JP2007529024A - 光学フィルタ、光学インタリーバおよび関連する製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(HL)^10 HHLLL(HL)^20 LLH(HL)^21 H(HL)^10 0.59525H 0.73669L
ここでHとLはそれぞれTa2O5およびSiO2(1550nmでの屈折率がそれぞれ2.065および1.465である。)の1/4波長の光学的厚さを示す。このフィルタは、126層(HHまたはLLL等の2層以上の同一の「層」は事実上1層として数えることに留意する。)から成っており、約30μmの総厚さを有する。入射媒質は、空気および基板ガラスである。この従来技術フィルタは3つの対応するスペーサを持つ3つのキャビティを有する。各々のスペーサはHH層によって形成されている。それゆえに、各々のスペーサは、約380nmの厚さを有する(1550nmを中心とするナローバンドフィルタの場合)。更に、各々のキャビティは全体でほぼ41の薄層を有する(一緒にスペーサを形成する薄層を含む)。
光学的に基板を研磨することによって複数のスペーサを作り、少なくとも一つの前記スペーサが7μmより大きな厚さを有するようにするステップと、
薄膜堆積を用いて各々の前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させて薄膜堆積、キャビティを形成し、これによってキャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
前記複数のキャビティを光学的に接触させ前記フィルタを形成するステップとを含む方法を提供する。
a)厚膜堆積を用いて7μmより厚いスペーサ作るステップと、
b)薄膜堆積を用いて前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、キャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
c)前記フィルタを形成するために、ステップa)およびb)の組合せを繰り返すステップとを含む方法を提供する。
光学的に基板を研磨することによって複数のスペーサを作り、少なくとも一つの前記スペーサが7μmより大きな厚さを有するようにするステップと、
薄膜堆積を用いて各々の前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、これによってキャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
前記複数のキャビティを光学的に接触させ前記フィルタを形成するステップとを含む方法を提供する。
a)厚膜堆積を用いて7μmより厚いスペーサを作るステップと、
b)薄膜堆積を用いて前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、キャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
c)前記インタリーバを形成するために、ステップa)およびb)の組合せを繰り返すステップとを含む方法を提供する。
本発明による第1の好ましい光学フィルタ1を図32および33に示すが、これの比率は正確でない。フィルタ1は、入力として高密度波長分割多重化光学信号2を受信するように適合されている。信号2は、所定の周波数帯域内の周波数にわたる複数のチャネルを含む。好ましい周波数帯域は、約1520nm〜1570nmであり、1527nm〜1567nmが好ましい第1実施態様において用いた範囲である。フィルタ1は、1nm未満のバンド幅の単一チャネル3を出力するのように適合されている。換言すれば、このフィルタは以前に多重化された信号から単一チャンネルを抽出することを可能にする。フィルタ1は、結合層8によって隣接するキャビティ4に各々光学的に接続された複数のキャビティ4を有する。
・前記各薄層の厚さにおける最大許容均一性誤差は、好ましくは50,000分の1から10,000分の4の範囲内である。
・前記各薄層の最大許容吸収は、好ましくは1×10−4と1×10−5の間の吸光係数に対応する。
・前記スペーサの厚さにおける最大許容均一性誤差は好ましくは0.53nm以下である。
(HL)^6 HMH (LH)^6
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約21μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。
((HL)^6 HMH (LH)^6L)^3
式中、H、LおよびMは上記の定義通りであり、式の右側の最後のL層は結合層としてはたらく。薄いH層はTa2O5で構成されている。薄いL層は、スペーサとともに、SiO2から作られる。無論、フィルタの設計に適切な変更がなされるならば、異なる屈折率を有する他の材料を用いることも可能であることは当業者に理解されよう。
本発明の第二実施形態(図示せず。)において、キャビティのうちの少なくとも1つは、下記式によって作られる。
(HL)^4 HMH (LH)^4
式中、HとLとは第1実施態様の場合と同様に定義され、Mは約106μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。本実施態様におけるスペーサは、第1実施態様のそれよりおよそ5倍厚い。
((HL)^4 HMH (LH)^4 L)^3
注目しているバンド幅における本発明の第2実施形態のスペクトル性能を、図14に示す。この図から、不所望の隣接した位数9はこのフィルタを貫通できることが分かる。それゆえ、好ましくは不所望の隣接した位数9を遮断する為に、光学フィルタの第2実施態様を約12nmの通過帯域を有する遮断フィルタと併せて用いる。
・前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差の発生確率は、50,000分の1〜2,000分の3の範囲内に入るであろう。
・前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差は好ましくは3.09nm以下である。
第3の好ましい実施態様において、少なくとも1つのキャビティは以下の公式に従って造られる
(HL)^4 HMH (LH)^4
式中、HとLとは上と同様に定義され、Mは約529μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。
第3の実施態様は以下の公式に従う。
((HL)^4 HMH (LH)^4 L)^3
・前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差の発生確率は、50,000分の1〜1,000分の1.2の範囲内に入る。
・前記各スペーサの厚さにおける最大許容均一性誤差は、1.6nm以下である。
第4実施態様の層構成は、下記式に従う。
(HL)^2 HMH (LH)^2 L ((HL)^3 HMH (LH)^3 L)^2 (HL)^2 HMH (LH)^2
