JP2007515658A - 半導体リソグラフィにおける光学的半組立品及び投射対物レンズ - Google Patents
半導体リソグラフィにおける光学的半組立品及び投射対物レンズ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007515658A JP2007515658A JP2005509814A JP2005509814A JP2007515658A JP 2007515658 A JP2007515658 A JP 2007515658A JP 2005509814 A JP2005509814 A JP 2005509814A JP 2005509814 A JP2005509814 A JP 2005509814A JP 2007515658 A JP2007515658 A JP 2007515658A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- optical subassembly
- projection objective
- mount
- subassembly according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/181—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
【選択図】
図4
Description
この場合、2方向に剛性であるように設計された少なくとも1つの結合ジョイントを有用的に準備することができ、この剛性の設計は特に接線方向及び軸方向に備わるべきである。
Claims (32)
- 光学的表面及び円周上に配置された複数の軸受け部を有する光学要素であって、前記光学要素は、複数の結合要素を介して前記複数の軸受け部においてマウントに結合されており、応力を緩和する複数の切り抜き(11)が前記光学的表面(9)と前記複数の軸受け部(12)の間に配されていることを特徴とする光学的半組立品。
- 前記複数の切り抜きが複数のスロット(11)として形成されていることを特徴とする請求項1記載の光学的半組立品。
- 前記複数のスロット(11)が少なくともほぼ曲線形状であることを特徴とする請求項2記載の光学的半組立品。
- 前記曲線形状は、そのコースが前記光学的表面(9)の外周と少なくともほぼ符合していることを特徴とする請求項3記載の光学的半組立品。
- 前記複数のスロット(11)は、軸方向に連続するように形成されていることを特徴とする請求項2記載の光学的半組立品。
- 前記光学要素(7)はレンズであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の光学的半組立品。
- 前記光学要素(7)は鏡要素であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の光学的半組立品。
- 前記鏡要素(7)は、前記光学的表面(9)と基部(10)を備えた鏡部(8)を有していることを特徴とする請求項7記載の光学的半組立品。
- 前記鏡部(9)と前記基部(10)は一体的に形成されていることを特徴とする請求項8記載の光学的半組立品。
- 前記複数の切り抜き(11)が前記基部(10)に配されていることを特徴とする請求項8記載の光学的半組立品。
- 前記複数の切り抜き(11)の少なくとも1つは、同時に投射ビームの通路のために設けられていることを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の光学的半組立品。
- 複数の結合要素(15〜18)はクランプ力が調整可能に設けられていることを特徴とする請求項1記載の光学的半組立品。
- 前記複数の結合要素は前記軸受け部(12)を適切な力で前記マウント(13)に結合するクランプ要素(15〜17)を有していることを特徴とする請求項12記載の光学的半組立品。
- 前記クランプ要素(15,16)はそれぞれねじ結合(17)で前記マウントに結合されていることを特徴とする請求項13記載の光学的半組立品。
- 前記ねじ結合(17)は予め選択されたクランプ力で取り付けできるように複数のスプリング要素(18)を備えていることを特徴とする請求項14記載の光学的半組立品。
- 3つの軸受け部(12)が前記光学要素(7)の円周上に分散して配置されており、各軸受け部(12)は少なくとも1つの結合ジョイント(14)で前記マウント(13)に結合されていることを特徴とする請求項12ないし請求項15のいずれか1項に記載の光学的半組立品。
- 少なくとも1つの前記結合ジョイント(14)は、2方向に剛性を有していることを特徴とする請求項16記載の光学的半組立品。
- 少なくとも1つの前記結合ジョイント(14)は、接線方向及び軸方向に剛性を有していることを特徴とする請求項17記載の光学的半組立品。
- 各軸受け部(12)のために2つの軸受け脚が結合要素(14)として備えられていることを特徴とする請求項16ないし請求項18のいずれか1項に記載の光学的半組立品。
- 前記2つの軸受け脚(14)は、2脚の台(14a,14b)の形状で配置されていることを特徴とする請求項19記載の光学的半組立品。
- 前記結合要素(14)は、複数のスロットを有する固体ジョイントとして形成されていることを特徴とする請求項16ないし請求項20のいずれか1項に記載の光学的半組立品。
- 光学的表面及び円周上に配置された複数の軸受け部を有する光学要素であって、前記光学要素は、複数の結合要素を介して前記複数の軸受け部においてマウントに結合されている少なくとも1つの光学的半組立品を備えた半導体リソグラフィにおける投射対物レンズにおいて、応力を緩和する複数の切り抜き(11)が前記光学的表面(9)と前記複数の軸受け部(12)の間に配されていることを特徴とする投射対物レンズ。
- 前記光学要素(7)がレンズである請求項22記載の投射対物レンズ。
- 光学的表面及び円周上に配置された複数の軸受け部を有する鏡要素であって、前記鏡要素は、複数の結合要素を介して前記複数の軸受け部においてマウントに結合されている少なくとも1つの光学的半組立品を備えた半導体リソグラフィにおける投射対物レンズにおいて、応力を緩和する複数の切り抜き(11)が前記光学的表面(9)と前記複数の軸受け部(12)の間に配されていることを特徴とする投射対物レンズ。
- 前記複数の切り抜きが少なくともほぼ複数の曲線形状のスロット(11)として形成されていることを特徴とする請求項24記載の投射対物レンズ。
- 前記鏡要素(7)は光学的表面(9)と基部を備えた鏡部分(8)を有し、前記鏡部分(8)と前記基部(10)は一体的に形成されていることを特徴とする請求項24記載の投射対物レンズ。
- 前記複数の結合要素は前記軸受け部(12)を適切な力で前記マウント(13)に結合するクランプ要素(15〜17)を有していることを特徴とする請求項24記載の投射対物レンズ。
