JP2007516927A - 支持材表面に多結晶シリコン層を析出させるための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶融シリコン槽(2)、槽に少なくとも一部が浸され槽の平衡な液面に対し長さ方向に垂直になるよう設計された支持材(4)を含んだるつぼと、少なくとも1つのエッジ制御要素(5、5´)と、を備え、各エッジ制御要素は、二つの縦方向のエッジ(41、42)のうちの一つの近傍で垂直に設置されている。
各エッジ制御要素には壁面があり、その壁面(51から53´)が縦方向エッジ近くに縦の挿入口を形成している。それぞれの挿入口は、縦方向のエッジ付近で毛管現象により槽(2)のレベルが上昇できるよう槽(2)の一部に浸漬させる。
挿入用壁面と呼ばれる縦の面のうちの一つの一部に面した壁面(51から52´)のうち、少なくとも1つは平面であることが、この装置の特徴である。
【選択図】図1
Description
図2は、図1に記載した装置の垂直断面に係る3次元図である。
図3は、本発明に係る装置の第二の実施態様を垂直断面として示した図である。
図4は、上から見た本発明に係る装置の第三の実施態様を示した図である。
Claims (19)
- 平面で細長い、二つの縦の面(43、44)と縦のサイドエッジ(41、42)を有する可動性支持材(4)上に、多結晶シリコンを主成分とした層(20)を析出させる装置(100、200、300)であり、
該装置(100、200、300)は、溶融シリコンの槽(2)及び槽(2)の中に少なくとも一部が浸漬し槽(2)の平衡な液面(21)に対し縦方向にほぼ垂直になるよう設計された支持材(4)を有するるつぼ(1)、並びに縦方向のサイドエッジ(41、42)のうちの一つの近傍でほぼ垂直に設置されている少なくとも1つのエッジ制御要素(5、5´、15、15´)を有し、
それぞれの該エッジ制御要素(5、5´、15、15´)には壁面(51〜53´、151〜153´)があり、壁面(51〜53´、151〜153´)が縦のサイドエッジ(41、42)近くに縦の挿入口(54、54´、154、154´)を形成し、
それぞれの挿入口(54、54´、154、154´)は、縦のサイドエッジ(41、42)付近で毛管現象により槽(2)の液面(21)レベルが上昇できるよう槽(2)の一部に浸漬し、
該縦の面(43、44)のうちの一つの一部に面した挿入用壁面と呼ばれる壁面(51〜52´、151〜152´)のうち少なくとも1つは平面である、ことを特徴とする多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。 - 前記エッジ制御要素(5、5´、15、15´)が二つ有り、エッジ制御要素(5、5´、15、15´)が、二つのほぼ平面な挿入用壁面を備えることを特徴とする、請求項1に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
- 前記挿入用壁面(51〜52´、151〜152´)が、平行または外面的にフレアーであることを特徴とする、請求項2に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
- それぞれの前記挿入口(54、54´)の深さが、1cm以下であることを特徴とする、請求項2または3に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
- 前記挿入用壁面(51〜52´、151〜152´)の間の空間が、7mm以下であることを特徴とする、請求項2ないし4の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
- 前記るつぼ(1)が、底面(11)と側壁(12)を備え、それぞれのエッジ制御要素(5、5´)が、固定され、底面(11)に垂直に保持されることを特徴とする、請求項2ないし5の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200)。
- 前記るつぼ(1)が底面(11)と側壁(12)を備え、エッジ制御要素(5、5´)が縦方向に底面(11)にまで伸びることを特徴とする、請求項2ないし5の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200)。
- 前記エッジ制御要素(5、5´)が、底面(11)と一体型構造をとることを特徴とする、請求項7に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200)。
- それぞれの前記エッジ制御要素(5、5´)には、槽(2)の中に浸漬した少なくとも1つの開口部(7、7´)があり、エッジ制御要素(5、5´)にシリコンを供給するのに適していることを特徴とする、請求項7または8に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200)。
- 前記開口部(7、7´)が、ミリメートルのオーダーであり、底面(11)近傍に備えられていることを特徴とする、請求項9に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200)。
- それぞれの前記エッジ制御要素(15、15´)が、挿入口(154、154´)を有するプレート(15、15´)を備え、プレート(15、15´)が槽(2)の平衡な液面(21)に接することを特徴とする、請求項2ないし6に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(300)。
- 前記プレート(15、15´)と槽(2)の液面(21)との接触が、プレート(15、15´)とるつぼ(1)の外側の移動手段(19、19´)の間の連結部(17、17´)により行われることを特徴とする、請求項11に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(300)。
- 前記移動手段(19、19´)により、プレート(15、15´)が、垂直方向にだけ移動することを特徴とする、請求項12に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(300)。
- それぞれの前記プレート(15、15´)が、挿入口(154、154´)を有する円盤を備え、該円盤の直径が10mm以上であることを特徴とする、請求項11ないし13の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(300)。
- 前記円盤の直径が約12mmであることを特徴とする、請求項14に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(300)。
- 前記挿入用壁面(151〜152´)の間の空間が、約2mmであることを特徴とする、請求項11ないし15の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(300)。
- それぞれの前記エッジ制御要素(5、5´、15、15´)が、シリコンと反応しない材料製であることを特徴とする、請求項1ないし16の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
- 前記エッジ制御要素(5、5´、15、15´)の材料が、グラファイト、炭化ケイ素及び窒化ケイ素からなる群から選択される化合物であることを特徴とする、請求項17に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
- それぞれの前記エッジ制御要素(5、5´、15、15´)が、シリコンの放射率よりも大きな放射率を有する材料製であることを特徴とする、請求項1ないし18の何れか1項に記載の多結晶シリコンを主成分とした層の析出装置(100、200、300)。
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