式中、HとLは上の定義どおりであり、Mは約1.465の屈折率と約1.32mmの厚さを有するスペーサである。
この実施様態の許容範囲は、更に以下の様に表現される。
・前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差の発生確率は、50,000分の1〜1,000分の3の範囲内にある。
・前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差は3.96nm以下である。
第5の実施態様は、下記式に従う。
((HL)^7 HMH(LH)^7 L) ((HL)^8 HMH (LH)^8 L)^2 ((HL)^7 HMH (LH)^7)
式中、HおよびLが上と同様に定義され、Mは厚さ約0.8mmと約1.465の屈折率を有するスペーサである。
・前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差の発生確率は50,000分の1〜10,000分の1の範囲内である。
・前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差は0.11nm以下である。
本発明に従って光学フィルタ1を製造する第1の好ましい方法は、次のステップを含む。
光学的に基板を研磨することによって少なくとも1つのスペーサ5が7μmの厚さを有する複数の前記スペーサ5を生じるステップと、
薄膜堆積を用いて前記スペーサ5の上に複数の薄層7を堆積させて薄層7のキャビティ4毎の平均数が35未満であるキャビティ4を形成するステップと、
複数のキャビティ4を光学的に接触させることにより前記フィルタ1を形成するステップである。
a)厚膜堆積を利用して7μmより大きな厚さを有するスペーサ5を生じるステップと、
b)薄膜堆積を用いて前記スペーサ5の上に複数の薄層7を堆積させてキャビティ4を形成し、キャビティ4毎の薄層7の平均数を35未満とするステップと、
c)前記フィルタ1を形成するために、ステップa)およびb)の組合せを繰り返すステップである。
光学インタリーバは、所定の周波数範囲内で複数のチャネルを含む高密度波長分割多重化光入力信号を受信し、前記入力を少なくとも2組のチャネルのサブセットの出力に分割するのに適合している。例えばある光学インタリーバは、チャネルを奇数と偶数の組に、または上半分および下半分に分けることができる。しばしば、幾つかのチャネルがインタリーバによって反射され、それ以外はインタリーバを透過するようにチャネルは切り離される。
HLHM
式中、Hが約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは、約1. 465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは0.8mmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。
(HLHM)^10 HLH
これは、波動を減らすために好ましくは最適化される10キャビティ構成フィルタである。
好ましい実施態様では各々のH層はTa2O5で構成され、L層はSiO2で構成される。厚さ0.8mmのM層(すなわちスペーサ)もまた、SiO2で構成される。インタリーバの総厚さは約8mmであり、41層で構成されている(適正化のために初期設計の43層、3S 3S 3S…から層を減じた。)。10層の高次厚層と、31層のλ/4層がある。
この図から、好ましい実施態様は入力信号を交互に奇数と偶数のチャネルに分割することが分かる。
上記光学インタリーバを製造する第1の好ましい方法は、次のステップを含む。
光学的に基板を研磨することによって複数のスペーサを作り、少なくとも一つの前記スペーサが7μmより大きな厚さを有するようにするステップと、
薄膜堆積を用いて各々の前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、これによってキャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
複数のキャビティを光学的に接触させ前記インタリーバを形成するステップである。上記光学フィルタを製造する好ましい代替方法は、次のステップを含む。
a)厚膜堆積を用いて7μmより厚いスペーサを作るステップと、
b)薄膜堆積を用いて前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させて、キャビティを形成し、キャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
c)前記インタリーバを形成するために、ステップa)およびb)の組合せを繰り返すステップである。
Claims (62)
- 複数のキャビティを有し、前記キャビティの1つ以上が7μmより大きい厚さのスペーサを含む光学フィルタ。
- 前記スペーサが、各々複数の薄層を有している2つの対向面を画定しており、キャビティ毎の薄層の総数が35未満である、請求項1に記載の光学フィルタ。
- スペーサの厚さが10μmより大きい、請求項1又は2に記載の光学フィルタ。
- スペーサの厚さが20μmより大きい、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- スペーサの厚さが50μmより大きい、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- スペーサの厚さが100μmより大きい、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- キャビティ毎の薄層の平均数は30未満である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- キャビティ毎の薄層の平均数は25未満である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- キャビティ毎の薄層の平均数は15未満である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタは5nm未満の通過帯域を有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタは1nm未満の通過帯域を有する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタは0.5nm未満の通過帯域を有する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタは、所定の周波数範囲にある複数のチャネルを含む高密度波長分割多重化光信号を受信するように適合された、請求項1〜12のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記所定周波数範囲が約1520nmと1570nmの間にある、請求項13に記載の光学フィルタ。
- 少なくとも1つのキャビティが下記式に従って形成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
(HL)^6 HMH (LH)^6
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約21μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 下記式に従う光学フィルタであって、請求項1〜15のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
((HL)^6 HMH (LH)^6 L)^3
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約21μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差が50,000分の1から10,000分の4の範囲内である、請求項15又は16に記載の光学フィルタ。
- 前記各薄層の最大許容吸収が1×10−4および1×10−5の間の吸光係数に対応する、請求項1〜17のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差が0.53nm以下である、請求項1〜18のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- キャビティのうちの少なくとも1つが下記式に従って作成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
(HL)^4 HMH (LH)^4
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約106μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 下記式に従って作成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
((HL)^4 HMH (LH)^4 L)^3
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約106μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 前記光学フィルタは、隣接している位数を遮断するために、約12nmの通過帯域を有する遮断フィルタと併せて用いられる、請求項20または21に記載の光学フィルタ。
- 各々の前記薄層の厚さにおける最大許容均一性誤差の発生確率が50,000分の1〜2,000分の3の範囲内にある、請求項20〜22のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- キャビティのうちの少なくとも1つが下記式に従って作成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
(HL)^4 HMH (LH)^4
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約529μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 下記式に従って作成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
((HL)^4 HMH (LH)^4 L)^3
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約529μmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 前記光学フィルタは、隣接した位数を遮断するために、約2.4nmの通過帯域を有する遮断フィルタと併せて用いられる、請求項24または25に記載の光学フィルタ。
- 0.05nm未満の通過帯域を有する、請求項24〜26のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差が50,000分の1〜1,000分の2の範囲内にある、請求項24〜27のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差が1.6nm以下である、請求項24〜28のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 下記式に従って形成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
(HL)^2 HMH (LH)^2 L ((HL)^3 HMH (LH)^3 L)^2 (HL)^2 HMH (LH)^2
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約1.465の屈折率と約1.32mmの厚さを有するスペーサである。 - 光学フィルタは、隣接している位数を遮断するために、約1nmの通過帯域を有する遮断フィルタと併せて用いられる、請求項30に記載の光学フィルタ。
- 前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差が50,000分の1〜1,000分の3の範囲内にある、請求項30または31に記載の光学フィルタ。
- 前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差が3.96nm以下である、請求項30または31に記載の光学フィルタ。
- 光学フィルタが下記式に従って作成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
((HL)^7 HMH (LH)^7 L)((HL)^8 HMH (LH)^8 L)^2 ((HL)^7 HMH (LH)^7)
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約1.465の屈折率と約0.8mmの厚さを有するスペーサである。 - 各々の前記薄層の厚さにおける最大許容均一性誤差が50,000分の1〜10,000分の1の範囲内である、請求項30または31に記載の光学フィルタ。
- 前記各スペーサの厚さにおける最大許容均一性誤差は0.11nm以下である、請求項30または31に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタが約0.002nmの通過帯域を有する、請求項34〜36のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 周波数が約1520nmと1570nmの間の範囲にある複数のチャネルを含む高密度波長分割多重化光信号を受信するように適合されており、1nm幅未満の単一チャネルを出力するように適合されており、複数のキャビティを有する光学フィルタであって、一つ以上の前記キャビティは7μmより大きい厚さを有するスペーサを含む光学フィルタにおいて、前記スペーサは複数の薄層が各々の上に配置されている2つの対向面を画定し、キャビティ毎の薄層の平均数が35未満であることを特徴とする光学フィルタ。
- 複数のキャビティを有し、一つ以上の前記キャビティは7μmより厚いスペーサを含む光学インタリーバ。
- 前記スペーサは複数の薄層が各々の上に配置されている2つの対向面を画定しており、キャビティ毎の薄層の平均数が35未満である、請求項39に記載の光学インタリーバ。
- キャビティ毎の薄層の平均数が30未満である請求項40に記載の光学的インタリーバ。
- スペーサの厚さが10μm以上である、請求項39〜41のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- スペーサの厚さが20μm以上である、請求項39〜41のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- スペーサの厚さが50μm以上である、請求項39〜41のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- スペーサの厚さが100μm以上である、請求項39〜41のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- キャビティ毎の薄層の総数が25未満である、請求項39〜45のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- キャビティ毎の薄層の総数が15未満である、請求項39〜45のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- キャビティ毎の薄層の総数が10未満である、請求項39〜45のいずれか一項に記載の光学的インタリーバ。
- 前記インタリーバが所定の周波数範囲にある複数のチャネルを含む高密度波長分割多重化光入力信号を受信し、前記入力を少なくとも2組のチャネルのサブセットの出力に分割するように適合されている、請求項39〜48のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- 前記各チャネルが5μm以下の帯域幅を有する、請求項50に記載の光学インタリーバ。
- 前記各チャネルが1μm以下の帯域幅を有する、請求項50に記載の光学インタリーバ。
- 前記各チャネルが0.5μm未満の帯域幅を有する、請求項50に記載の光学インタリーバ。
- 前記所定周波数範囲が約1520nm〜1570nmである、請求項50に記載の光学インタリーバ。
- キャビティのうちの少なくとも1つが下記式に従って形成される、請求項39〜53のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
HLHM
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約0.8mmの厚さと約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 前記インタリーバは下記式に従って形成される、請求項39〜54のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
(HLHM)^10 HLH
式中、Hは約2.065の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Lは約1.465の屈折率を有する材料の4分の1波長層であり、Mは約0.8mmの厚さで約1.465の屈折率を有するスペーサである。 - 前記各薄層の厚さの最大許容均一性誤差が5nm以下である、請求項39〜55のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- 前記各スペーサの厚さの最大許容均一性誤差が8nm以下である、請求項39〜56のいずれか一項に記載の光学インタリーバ。
- 周波数が約1520nmと1570nmの間の範囲にある複数のチャネルを含む高密度波長分割多重化光入力信号を受信するように適合されており、かつ前記入力を少なくとも2組のチャネルのサブセットの出力に分割するように適合された光学インタリーバにおいて、各チャネルが約16nm〜1nm未満の範囲の帯域幅を有しており、前記インタリーバは複数のキャビティを有しており、一つ以上の前記キャビティは7μmより厚いスペーサを含んでおり、前記スペーサは複数の薄層が各々の上に配置されている2つの対向面を画定しており、キャビティ毎の薄層の平均数が35未満であることを特徴とする光学インタリーバ。
- 請求項1〜38のいずれか一項に記載の光学フィルタを製造する方法であって、
光学的に基板を研磨することによって複数のスペーサを作り、少なくとも一つの前記スペーサが7μmより大きな厚さを有するようにするステップと、
薄膜堆積を用いて前記各スペーサ上へ複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、キャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
前記複数のキャビティを光学的に接触させ前記フィルタを形成するステップとを含む方法。 - 請求項1〜38のいずれか一項に記載の光学フィルタを製造する方法であって、
a)厚膜堆積を利用して7μmより大きな厚さを有するスペーサを作るステップと、
b)薄膜堆積を用いて前記スペーサの上に複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、キャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
c)前記フィルタを形成するために、ステップa)およびb)の組合せを繰り返すステップとを含む方法。 - 請求項39〜58のいずれか一項に記載の光学インタリーバを製造する方法であって、
光学的に基板を研磨することによって複数のスペーサを作り、少なくとも一つの前記スペーサが7μmより大きな厚さを有するようにするステップと、
薄膜堆積を用いて各々の前記スペーサ上へ複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、これによってキャビティ毎の薄層の平均数を35未満とするステップと、
前記複数のキャビティを光学的に接触させ前記インタリーバを形成するステップとを含む方法。 - 請求項39〜58のいずれか一項に記載の光学インタリーバを製造する方法であって、
a)厚膜堆積を利用して7μmより大きな厚さを有するスペーサを作るステップと、
b)薄膜堆積を用いて前記スペーサの上に複数の薄層を堆積させてキャビティを形成し、薄層のキャビティ毎の平均数を35未満とするステップと、
c)前記インタリーバを形成するために、ステップa)およびb)の組合せを繰り返すステップとを含む方法。
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