- 前記クランプ要素(15,16)は、予め選択されたクランプ力で取り付けできるように複数のスプリング要素(18)を備えたねじ結合(17)で前記マウントに結合されていることを特徴とする請求項27記載の投射対物レンズ。
- 少なくとも前記鏡要素(7)、前記複数の結合要素(14)及び前記マウント(13)は、非常に低い熱膨張係数を有する材料から形成されていることを特徴とする請求項24記載の投射対物レンズ。
- 前記鏡要素は、光学的表面(9)と基部(10)を備え、前記光学的表面は前記基部に一体的に結合されている鏡部分を含み、ガラスセラミックから形成されていることを特徴とする請求項29記載の投射対物レンズ。
- 前記複数の結合要素の少なくともいくかはインバールで形成されていることを特徴とする請求項29記載の投射対物レンズ。
- 前記マウント(13)はセラミックで形成されていることを特徴とする請求項29記載の投射対物レンズ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10346046 | 2003-10-02 | ||
PCT/EP2003/013606 WO2005040926A2 (en) | 2003-10-02 | 2003-12-03 | Optical subassembly and projection objective for semiconductor lithography |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007515658A true JP2007515658A (ja) | 2007-06-14 |
JP4237755B2 JP4237755B2 (ja) | 2009-03-11 |
Family
ID=34484700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005509814A Expired - Fee Related JP4237755B2 (ja) | 2003-10-02 | 2003-12-03 | 半導体リソグラフィにおける光学的半組立品及び投射対物レンズ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7448763B2 (ja) |
EP (1) | EP1668419B1 (ja) |
JP (1) | JP4237755B2 (ja) |
KR (1) | KR101134210B1 (ja) |
AT (1) | ATE475907T1 (ja) |
AU (1) | AU2003296244A1 (ja) |
DE (1) | DE60333600D1 (ja) |
WO (1) | WO2005040926A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015133496A (ja) * | 2015-02-05 | 2015-07-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 寄生負荷最小化光学素子モジュール |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8018664B2 (en) * | 2004-02-26 | 2011-09-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Housing structure |
TWI372271B (en) * | 2005-09-13 | 2012-09-11 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device |
JP5043468B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2012-10-10 | キヤノン株式会社 | 保持装置 |
KR101490191B1 (ko) * | 2007-08-23 | 2015-03-17 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈 |
NL1036701A1 (nl) * | 2008-04-15 | 2009-10-19 | Asml Holding Nv | Apparatus for supporting an optical element, and method of making same. |
DE102009045163B4 (de) * | 2009-09-30 | 2017-04-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
US20130052919A1 (en) * | 2011-08-25 | 2013-02-28 | Space Administrationo | Graphite composite panel polishing fixture and assembly |
CN102368113B (zh) * | 2011-10-31 | 2013-01-02 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 高精度光学元件装配装置的无应力装配方法 |
CN103246040B (zh) * | 2013-04-25 | 2015-04-22 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 用于光刻投影物镜中可快速更换的高重复定位精度结构 |
DE102014202737A1 (de) * | 2014-02-14 | 2015-08-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lagerelement und system zum lagern eines optischen elements |
AR105616A1 (es) | 2015-05-07 | 2017-10-25 | Lilly Co Eli | Proteínas de fusión |
DE102017220306A1 (de) | 2017-11-14 | 2018-09-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Befestigungsanordnung für eine optische Komponente |
US11187871B2 (en) * | 2017-12-18 | 2021-11-30 | Raytheon Company | 2D bi-pod flexure design, mount technique and process for implementation |
JP7156535B2 (ja) * | 2019-07-18 | 2022-10-19 | 株式会社島津製作所 | 分光素子 |
WO2023228181A1 (en) * | 2022-05-23 | 2023-11-30 | Elbit Systems Electro-Optics Elop Ltd. | A kinematic mount having three points of contact |
KR102577850B1 (ko) * | 2023-02-21 | 2023-09-13 | 국방과학연구소 | 광학부용 일체형 유연 힌지 마운트 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4037944A (en) * | 1976-01-23 | 1977-07-26 | Systron Donner Corporation | Low stress optical mounting structure and method |
US4147413A (en) * | 1977-03-07 | 1979-04-03 | Hewlett-Packard Company | Temperature compensated lens mount |
US4268123A (en) * | 1979-02-26 | 1981-05-19 | Hughes Aircraft Company | Kinematic mount |
US4540251A (en) * | 1983-12-01 | 1985-09-10 | International Business Machines Corporation | Thermo-mechanical overlay signature tuning for Perkin-Elmer mask aligner |
US4929073A (en) * | 1984-10-24 | 1990-05-29 | Hughes Aircraft Company | Kinematic mount |
US4733945A (en) * | 1986-01-15 | 1988-03-29 | The Perkin-Elmer Corporation | Precision lens mounting |
US4681408A (en) * | 1986-04-28 | 1987-07-21 | The Perkin-Elmer Corporation | Adjustable mount for large mirrors |
US4726671A (en) * | 1986-06-19 | 1988-02-23 | The Perkin-Elmer Corporation | High resonance adjustable mirror mount |
GB8622515D0 (en) * | 1986-09-18 | 1986-10-22 | Univ Strathclyde | Mirror assemblies |
US5249082A (en) * | 1991-05-08 | 1993-09-28 | Eastman Kodak Company | Exact constraint arrangement for and methods of mounting an element such as a lens |
US5428482A (en) | 1991-11-04 | 1995-06-27 | General Signal Corporation | Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly |
JPH085807A (ja) * | 1994-06-16 | 1996-01-12 | Toshiba Corp | 平面鏡 |
DE19825716A1 (de) | 1998-06-09 | 1999-12-16 | Zeiss Carl Fa | Baugruppe aus optischem Element und Fassung |
US5986827A (en) * | 1998-06-17 | 1999-11-16 | The Regents Of The University Of California | Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint |
KR100699241B1 (ko) | 1999-09-20 | 2007-03-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 패럴렐 링크기구, 노광장치 및 그의 제조방법, 그리고디바이스 제조방법 |
TW569055B (en) * | 2000-06-17 | 2004-01-01 | Zeiss Stiftung | Device for mounting an optical element, for example a lens element in a lens |
KR20010113527A (ko) | 2000-06-19 | 2001-12-28 | 시마무라 테루오 | 투영 광학계, 그 제조 방법 및 투영 노광 장치 |
US6400516B1 (en) * | 2000-08-10 | 2002-06-04 | Nikon Corporation | Kinematic optical mounting |
ATE352052T1 (de) * | 2000-08-18 | 2007-02-15 | Nikon Corp | Haltevorrichtung für optisches element |
DE10115914A1 (de) | 2001-03-30 | 2002-10-02 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik |
JP2002318334A (ja) | 2001-04-24 | 2002-10-31 | Nikon Corp | 反射鏡の保持方法、反射鏡及び露光装置 |
DE10134387A1 (de) | 2001-07-14 | 2003-01-23 | Zeiss Carl | Optisches System mit mehreren optischen Elementen |
JP4565261B2 (ja) * | 2002-06-24 | 2010-10-20 | 株式会社ニコン | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
-
2003
- 2003-12-03 US US10/573,216 patent/US7448763B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-03 AT AT03785715T patent/ATE475907T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-12-03 WO PCT/EP2003/013606 patent/WO2005040926A2/en active Application Filing
- 2003-12-03 AU AU2003296244A patent/AU2003296244A1/en not_active Abandoned
- 2003-12-03 JP JP2005509814A patent/JP4237755B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-03 KR KR1020067008439A patent/KR101134210B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-12-03 DE DE60333600T patent/DE60333600D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-03 EP EP03785715A patent/EP1668419B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015133496A (ja) * | 2015-02-05 | 2015-07-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 寄生負荷最小化光学素子モジュール |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070014037A1 (en) | 2007-01-18 |
AU2003296244A1 (en) | 2005-05-11 |
US7448763B2 (en) | 2008-11-11 |
KR101134210B1 (ko) | 2012-04-09 |
EP1668419B1 (en) | 2010-07-28 |
WO2005040926A3 (en) | 2005-09-09 |
WO2005040926A2 (en) | 2005-05-06 |
AU2003296244A8 (en) | 2005-05-11 |
EP1668419A2 (en) | 2006-06-14 |
ATE475907T1 (de) | 2010-08-15 |
KR20060096493A (ko) | 2006-09-11 |
JP4237755B2 (ja) | 2009-03-11 |
DE60333600D1 (de) | 2010-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4237755B2 (ja) | 半導体リソグラフィにおける光学的半組立品及び投射対物レンズ | |
US6859337B2 (en) | Optical-element mountings exhibiting reduced deformation of optical elements held thereby | |
JP4751958B2 (ja) | 光学要素とマウントからなるアセンブリ | |
KR101129119B1 (ko) | 광학 요소의 조작을 위한 장치 | |
US9465208B2 (en) | Facet mirror device | |
KR101532126B1 (ko) | 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치 | |
JP2013546163A (ja) | 光学素子を位置合わせするシステム及びその方法 | |
JP2006113414A (ja) | 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
KR20170048337A (ko) | 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치를 위한 미러 모듈 | |
JP5168507B2 (ja) | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 | |
KR20210095637A (ko) | 반능동 스페이서를 갖는 반도체 리소그래피용 투영 노광 장치용 모듈 및 반능동 스페이서를 사용하기 위한 방법 | |
US9645388B2 (en) | Facet mirror device | |
JP2019517030A (ja) | 光学結像装置の取付装置 | |
US20060187511A1 (en) | Device for mounting an optical element, particularly a lens in an objective | |
CN107003623B (zh) | 光刻系统的连接配置 | |
US20090219497A1 (en) | Optical device with stiff housing | |
TW202028892A (zh) | 陶瓷元件之間力合連接的連接配置及力合連接的方法 | |
US20100172044A1 (en) | Mount for positioning an optical element | |
JP6357505B2 (ja) | ファセットミラーデバイス | |
WO2022148569A1 (en) | Assembly having a decoupling joint for mechanically mounting an element | |
KR20230082682A (ko) | 광학 구성요소 및 광학 구성요소를 정렬하기 위한 방법, 및 투영 노광 장치 | |
KR20220007052A (ko) | 광학 요소 지지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080829 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080919 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081218 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131226 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |