JP2007531556A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 処方線量の高エネルギー連続エネルギー（ｐｏｌｙｅｎｅｒｇｅｔｉｃ）陽イオンを標的体積に提供するために陽イオンビームシーケンスを生成する方法であって、
   ａ）複数のビーム角度と、処方計画と、線量拘束値とを提供する工程と、
   ｂ）ビームスキャンシーケンスに基づいて計画最適化工程を提供する工程と、
   ｃ）前記ビームスキャンシーケンスを前記ビーム角度、処方計画、および線量拘束値に適用して、計画最適化結果を生成するものである、前記適用する工程と、
   ｄ）前記計画最適化結果を前記処方計画と比較する工程と、
   ｅ）前記計画最適化結果が許容範囲内になるまで、前記ビームスキャンシーケンスを変調し工程ｂ）、ｃ）、およびｄ）を反復する工程と
   を有する方法。
2. 請求項１記載の方法において、前記ビームスキャンシーケンスは、ビームレット（ｂｅｍｌｅｔ）の横方向スキャン、ビームレットの深度方向スキャン、ビームレットの３Ｄスキャン、またはこれらの任意の組み合わせを有するものである。
3. 処方線量の高エネルギー連続エネルギー陽イオンを標的体積に提供する方法であって、
   ａ）複数のビーム角度と、処方計画と、線量拘束値とを提供する工程と、
   ｂ）ビームスキャンシーケンスに基づいて計画最適化工程を提供する工程と、
   ｃ）前記ビームスキャンシーケンスを前記ビーム角度、処方計画、および線量拘束値に適用して、計画最適化結果を生成するものである、前記適用する工程と、
   ｄ）前記計画最適化結果を前記処方計画と比較する工程と、
   ｅ）前記計画最適化結果が許容範囲内になるまで、前記ビームスキャンシーケンスを変調し工程ｂ）、ｃ）、およびｄ）を反復する工程と、
   ｆ）前記計画最適化結果に従って複数のビームレットで標的体積を照射する工程と
   を有する方法。
4. 陽子放射線量を標的領域に提供する方法であって、
   複数の変調連続エネルギー陽子ビームレットを提供する工程と、
   前記標的領域に前記複数の変調連続エネルギー陽子ビームレットを照射する工程と
   を有する方法。
5. 請求項４記載の方法において、前記複数の変調連続エネルギービームレットの少なくとも一部は、強度について変調されるものである。
6. 請求項４記載の方法において、前記複数の変調連続エネルギービームレットの少なくとも一部は、標的領域をその深度方向に照射するよう、変調されるものである。
7. 請求項４記載の方法において、前記複数の変調連続エネルギービームレットは、前記標的領域の外部の照射面積を最小化するよう線量を最適化するため、変調されるものである。
8. 請求項４記載の方法において、前記複数の変調連続エネルギー陽子ビームレットは、
   複数の高エネルギー連続エネルギー陽子を有するレーザー加速高エネルギー連続エネルギーイオンビームを形成する工程であって、前記複数の高エネルギー連続エネルギー陽子はエネルギーレベル分布を有するものである、前記形成する工程と、
   コリメーション装置を使って、前記レーザー加速イオンビームをコリメート（平行に）する工程と、
   前記高エネルギー連続エネルギー陽子を、当該高エネルギー連続エネルギー陽子のエネルギーレベルに従い、第１の磁場を使って空間的に分離させる工程と、
   開口部を使って、空間的に分離された高エネルギー連続エネルギー陽子を変調する工程と、
   第２の磁場を使って、変調された高エネルギー連続エネルギー陽子を再結合する工程と
   により提供されるものである。
9. 陽イオン放射線量を標的領域に提供する方法であって、
   複数の変調連続エネルギー陽イオンビームレットを提供する工程と、
   前記標的領域に前記複数の変調連続エネルギー陽イオンビームレットを照射する工程と
   を有する方法。
10. 陽子放射線量を標的領域に提供する方法であって、
    複数の変調連続エネルギー陽子ビームレットを提供する工程であって、当該変調連続エネルギービームレットの各々が、ビームレットエネルギー分布、ビームレット強度、ビームレット方向、ビームレット面積、またはビームレット形状のうち少なくとも１つに従って個別に変調される、工程と、
    前記標的領域に前記複数の変調連続エネルギー陽子ビームレットを照射する工程であって、当該複数の変調連続エネルギー陽子ビームレットは、前記標的領域への陽子放射線量を最大化し前記標的領域の外部の領域への陽子放射線量を最小化するものである、前記照射する工程と
    を有する方法。
11. 陽イオン放射線量を提供する方法であって、
    ａ）複数の連続エネルギー陽イオンビームレットを提供する工程と、
    ｂ）前記連続エネルギー陽イオンビームレットを変調する工程であって、当該変調により、前記ビームレットに対し長手方向および横方向双方に、標的に対する処方線量に基づいて、望ましい線量分布を生じさせるものである、前記変調する工程と
    を有する方法。