酸アルキルエステルからなる群より選択されるモノマーが好ましく、炭素数1〜12のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル単位であることがより好ましい。
具体的には、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル等が挙げられる。これらは単独で使用しても、また、2種以上を混合して使用してもよい。
なお、本明細書中においては、アクリル、メタクリルの双方或いはこれらのいずれかを指す場合、「(メタ)アクリル」と記載することがある。
前記主モノマーである(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマーの使用量は、粘着剤ポリマーの原料となる全モノマーの総量中に、60質量%〜98質量%の範囲で含まれていることが好ましく、さらに好ましくは70質量%〜98質量%の範囲である。
上記(A−1)モノマーと共重合させうる(A−2)架橋剤と反応し得る官能基を有するコモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキルエステル、メサコン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、マレイン酸モノアルキルエステル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ターシャル−ブチルアミノエチルアクリレート、ターシャル−ブチルアミノエチルメタクリレート等が挙げられ、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、及びメタクリルアミドから選ばれた少なくとも1種のモノマー単位であることがより好ましい。
これらのコモノマーは、1種を上記(A−1)モノマーと共重合させてもよいし、また2種以上を共重合させてもよい。
架橋剤と反応しうる官能基を有するコモノマーの使用量は、粘着剤ポリマーの原料となる全モノマーの総量中に、通常、1質量%〜30質量%の範囲で含まれていることが好ましく、さらに好ましくは、1質量%〜20質量%の範囲である。
本発明においては、(A)粘着剤ポリマーの形成に際して、前記(A−1)モノマー、(A−2)モノマーに加えて、(A−3)ポリアルキレングリコールの末端ジオール基と反応し得るモノマー単位を用いる。このモノマー単位を加えることにより、(A)粘着剤ポリマーと共存して、易剥離性を達成する(C)ポリアルキレングリコールの末端ジオール基と、(A)粘着剤ポリマー中に存在するイソシアネート官能基とが架橋反応を形成し、ポリアルキレングリコールのブリードを効果的に抑制することができる。
具体的には、例えば、2−メタクロイル−オキシ−エチルイソシアネート、2−アクリロイル−オキシ−エチルイソシアネート、1,1−ビスアクリロイル−オキシ−エチルイソシアネートなどが挙げられる。
(A−3)モノマーは、1種のみを用いても、2種以上を併用してもよい。
また、(A)粘着剤ポリマーを構成する全モノマー中、(A−3)モノマーは、1質量%〜10質量%の範囲で含まれることが好ましく、2質量%〜10質量%の範囲であることがより好ましい。
本発明に用いうる重合性界面活性剤の例としては、例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルのベンゼン環に重合性の1−プロペニル基を導入したもの〔例えば、第一工業製薬(株)製;アクアロンRN−10、同RN−20、同RN−30、同RN−50等〕、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルの硫酸エステルのアンモニウム塩のベンゼン環に重合性の1−プロペニル基を導入したもの〔例えば、第一工業製薬(株)製;アクアロンHS−10、同HS−20等〕、及び、分子内に重合性二重結合を持つ、スルホコハク酸ジエステル系のもの〔例えば、花王(株)製;ラテムルS−120A、同S−180A等〕等が挙げられる。
本発明においては、上記した、(A)粘着剤ポリマーと共に、(B)1分子中に官能基を2個以上有する架橋剤を含有する。
本発明に用いうる(B)架橋剤としては、1分子中に2個以上の架橋反応性官能基を有する架橋剤であることが好ましく、前記粘着剤ポリマーにおいて(A−2)モノマーに由来する架橋剤と反応し得る官能基と(B)架橋剤の架橋反応性官能基が架橋構造を形成することにより、粘着剤層の固定化が達成され、粘着剤層における種々の物性が調整される。
このような官能基を有し、本発明に好適に用いうる架橋剤としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、レソルシンジグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパンのトルエンジイソシアネート3付加物、ポリイソシアネート等のイソシアネート系化合物、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N’−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、トリメチロールプロパン−トリ−β−(2−メチルアジリジン)プロピオネート等のアジリジン系化合物、及びヘキサメトキシメチロールメラミン等のメラミン系化合物等が挙げられる。
架橋剤の中でも、エポキシ系架橋剤は架橋反応の速度が遅く、反応が十分に進行しない場合には粘着剤層の凝集力が低くなり、半導体ウェハ表面の形状によっては粘着剤層に起因する汚染が生じることがある。したがって、適宜、アミン等の触媒を含有するか、もしくは触媒作用のあるアミン系官能基をもつモノマーを粘着剤ポリマーに共重合するか、架橋剤を使用する際にアミンとしての性質を有するアジリジン系架橋剤を併用することが好ましい。
本発明における他の架橋剤の好ましい含有量は、前記(A)粘着剤ポリマー100質量部に対し、0.1〜30質量部であることが好ましく、0.2〜15質量部であることが特に好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲において、粘着剤層の十分な凝集力が達成され、ウェハ表面(特にハイバンプ電極を有するウェハの場合には該ハイバンプ電極の周辺)に粘着剤層に起因する糊残りを生じやすくなる、粘着フィルムをウェハ表面から剥離する際に自動剥がし機で剥離トラブルが発生したり、ウェハを破損するといった事態の発生を抑制することができ、粘着剤層とウェハ表面との十分な密着力が得られるため、研削中に水や研削屑が浸入し、ウェハを破損したり、研削屑によるウェハ表面の汚染が生じたりすることがない。
本発明に係る粘着剤層用塗布液は、上記(A)アクリル系粘着剤ポリマー、(B)架橋剤にくわえ、さらに、(C)重量平均分子量1000〜5000のジオール型ポリプロピレングリコールを必須成分として含有する。
このように、分子内に親水性の官能基を有し、且つ、所定の分子量を有するポリプロピレングリコールを粘着剤層に使用することで、適切な粘着力が達成でき、ウェハ表面と粘着剤層との優れた密着性と、剥離時における易剥離性を両立させることが可能となった。
ポリアルキレングリコールの重量平均分子量は、アクリル系樹脂エマルジョン型粘着剤に均一分散が可能であり、且つ、経時安定性に優れるといった観点から、1000〜5000のものが好ましく、さらに好ましい重量平均分子量1000〜3000の範囲である。
この分子量の範囲において、(C)特定ポリプロピレングリコールの塗布時や半導体ウェハ加工用フィルムの保管時における経時的な飛散が抑制され、適度な粘着力が持続するともに、エマルジョン型の粘着剤塗布液にも均一分散し易い。
なお、本発明における特定ポリプロピレングリコールの重量平均分子量は、ポリスチレンを標準物質としてゲルパーミションクロマトグラフィー(GPC)により測定した値である。
また、粘着特性を調整するために、ロジン系、テルペン樹脂系等のタッキファイヤー、各種界面活性剤等の任意成分を、本発明の効果に影響しない程度に適宜含有してもよい。
i) 基材フィルムの片表面に、粘着剤層用塗布液を塗布・乾燥して粘着剤層を形成する方法
ii) 粘着剤層上に貼着する剥離フィルムの片表面に、粘着剤層用塗布液を塗布・乾燥して粘着剤層を形成した後、該粘着剤層を基材フィルム上に転写する方法
上記i)の方法により粘着剤層を形成する場合には、環境に起因する汚染等から保護するために、形成された粘着剤層の表面に剥離フィルムを貼着することが好ましい。
例えば、剥離フィルムの耐熱性が基材フィルムのそれより優れている場合は、剥離フィルムの表面に粘着剤層を設けた後、基材フィルムへ転写することが好ましい。剥離フィルムの耐熱性が基材フィルムと同等または基材フィルムの方が優れている場合は、基材フィルムの表面に粘着剤層を設け、その表面に剥離フィルムを貼着することが好ましい。
本発明における基材フィルムとしては、合成樹脂をフィルム状に成型加工したものを用いる。基材フィルムは単層体であっても、また、積層体であってもよい。基材フィルムの厚みは10μm〜500μmであることが好ましく、より好ましくは70〜500μmの範囲である。基材フィルムの原料樹脂としては、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の合成樹脂が挙げられる。これらの中で、裏面研削中のウェハの保護性能を考慮すれば、ASTM−D−2240−86、またはJIS Kー7215−1986に規定されるショアーD型硬度が40以下である原料樹脂が特に好ましい。これらの樹脂をフィルム状に成型加工する際には、必要に応じて、安定剤、滑剤、酸化防止剤、顔料、ブロッキング防止剤、可塑剤、等を添加してもよい。基材フィルムを成型加工する際に安定剤等の各種添加剤を添加した場合、添加剤が粘着剤層に移行して、粘着剤の特性を変化させたり、ウェハ表面を汚染することがある。このような場合には、基材フィルムと粘着剤層の間にバリヤー層を設けることが好ましい。
本発明に使用する基材フィルムは、カレンダー法、Tダイ押出法、インフレーション法等、公知の技術により製造されるものの中から、生産性、得られるフィルムの厚み精度等を考慮して選択することができる。
塗布された粘着剤層の乾燥条件には特に制限はないが、一般的には、80〜200℃の温度範囲において10秒〜10分間乾燥することが好ましく、80〜170℃において15秒〜5分間乾燥することがさらに好ましい。
次に、本発明の半導体ウェハの裏面研削方法について説明する。
本発明の半導体ウェハの裏面研削方法は、半導体ウェハの裏面を研削する際に、上述した本発明の半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムを用いることを特徴とする。
粘着フィルムを半導体ウェハに貼着する操作は、人手により行われる場合もあるが、一般に、ロール状の粘着フィルムを取り付けた自動貼り機と称される装置によって行われる。この様な自動貼り機として、例えば、タカトリ(株)製ATM−1000B、同ATM−1100、帝国精機(株)製STLシリーズ等がある。
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、実施例に示した各種特性値は下記の方法で測定した。
下記に規定した条件以外は、全てJIS Z−0237(2000年度版)に準じて測定した。23℃の雰囲気下において、実施例または比較例で得られた粘着フィルムをその粘着剤層を介して、5×20cmのSUS304−BA板(JIS G−4305−1991年規定)の表面に貼着し、1時間放置した。試料の一端を挟持し、剥離角度180度、剥離速度300mm/min.でSUS304−BA板の表面から試料を剥離する際の応力を測定し、N/25mmの粘着力に換算した。
高さ8μmのハイバンプ電極を有する100mm2の集積回路が周辺まで組み込まれた半導体シリコンウェハ(直径:200mm、厚み:600μm、スクライブラインの幅:100μm、スクライブラインの深さ:5μm)の表面に、実施例または比較例で得られた粘着フィルムを貼着し、研削機を用いて、水をかけて冷却しながら半導体シリコンウェハの裏面を研削して、厚みを約200μmとした。
各粘着フィルム毎に10枚の半導体シリコンウェハについて裏面研削を行い、下記<1>〜<3>の各評価を行った。
また、ウェハ汚染性については、下記<4>の評価を行った。
半導体シリコンウェハ裏面の研削終了後、半導体シリコンウェハの破損状況を破損した枚数で評価した。
<2>裏面研削時の水浸入
研削により破損しなかった半導体シリコンウェハについて、表面と粘着フィルムとの間に周辺から水が浸入したか否かを目視で観察し、水浸入が生じた枚数で評価した。
<3>粘着フィルム剥離時のウェハの破損状況
水浸入の観察終了後、表面保護テープ剥がし機{日東精機(株)製、MODEL:HR−8500;使用剥がしテープ:ハイランド印フィラメントテープNo.897〔住友スリーエム(株)製〕}で該粘着フィルムを剥離し、粘着フィルム剥離時の破損状況を破損した枚数で評価した。
ESCA(島津製 ESCA−3200)により、シリコンミラーウェハチップ表面の汚染性を評価した。
試料用の粘着フィルムをその粘着剤層を介して異物が付着していないシリコンミラーウェハ(直径:4インチ、厚み:600μm)の全表面に貼着した状態で、温度23±2℃、相対湿度50±5%に調整された雰囲気中に60分放置した後、粘着フィルムをシリコンミラーウェハから研削機〔(株)ディスコ製、形式:DFG−82IF/8〕を用いて剥離し、次いでダイヤモンドグラスカッター〔(株)井内盛栄堂製〕を用いて、シリコンミラーウェハを1cm角に切断した。切断した1cm角のシリコンミラーウェハから無作為に5個を採取し、それらの表面に対してESCAによる分析を下記条件にて実施し、C/Si比(5個の平均値)を求め、有機物による該チップ表面の汚染状況を測定した。
<ESCA測定条件>
X線源;Mg−Kα線(1252.0eV)、X線出力;300W、測定真空度;2×10−7Pa以下、C/Si比;(炭素のピーク面積)/(珪素のピーク面積)。
<C/Si比の評価方法>
粘着フィルムを貼着する前のシリコンミラーウェハ表面のC/Si比は、0.10(ブランク値)である。
評価基準としては、粘着フィルムを貼着した後のシリコンミラーウェハチップ表面のC/Si比が0.10〜0.20程度のチップ表面に対しては汚染無しとして「良好」と評価し、それを超えるチップ表面に対しては汚染有りとして「不良」と評価した。
(基材フィルムの作製)
ショアーD型硬度が35のエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂をT−ダイ押出機を用いて、厚さ200μmのフィルムに形成した。この際、粘着剤層を形成する側にコロナ処理を施した。得られたフィルムの厚みバラツキは±1.5%以内であった。
粘着剤ポリマーを合成するモノマー原料として、(A−1)アクリル酸ブチル80質量%と(A−1)メタクリル酸メチル8質量%、(A−2)メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル3質量%、(A−2)アクリル酸2質量%、(A−3)メタクロイル−オキシ−エチルイソシアネート7質量%を準備し、これらを酢酸エチル中で常法により共重合させ、数平均分子量が50万のアクリル系共重合体を固形分として50質量%含む粘着剤ポリマー溶液を得た。
得られた粘着剤主剤溶液100質量部((A)粘着剤ポリマー濃度40質量%)に、(B)アジリジン系架橋剤〔日本触媒化学工業(株)製、ケミタイトPZ−33〕1.0質量部、及び(C)重量平均分子量が3000でジオール型のポリプロピレングリコール10質量部を加え、粘着剤塗布液を得た。
(粘着フィルムの作製)
得られた粘着剤層用塗布液を、ロールコーターを用いてポリプロピレンフィルム(剥離フィルム、厚み:50μm)に塗布し、120℃で5分間乾燥し厚さ40μmの粘着剤層を設けた。これに前述のエチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム(基材フィルム)のコロナ処理面を貼り合わせ押圧して、粘着剤層を転写させた。転写後、60℃において48時間加熱した後、室温まで冷却することにより半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
1.粘着力
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定した。得られた粘着フィルムの粘着力は1.2N/25mmであった。
2.実用評価
得られた粘着フィルムを、高さ8μmのハイバンプ電極を有する100mm2の集積回路が周辺まで組み込まれた半導体シリコンウェハ(直径:200mm、厚み:600μm、スクライブラインの幅:100μm、スクライブラインの深さ:5μm)の表面(集積回路側)に貼着した。
<2−1>裏面研削時のウェハの破損状況
研削機を用いて、水をかけて冷却しながら半導体シリコンウェハの裏面を、研削後の厚みが約200μmになるまで研削した。同様のウェハ10枚に対して同様の操作を行った。前記評価方法に従い破損の有無を確認したところ、研削中に破損したウェハは皆無であった。
<2−2>裏面研削時の水浸入
研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に水浸入は観察されなかった。
これら10枚のウェハから、表面保護テープ剥がし機{日東精機(株)製、MODEL:HR−8500;使用剥がしテープ:ハイランド印フィラメントテープNo.897〔住友スリーエム(株)製〕}を用いて粘着フィルムを剥離した。粘着フィルム剥離中に破損したウェハは皆無であった。
研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に破損したウェハも皆無であった。
<2−4>ESCAによる汚染状況評価
ウェハ表面の汚染性の指標であるESCAのC/Si値は0.17であり、汚染性が「良好」であることが観察された。
得られた結果を表1に示す。
実施例1の粘着剤層用塗布液の調製において、(C)重量平均分子量が3000のポリプロピレングリコールの代わりに、(C)重量平均分子量1000のポリエチレングリコールを使用し、添加量を15質量部とした以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
粘着フィルムの粘着力は1.0N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した。研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に破損したウェハも皆無であった。表面を水洗した後の半導体シリコンウェハの表面には、粘着剤等による汚染等は観察されなかった。
得られた結果を表1に示す。
実施例1の粘着剤層用塗布液の調製において、(B)アジリジン系架橋剤1. 0質量部の代わりに、(B)エポキシ系架橋剤(ナガセ化成工業(株)製、デナコールEX−611)を使用し、添加量を5質量部とした以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は2.5N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した。研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に破損したウェハも皆無であった。表面を水洗した後の半導体シリコンウェハの表面には、粘着剤等による汚染等は観察されなかった。
得られた結果を表1に示す。
実施例1の粘着剤層用塗布液の調製において、(C)重量平均分子量が3000のポリプロピレングリコールの添加量を20質量部とした以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は0.8N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した。研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に破損したウェハも皆無であった。表面を水洗した後の半導体シリコンウェハの表面には、粘着剤等による汚染等は観察されなかった。
得られた結果を表1に示す。
実施例1の粘着剤塗布液の調製において、(C)重量平均分子量が3000のポリプロピレングリコールの代わりに、(C)重量平均分子量4500のポリエチレングリコールを使用し、添加量を5質量部とした以外は全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は2.5N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した。研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に破損したウェハも皆無であった。表面を水洗した後の半導体シリコンウェハの表面には、粘着剤等による汚染等は観察されなかった。
得られた結果を表1に示す。
実施例1の粘着剤ポリマーの重合において(A−1)メタクリル酸メチルを15質量部%とし、(A−3)メタクロイル−オキシ−エチルイソシアネートを使用しなかった以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は1.0N/25mmであった。
研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に破損したウェハも皆無であった。また、ウェハ表面の汚染性の指標であるESCAのC/Si値が0.25と大きく、汚染性が不良であることが観察された。
得られた結果を表2に示す。
実施例1の粘着剤塗布液の調製において、(C)ポリプロピレングリコールを用いなかった以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は2.5N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した。研削中に破損したウェハはであったが、粘着フィルム剥離中に破損したウェハは3枚であった。また、ウェハ表面の汚染性の指標であるESCAのC/Si値が0.23であり、汚染性が不良であることが観察された。
得られた結果を表2に示す。
実施例1の粘着剤塗布液の調製において、(B)アジリジン系架橋剤を用いなかった以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は2.0N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した。研削中に破損したウェハは皆無であり、研削終了後、ウェハと粘着フィルムの間に、水浸入は観察されなかった。粘着フィルム剥離中に1枚のウェハが破損した。ウェハ表面の汚染性の指標であるESCAのC/Si値が0.35となり、汚染性が不良であることが観察された。
得られた結果を表2に示す。
実施例1の粘着剤塗布液の調製において、(C)重量平均分子量が3000のポリプロピレングリコールの代わりに、本発明の範囲外である重量平均分子量500のポリエチレングリコールを使用し、添加量を20質量部とした以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
得られた粘着フィルムについて、前記の方法により、粘着力(N/25mm)を測定し、更に、実用評価を行った。
得られた粘着フィルムの粘着力は0.4N/25mmであった。
この粘着フィルムについて、実施例1と同様の半導体シリコンウェハを用いて実施例1と同様の方法で評価した研削中に水浸入が原因で2枚のウェハが破損した。研削終了後、破損しなかった8枚のウェハの全てについて、水浸入が観察された。ウェハ表面の汚染性の指標であるESCAのC/Si値が0.18となり、汚染性は良好であることが観察された。
得られた結果を表2に示す。
実施例1の粘着剤塗布液の調製において(C)重量平均分子量が3000のポリプロピレングリコールの代わりに、本発明の範囲外である重量平均分子量が10000のポリプロピレングリコールを使用し、添加量を5質量部とした以外は、全て実施例1と同様の方法で半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。
しかし、配合後の粘度が1000cps以上と高くなり、実施例1と同様のEVAフィルムのコロナ処理面にロールコーターにて塗布できなかったため、目的とする半導体ウェハ加工用フィルムを得ることができなかった。
Claims (2)
- 半導体ウェハの裏面を研削する際にその回路形成表面に貼着される半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムであって、基材フィルムの片表面に、(A)アクリル系粘着剤ポリマー、及び、該(A)アクリル系粘着剤ポリマー100質量部に対し、(B)1分子中に官能基を2個以上有する架橋剤0.1〜30質量部と、(C)重量平均分子量1000〜5000の両末端官能基がジオール型のポリアルキレングリコール1〜20質量部と、を含む粘着剤層用塗布液を用いて形成された粘着剤層を有し、該(A)アクリル系粘着剤ポリマーが、モノマー全量中、(A−1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー単位を10質量%〜98質量%、(A−2)架橋剤と反応しうる官能基を有するモノマー単位を1質量%〜30質量%、及び(A−3)ポリアルキレングリコールの末端ジオール基と反応し得るイソシアネート官能基を有するアクリル酸エステルモノマー単位を1質量%〜10質量%含有してなるモノマー組成物により調製されたポリマーであることを特徴とする半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム。
- 半導体ウェハの回路形成表面に請求項1に記載の粘着フィルムを貼着して、半導体ウェハの裏面を研削し、研削終了後に該粘着フィルムを剥離することを特徴とする半導体ウェハの裏面研削方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006174301A JP4875414B2 (ja) | 2006-06-23 | 2006-06-23 | 半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006174301A JP4875414B2 (ja) | 2006-06-23 | 2006-06-23 | 半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008001838A true JP2008001838A (ja) | 2008-01-10 |
JP4875414B2 JP4875414B2 (ja) | 2012-02-15 |
Family
ID=39006483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006174301A Expired - Fee Related JP4875414B2 (ja) | 2006-06-23 | 2006-06-23 | 半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4875414B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009279661A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置、半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置 |
WO2010098291A1 (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 日東電工株式会社 | 表面保護フィルム用粘着剤組成物とその利用 |
JP2011037928A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 帯電防止性感圧式接着剤組成物、並びにそれを用いてなる帯電防止性感圧式接着シート、及び積層体 |
JP2011054934A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-03-17 | Nitto Denko Corp | 半導体加工用シート |
JP2012131975A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-07-12 | Nitto Denko Corp | 表面保護シート |
JP5255717B1 (ja) * | 2012-05-23 | 2013-08-07 | 古河電気工業株式会社 | 半導体加工用表面保護粘着テープ |
JP2013181109A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Nitto Denko Corp | 粘着シート |
WO2013161759A1 (ja) * | 2012-04-24 | 2013-10-31 | 昭和電工株式会社 | 透明粘接着シート用組成物、その製造方法及び透明粘接着シート |
US8685535B2 (en) | 2010-02-22 | 2014-04-01 | Nitto Denko Corporation | Surface protective film |
JP2014150239A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-08-21 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 一時的結合 |
JP2014157909A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体装置の製造方法 |
JP2017014514A (ja) * | 2010-11-30 | 2017-01-19 | 日東電工株式会社 | 表面保護シート |
JP2017105892A (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 粘着剤およびそれを用いた粘着シート |
WO2023243459A1 (ja) * | 2022-06-14 | 2023-12-21 | 日東電工株式会社 | 保護シート |
-
2006
- 2006-06-23 JP JP2006174301A patent/JP4875414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009279661A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 半導体装置、半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置 |
WO2010098291A1 (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 日東電工株式会社 | 表面保護フィルム用粘着剤組成物とその利用 |
JP2010222565A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-10-07 | Nitto Denko Corp | 表面保護フィルム用粘着剤組成物とその利用 |
JP2011054934A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-03-17 | Nitto Denko Corp | 半導体加工用シート |
JP2011037928A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 帯電防止性感圧式接着剤組成物、並びにそれを用いてなる帯電防止性感圧式接着シート、及び積層体 |
US8685535B2 (en) | 2010-02-22 | 2014-04-01 | Nitto Denko Corporation | Surface protective film |
JP2012131975A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-07-12 | Nitto Denko Corp | 表面保護シート |
JP2017014514A (ja) * | 2010-11-30 | 2017-01-19 | 日東電工株式会社 | 表面保護シート |
JP2013181109A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Nitto Denko Corp | 粘着シート |
WO2013161759A1 (ja) * | 2012-04-24 | 2013-10-31 | 昭和電工株式会社 | 透明粘接着シート用組成物、その製造方法及び透明粘接着シート |
CN103733316B (zh) * | 2012-05-23 | 2015-05-27 | 古河电气工业株式会社 | 半导体加工用表面保护粘着带 |
CN103733316A (zh) * | 2012-05-23 | 2014-04-16 | 古河电气工业株式会社 | 半导体加工用表面保护粘着带 |
TWI448530B (zh) * | 2012-05-23 | 2014-08-11 | Furukawa Electric Co Ltd | Surface protection adhesive tape for semiconductor processing |
KR101460935B1 (ko) | 2012-05-23 | 2014-11-13 | 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 | 반도체 가공용 표면 보호 점착 테이프 |
JP5255717B1 (ja) * | 2012-05-23 | 2013-08-07 | 古河電気工業株式会社 | 半導体加工用表面保護粘着テープ |
WO2013176120A1 (ja) * | 2012-05-23 | 2013-11-28 | 古河電気工業株式会社 | 半導体加工用表面保護粘着テープ |
JP2014150239A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-08-21 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 一時的結合 |
JP2014157909A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体装置の製造方法 |
JP2017105892A (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 粘着剤およびそれを用いた粘着シート |
WO2023243459A1 (ja) * | 2022-06-14 | 2023-12-21 | 日東電工株式会社 | 保護シート |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4875414B2 (ja) | 2012-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4875414B2 (ja) | 半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法 | |
KR101350045B1 (ko) | 다이싱용 점착 시트 및 그것을 이용한 피가공물의 가공방법 | |
KR100696287B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 보호방법 | |
JP2003173994A (ja) | 半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハの保護方法 | |
US7201969B2 (en) | Pressure-sensitive adhesive film for the surface protection of semiconductor wafers and method for protection of semiconductor wafers with the film | |
KR20060047526A (ko) | 반도체 웨이퍼 표면보호필름 및 상기 보호필름을 사용하는반도체 웨이퍼의 보호 방법 | |
JP4054113B2 (ja) | 半導体ウエハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハの裏面研削方法 | |
JP4707805B2 (ja) | 半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハ表面の保護方法 | |
JP2002069396A (ja) | 半導体ウエハ保護用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハの裏面加工方法 | |
JP4266120B2 (ja) | 半導体ウェハ表面保護用粘着フィルム及び該粘着フィルムを用いる半導体ウェハの保護方法 | |
JP4054219B2 (ja) | 半導体ウェハ表面保護用粘着フィルム及び該粘着フィルムを用いる半導体ウェハ保護方法 | |
JP2008001822A (ja) | 半導体ウェハの加工方法及びそれに用いる半導体ウェハ加工用粘着フィルム、並びに、半導体ウェハ加工用粘着フィルムの製造方法 | |
JPWO2003083002A1 (ja) | 半導体ウェハ表面保護用粘着フィルム及び該粘着フィルムを用いる半導体ウェハの保護方法 | |
JP3594581B2 (ja) | 半導体ウェハ保護方法及び該保護方法に用いる半導体ウェハ表面保護用粘着フィルム | |
JP3729584B2 (ja) | 半導体ウエハの裏面研削方法及びその方法に用いる粘着フィルム | |
JP4663081B2 (ja) | 半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウェハ裏面研削方法 | |
JP4452127B2 (ja) | 半導体ウェハ表面保護用粘着フィルム及び該粘着フィルムを用いる半導体ウェハ保護方法 | |
JP4054111B2 (ja) | 半導体ウエハの裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハの裏面研削方法 | |
JPH09153471A (ja) | 半導体ウエハダイシング用粘着フィルム及びその使用方法 | |
JP2005019759A (ja) | 半導体ウェハ表面保護用粘着フィルム及び該粘着フィルムを用いる半導体ウェハ保護方法 | |
JP4707936B2 (ja) | 半導体ウエハの表面保護用粘着フィルム、及び該粘着フィルムを用いる半導体ウエハの保護方法 | |
JP4511840B2 (ja) | 粘着フィルムおよびそれを用いた半導体ウエハの保護方法 | |
JP2005244206A (ja) | 半導体ウエハの保護方法および半導体ウエハ保護用粘着フィルム | |
JPH097981A (ja) | 半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルム | |
JP4309671B2 (ja) | 半導体ウェハ裏面研削用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウェハ裏面研削方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080812 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20111006 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20111006 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111125 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4875414 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |