KR20220007052A - 광학 요소 지지 - Google Patents

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KR20220007052A
KR20220007052A KR1020217036276A KR20217036276A KR20220007052A KR 20220007052 A KR20220007052 A KR 20220007052A KR 1020217036276 A KR1020217036276 A KR 1020217036276A KR 20217036276 A KR20217036276 A KR 20217036276A KR 20220007052 A KR20220007052 A KR 20220007052A
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KR1020217036276A
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크리스티안 쾨르너
크리스토프 뮐러
오이겐 안젤름
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칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
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Abstract

본 발명은 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함하는, 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피 이미징 디바이스의 장치에 관한 것으로, 광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 광학 요소(109)가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의한다. 유지 디바이스(110)는 베이스 유닛(110.1) 및 3개 초과의 개별 유지 유닛(110.2)을 포함하고, 베이스 유닛(110.1)은 지지 구조체(102.1)에 유지 디바이스(110)를 연결하기 위해, 원주방향으로 서로 이격되어 있는 복수의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 포함한다. 유지 유닛(110.2)은 베이스 유닛(110.1)에 연결되어 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치된다. 유지 유닛(110.2)은 베이스 유닛(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 유지하도록 구성된다. 베이스 유닛은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)를 포함하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)는 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)는 원주방향 및 반경방향에 대해 횡방향으로 두께 치수를 갖는다. 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)의 정면측에 배치된다.

Description

광학 요소 지지
관련 출원의 상호 참조
본 출원은 그 전체 내용이 본 명세서에 참조로서 합체되어 있는, 2019년 5월 10일 출원된 독일 특허 출원 제10 2019 112 224.4호에 대해 35 U.S.C. §119 하에서 우선권을 주장한다.
발명의 배경
본 발명은 UV 이미징 광, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 이용하기에 적합한 마이크로리소그래피용 광학 장치에 관한 것이다. 더욱이, 본 발명은 이러한 장치를 포함하는 광학 이미징 디바이스에 관한 것이다. 본 발명은 임의의 원하는 광학 이미징 방법과 함께 사용될 수 있다. 이는 마이크로 전자 회로 및 그 목적으로 사용되는 광학 구성요소(예를 들어, 광학 마스크)의 생산 또는 검사에 특히 유리하게 사용될 수 있다.
마이크로 전자 회로의 생산과 관련하여 사용된 광학 디바이스는 통상적으로 이미징 광로 내에 배치된 렌즈 요소, 미러 또는 광학 격자와 같은 하나 이상의 광학 요소를 포함하는 복수의 광학 요소 유닛을 포함한다. 상기 광학 요소는 통상적으로 물체의 이미지(예를 들어, 마스크 상에 형성된 패턴)를 기판(예를 들어, 소위 웨이퍼) 상에 전사하기 위해 이미징 프로세스에서 협력한다. 광학 요소는 통상적으로, 적절하면, 개별 이미징 유닛에 유지되는 하나 이상의 기능 그룹으로 조합된다. 특히, 소위 진공 자외선 범위(VUV, 예를 들어 193 nm 파장)의 파장으로 동작하는 주로 굴절 시스템의 경우, 이러한 이미징 유닛은 종종 하나 이상의 광학 요소를 유지하는 광학 모듈의 스택에 의해 형성된다. 상기 광학 모듈은 통상적으로 하나 이상의 광학 요소 홀더를 지지하는 실질적으로 링형 외부 지지 유닛을 갖는 지지 구조체를 포함하고, 이 광학 요소 홀더는 이어서 각각의 광학 요소를 유지한다.
반도체 구성요소의 끊임없이 진보하는 소형화는 그 생산을 위해 사용되는 광학 시스템의 증가된 분해능에 대한 지속적인 요구를 야기한다. 증가된 분해능에 대한 이러한 요구는 증가된 개구수(numerical aperture)(NA)와 광학 시스템의 증가된 이미징 정확도에 대한 요구를 필요로 한다.
증가된 광학 분해능을 얻기 위한 일 접근법은 이미징 프로세스에 사용되는 광의 파장을 감소시키는 것으로 이루어진다. 최근의 경향은 소위 극자외선(EUV) 범위의 광이 통상적으로 5 nm 내지 20 nm의 파장에서, 대부분의 경우에 대략 13 nm의 파장에서 사용되는 시스템의 개발을 점점 더 촉진하고 있다. 이 EUV 범위에서, 종래의 굴절 광학 시스템을 사용하는 것이 더 이상 가능하지 않다. 이는 이 EUV 범위에서 굴절 광학 시스템을 위해 사용되는 재료가 이용 가능한 광 파워를 갖는 허용 가능한 이미징 결과를 달성하기에는 너무 높은 흡광도를 갖는다는 사실에 기인한다. 결과적으로, 이 EUV 범위에서, 이미징을 위해 반사 광학 시스템을 사용해야 할 필요가 있다.
EUV 범위에서 높은 개구수(예를 들어, NA > 0.4 내지 0.5)를 갖는 순수 반사 광학 시스템으로의 이러한 전이는 이미징 디바이스의 디자인과 관련하여 상당한 과제를 야기한다.
전술된 인자는 원하는 이미징 정확도를 달성하기 위해, 이미징에 참여하는 광학 요소의 서로에 대한 위치 및/또는 배향과 관련하여 그리고 또한 개별 광학 요소의 변형과 관련하여 매우 엄격한 요구 사항을 야기한다. 더욱이, 동작 전체에 걸쳐, 궁극적으로 시스템의 수명 전체에 걸쳐 이러한 높은 이미징 정확도를 그대로 유지해야 할 필요가 있다.
그 결과, 이미징 프로세스 중에 협력하는 광학 이미징 디바이스의 구성요소(즉, 예를 들어, 조명 디바이스의 광학 요소, 마스크, 투영 디바이스의 광학 요소 및 기판)는 이들 구성요소 사이의 미리 결정된 양호하게 정의된 공간 관계를 유지하고 이들 구성요소의 최소 바람직하지 않은 변형을 얻어 궁극적으로 최고 가능한 이미징 품질을 달성하기 위해 양호하게 정의된 방식으로 지지되어야 한다.
여기서, 특히 전술된 EUV 시스템에서 발생하는 시스템 고유의 문제는, 조명 디바이스 및 투영 디바이스 및 광학 요소 중 적어도 개별 요소가 비교적 크고 무거운 광학 유닛이라는 점이다. 그러나, 정확도에 대한 요구 사항을 충족하기 위해, 이들 무거운 유닛은 교환 가능하고 대응적으로 조정 가능해야 하고, 더욱이 그 장착부의 디자인으로 인해 미리 원하지 않는 또는 정확하게 규정되지 않은 변형을 경험하지 않아야 한다. 이들 이유로, 예를 들어 US 7,760,327 B2(셰를(Scherle) 등, 그 전체 개시내용이 참조로 본 명세서에 참조로서 합체되어 있음)로부터 공지되어 있는 바와 같이, 이들 광학 유닛 또는 요소를 지지하기 위해, 원주를 따라 균일하게 분포된 3개의 탈착 가능한 유지 유닛을 통한 소위 3점 지지부가 통상적으로 사용된다(상기 유지 유닛은 통상적으로 소위 헥사포드 운동학의 형태로 설계됨).
이러한 3점 지지부는 지지 구조체의 생산 부정확도 또는 변형으로 인해 발생할 수도 있는 바와 같이, 그로부터 발생하는 광학 유닛의 원하지 않는 기생 응력 및 변형을 회피하기 위해 정적으로 결정된 장착부가 얻어지게 하거나 정적으로 과도하게 결정된 장착부가 회피되게 한다.
이러한 정적으로 결정된 3점 지지부의 단점은, 예를 들어 이미징 디바이스가 운송될 때 발생할 수도 있는 바와 같이, 충격 하중의 경우에, 2개의 다른 유지 유닛이 이 하중 방향에서 실질적으로 유연성이고 따라서 어떠한 하중도 지지할 수 없기 때문에, 주 하중이 가장 불리한 하중 사례의 경우에 3개의 유지 유닛 중 단일의 하나에 의해 지지되어야 하는 것, 즉 하중이 특정 하중 방향에 있어야 한다는 것이다. 따라서, 유지 유닛은 광학 요소의 신뢰적인 지지를 보장하기 위해 비교적 강건하고 복잡한 디자인을 가져야 한다. 따라서, 특히, 광학 요소로의 탈착 가능한 연결부는 가능한 경우 기생 응력(및 그로부터 발생하는 기생 변형)의 도입을 회피하거나 감소시키기 위해 복잡한 디자인을 갖는다.
US 8,441,747 B2(하인텔(Heintel) 등, 그 전체 개시내용이 본 명세서에 참조로서 합체되어 있음)는 광학 요소의 외주에 접착식으로 접합되고 지지 링 상에 배치된 복수의 유지 유닛에 의해 광학 요소를 그 외주에 유지하는 것을 개시하고 있다. 이는 접착제 접합에 의해 동작 하중의 더 양호한 분포, 및 소형 구성을 달성한다. 그러나, 접착제 접합은 처음부터, 광학 요소의 간단한 교체를 용이하게 하지 않는 문제가 발생한다. 더욱이, 충격이 장치 상에 작용하는 경우에, 충격의 방향(또는 구성요소 상에 작용하는 가속도)에 따라 개별 유지 유닛에 매우 상이한 충격 하중이 존재한다. 여기서, 최소 충격 하중에 대한 최대 충격 하중의 비는 가능하게는 최대 20일 수도 있다. 결과적으로, 이 경우에도 개별 유지 유닛 상의 충격 하중의 균일한 분포가 없고; 대신에, 충격 하중의 대부분은 몇 개의 개별 유지 유닛에 의해 흡수되어야 한다. 더욱이, 이러한 정적으로 과도하게 결정된 지지부로 인해 자연스럽게 발생하는 문제는 지지링의 변형의 경우에 기생 응력이 광학 요소 내에 도입된다는 점이다.
따라서, 본 발명은 전술된 단점을 갖지 않거나 적어도 이들 단점을 더 적은 정도로 갖고, 특히, 충격 하중에 대해 가능한 한 강건하면서 소형 크기를 갖는 광학 요소의 지지를 쉽게 얻는, 마이크로리소그래피 광학 장치 및 이러한 장치를 포함하는 대응하는 광학 이미징 디바이스, 및 광학 요소를 지지하기 위한 방법을 제공하는 목적에 기초한다.
본 발명은 독립 청구항의 특징을 사용하여 이 목적을 달성한다.
본 발명은 광학 요소를 각각 개별적으로 유지하는 복수의 유지 유닛, 바람직하게는 3개 초과의 유지 유닛이 제공되고, 유지 유닛은 베이스 유닛의 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소 상에 배치되고, 상기 지지 멤브레인 요소는 바람직하게는 원주방향 및 반경방향을 따라 연장하면, 충격 하중에 대해 강건하지만 소형 크기를 갖는 광학 요소의 지지부가 쉽게 얻어진다는 기술적 교시에 적어도 부분적으로 기초한다. 적어도 부분적으로, 복수의 유지 유닛, 바람직하게는 3개 초과의 유지 유닛 사이에서 이미징 디바이스의 생산, 운송 및 동작 중에 광학 요소에서 발생하는 하중, 특히 충격 하중의 분할로 인해, 바람직하지 않은 시나리오(예를 들어, 설계 목적으로, 시스템의 제조자 및/또는 사용자에 의해 통상적으로 정의된 최악의 경우 시나리오)에서도 단일 유지 유닛에 작용하는 최대 하중의 감소가 먼저 달성될 수 있다.
지지 멤브레인 요소 상에 각각의 유지 유닛을 배치하는 결과로서, 지지 멤브레인 요소의 디자인에 의해 및/또는 지지 멤브레인 요소가 지지 인터페이스 유닛에 연결되는 방식에 의해 각각의 유지 유닛의 힘의 광학 유닛측 공격 지점(광학 요소에서)과 각각의 지지 인터페이스 유닛에서 힘의 지지 구조체측 공격 지점(지지 구조체의) 사이에 유지 디바이스의 강성을 설정하는 것이 더욱이 가능하다. 결과적으로, 이것이 유리하게 달성할 수 있는 것은, 특히 특정의 각각의 자유도에서 이 강성이, 바람직하게는 최대 가능한 정도로, 복수의 유지 유닛(바람직하게는 모든 유지 유닛)에 대해 적어도 비교적 실질적으로 균등화된다는 것이다. 특정 자유도에서 이 균등화가 클수록(따라서, 이 자유도에서 개별 유지 유닛 사이의 강성의 차이가 더 작을수록 또는 유지 유닛 사이에서 이 강성의 분포가 더 협대역일수록), 충격 하중은 각각의 자유도에서 유지 유닛 사이에서 더 균일하게 분할된다. 바람직한 경우에, 가능하게는 이상적인 경우에, 각각의 자유도에서 힘의 지지 구조체측 공격 지점과 관련하여 모든 유지 유닛에 대해 적어도 실질적으로 동일한 강성이 얻어지는 것도 가능하다. 이 경우, 각각의 자유도에서 충격 하중은 이어서 모든 유지 유닛 사이에 실질적으로 균일하게 분포된다.
따라서, 유지 유닛에서의 가장 불리한 사례(통상적으로 설계 목적으로, 시스템의 제조자 및/또는 사용자에 의해 정의됨)에 예상되는 충격 하중이 상기 유지 유닛의 유지력을 초과하는 위험이 큰 안전 계수를 제공할 필요 없이 따라서 유지 유닛을 과치수 설정하지 않고 신뢰적으로 감소될 수 있다. 결과적으로, 몇몇 실시예에서, 충격 하중 하에서 시스템 고장에 대한 충격 안전성 또는 신뢰성은 간단화된 유지 유닛에도 불구하고 유리하게 증가될 수 있다. 이에 따라, 유지 유닛은 더 간단한 및 따라서 더 공간 절약형 디자인을 가질 수 있고, 이는 이어서 유지 유닛의 수의 추가의 증가를 용이하게 한다. 궁극적으로, 몇몇 실시예에서, 이는 유지 유닛 사이에 충격 하중의 균일한 분포를 갖는 유리하게 많은 수의 유지 유닛의 실현을 허용할 수도 있다.
지지 멤브레인 요소의 다른 장점은, 적어도 몇몇 실시예에서, 충격에 대한 안정성의 증가에 추가하여, 광학 요소가 유리하게는 다수의 지점에서 균일하게 지지되고 결과적으로 그 중량에 의해 유발되는 광학 요소의 파형 변형을 실질적으로 감소시키는 것이 가능하기 때문에 달성 가능한 이미징 품질이 또한 개선된다는 사실에 있다. 더욱이, 광학 요소에 관련한 유지 디바이스의 유리하게 낮은 강성은 지지 멤브레인 요소의 사용에 의해 얻어질 수 있다.
지지 멤브레인 요소의 다른 장점은, 적어도 몇몇 실시예에서, 이 지지 멤브레인 요소가 그 경사축이 지지 멤브레인 요소에 있는 경사 자유도의 견지에서 유지 유닛을 서로 분리할 수 있다는 사실에 있다. 이는 특히, 지지 멤브레인 요소가 특히 오목화(denting)에 의해 비교적 쉽게 변형될 수 있다는 사실에 기인한다. 유리하게는, 적어도 몇몇 실시예에서, 이는 유지 디바이스의 변형 중에 광학 요소 내에 도입되는 기생 응력의 감소를 얻을 수 있다.
따라서, 제1 양태에 따르면, 본 발명은 광학 요소를 유지하기 위한 유지 디바이스를 포함하는, 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피 이미징 디바이스의 장치에 관한 것이다. 광학 요소는 광학 표면을 포함하고 광학 요소가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의한다. 유지 디바이스는 베이스 유닛 및 복수의 개별 유지 유닛, 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛을 포함하고, 지지 구조체에 유지 디바이스를 연결하기 위한 베이스 유닛은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛을 포함한다. 유지 유닛은 베이스 유닛에 연결되어 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치된다. 더욱이, 유지 유닛은 베이스 유닛과 관련하여 광학 요소를 유지하도록 구성된다. 베이스 유닛은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소를 포함하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 원주방향 및 반경방향에 대해 횡방향으로 두께 치수를 갖는다. 여기서, 유지 유닛은 광학 요소를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 정면측에 배치된다.
원리적으로, 지지 멤브레인 요소는 개별 유지 유닛 사이의 강성을 분리하고 균등화하는 전술된 기능을 얻기 위한 임의의 적합한 디자인 및 배열을 가질 수 있다. 예로서, 멤브레인 요소의 임의의 권취 및/또는 절첩된 구성이 (하나 이상의) 특정 자유도로 목표화된 방식으로 강성 또는 유연성을 설정하기 위해 실현될 수 있다(원주방향에 수직으로 연장하는 단면 평면에서). 따라서, 멤브레인 요소의 단면 윤곽은 적어도 단면 방향 직선 및/또는 적어도 단면 방향 다각형 및/또는 적어도 단면 방향 곡선 코스를 가질 수 있다. 당연히, 단면 윤곽의 직선 코스의 경우 특히 간단한 디자인이 발생한다.
특히 간단한 디자인을 갖는 변형예에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 얇은 벽 링형 디스크의 방식으로 또는 얇은 벽 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성되고; 특히 쉽게 생성될 수 있는 구성이 이에 의해 얻어질 수 있다.
지지 멤브레인 요소의 배열은 원리적으로, 개별 유지 유닛 사이의 강성의 원하는 분리 및/또는 균등화를 얻기 위해, 임의의 적합한 방식 및 광학 요소와 유지 디바이스(특히, 유지 유닛)의 페어링에 적응되는 방식으로 선택될 수 있다. 특정 유리한 변형예에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 반경방향으로 연장하고 원주방향에 수직인 단면 평면에서, 반경방향에 대해, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°만큼 경사진다. 이 변형예에서, 특히, 광학 요소의 주 연장 평면에 수직인 자유도에서 유지 유닛 사이의 적절한 협대역 강성 분포가 얻어질 수 있다. 여기서, 강성은 전술된 경사각에 의해 영향을 받을 수 있고, 주 연장 평면에 수직인 강성은 경사각에 따라 증가한다. 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소가 반경방향에 적어도 실질적으로 평행하게 연장하면, 특히 간단한 구성이 얻어질 수 있다.
특정 변형예에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 내부 섹션, 및 그로부터 반경방향으로 이격된 외부 섹션을 갖는다. 여기서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 내부 섹션과 외부 섹션 사이에 중간 섹션을 가질 수 있고, 이 중간 섹션은 다소 큰 연장부를 가질 수 있다(반경방향으로). 추가적으로 또는 그 대안으로서, 유지 유닛 중 적어도 하나(바람직하게는 복수의 유지 유닛, 특히 모든 유지 유닛)는 반경방향으로, 내부 섹션과 외부 섹션 사이에서 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소에 연결될 수 있다. 이에 의해, 이러한 지지 멤브레인 요소의 잠재력(강성의 분리 및/또는 균등화)이 특히 양호하게 활용될 수 있다. 여기서, 각각의 유지 요소가 반경방향에서, 내부 섹션과 외부 섹션 사이의 중앙 영역에 배치되면 유리할 수도 있다.
이는 특히, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소가 외부 섹션의 영역에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 외부 링 구조체에 연결되는 유리한 변형예에서 적용된다. 여기서, 특히, 외부 링 구조체는 광학 요소의 방향에서 지지 멤브레인 요소를 넘어 완전히 또는 부분적으로 돌출될 수 있다. 외부 링 구조체가 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 정면측으로부터 이격하여 향하는(즉, 달리 표현하면, 외부 링 구조체가 광학 요소로부터 이격하여 향함) 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 후면측에 배치되면, 특히 쉽게 제조되고 조립될 수 있는 디자인이 발생한다.
특정 변형예에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소가 내부 섹션의 영역에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 내부 링 구조체, 특히 얇은 벽 내부 링 구조체에 연결되면, 마찬가지로 유리할 수 있다. 내부 링 구조체도 광학 요소의 방향에서 지지 멤브레인 요소를 넘어 돌출될 수 있다. 유사하게, 추가적으로 또는 대안적으로, 내부 링 구조체는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 정면측으로부터 이격하여 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 후면측에 배치될 수 있다.
이 경우에, 유지 디바이스의 바람직한 강성의 증가를 달성하는 것에 추가하여, 각각의 내부 및 외부 링 구조체는, 유지 유닛 사이의 강성 분포의 부가의 적응이 상기 링 구조체의 디자인 및/또는 각각의 지지 멤브레인 요소로의 그 연결에 의해 비교적 간단하고 유연한 방식으로 가능하다는 점에서 유리하다.
여기서, 특히, 지지 인터페이스 유닛의 적어도 일부, 특히 3개의 지지 인터페이스 유닛이 외부 링 구조체 또는 내부 링 구조체에 형성된다는 점에서 외부 지지 구조체로의 유지 디바이스의 특히 간단한 연결이 가능하게 된다. 여기서, 이들 지지 인터페이스 유닛은 유지 디바이스의 원주를 따라 균일하게 분포될 수 있다. 그러나, 지지 인터페이스 유닛이 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 분포되면 강성 분포의 적응 잠재력이 특히 양호하게 효과를 발휘하는데, 이는 예를 들어 광학 요소 및/또는 이미징 디바이스의 인접 구성요소에 의해 미리 결정되기 때문이다.
원리적으로, 단지 외부 링 구조체 및/또는 내부 링 구조체만이 각각의 지지 멤브레인 요소에 연결되는 것이 충분할 수 있다. 유지 유닛 사이에 강성의 양호한 협대역 분포를 갖는 특히 적절한 변형예에서, 외부 링 구조체와 내부 링 구조체를 상호 연결하는 적어도 하나의 웨브 요소가 제공되고, 두께 치수(멤브레인 요소의)의 방향으로, 적어도 하나의 웨브 요소와 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소 사이에 간극이 형성된다.
여기서, 각각의 지지 인터페이스 유닛과 각각의 유지 유닛 사이의 힘 흐름은 웨브 요소의 배열 및/또는 디자인을 통해 적절한 방식으로 지향되고 분포될 수 있고, 그 결과 각각의 지지 인터페이스 유닛과 관련하여 각각의 유지 유닛의 강성에 각각 영향을 미치거나 설정하는 것이 또한 가능하다.
여기서, 간극은 지지 멤브레인 요소의 분리 잠재력이 제한되지 않거나, 또는 적절한 경우 정의된 방식으로 영향을 받는 것을 보장한다. 여기서, 간극은 외부 링 구조체와 내부 링 구조체 사이의 웨브 요소 길이의 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%, 더 바람직하게는 90% 내지 100%에 걸쳐 연장될 수도 있다. 당연히, 간극이 존재하지 않는(즉, 웨브 요소가 지지 멤브레인 요소와 접촉하는) 영역은 이어서 이 영역에서 지지 멤브레인 요소의 변형 가능성을 제한한다. 결과적으로, 이러한 영역은 강성을 증가시키는 효과를 갖는다. 이 강화 효과는 그 간극을 국소적으로 폐쇄함으로써 강성을 국소적으로 조절하기 위해 또한 사용될 수 있다.
유지 유닛 사이에서 얻어지도록 의도된 강성 분포에 따라, 단일 웨브 요소가 가능하게는 충분할 수도 있다. 특정 변형예에서, 서로 할당된 적어도 하나의 쌍의 웨브 요소가 제공되고, 적어도 하나의 쌍의 2개의 웨브 요소는 원주방향으로 바로 연속적으로 내부 링 구조체와 맞물리고, 이는 얻어질 힘 흐름, 및 따라서 강성 분포의 특히 적절한 설정을 허용한다. 얻어질 강성 분포에 따라, 임의의 수의 쌍의 웨브 요소가 원리적으로 제공될 수 있는 것이 이해된다. 특히 적절한 구성은 통상적으로 서로 할당된 이러한 3개의 쌍의 웨브 요소가 제공되는 경우 발생한다.
복수의 쌍의 이러한 웨브 요소의 경우, 상이한 쌍의 웨브 요소는 가능하게는 교차할 수도 있다. 그러나, 적어도 하나의 쌍의 2개의 웨브 요소가 외부 링 구조체에 즉시 연속적으로 맞물리면, 즉, 웨브 요소의 이러한 교차가 없으면 특히 유리할 수 있다.
원주에 걸친 웨브 요소의 배열 또는 분포는 얻어질 유지 유닛 사이의 강성 분포에 따라, 임의의 적합한 방식으로 구현될 수 있다. 바람직한 변형예에서, 적어도 하나의 쌍의 2개의 웨브 요소는 원주방향으로 서로 바로 연속하는 2개의 지지 인터페이스 유닛 사이에서 외부 링 구조체와 맞물린다. 이는 힘 흐름 및 따라서 강성(하나 이상의 자유도에서)의 특히 적절한 분포 또는 설정이 지지 인터페이스 유닛과 유지 유닛 사이에서 얻어지게 한다.
원리적으로, 각각의 쌍의 2개의 웨브 요소는 원하는 강성 분포를 얻기 위해 서로에 대해 임의의 적합한 정렬을 가질 수 있다. 바람직하게는, 적어도 하나의 쌍의 2개의 웨브 요소는 각각 종축을 정의하고 2개의 종축은 주 연장 평면의 평면도에서, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°, 특히 0°의 상호 기울기로 연장된다(여기서, 결과적으로, 이들은 이어서 서로 평행하게 또는 가능하게는 서로 동일 선상으로 연장함).
추가로 또는 그 대안으로서, 각각의 쌍의 2개의 웨브 요소는 또한 2개의 링 구조체 및/또는 지지 인터페이스 유닛에 대해 임의의 적합한 방식으로 정렬될 수 있다. 유리한 변형예에서, 적어도 하나의 쌍의 2개의 웨브 요소는 각각 종축을 정의하고, 주 연장 평면의 평면도에서, 2개의 종축 중 적어도 하나, 바람직하게는 2개의 종축의 각각은 연결 라인에 대해 최대 30°, 바람직하게는 최대 10°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장되고, 상기 연결 라인은 원주방향으로 서로 바로 연속하는 외부 링 구조체에서 2개의 지지 인터페이스 유닛을 연결하고, 그 사이에 (쌍의) 각각의 웨브 요소가 맞물린다. 여기서, 본 개시내용의 의미 내에서, 2개의 지지 인터페이스 유닛 사이의 연결 라인은 바람직하게는 각각의 지지 인터페이스 유닛에서 (이미징 디바이스의 지지 구조체의) 결과적인 지지력의 공격 지점 사이의 연결에 의해 형성된다. 그 결과, 지지 인터페이스 유닛과 유지 유닛 사이의 힘 흐름의 특히 적절한 분포를 얻는 것이 가능하고, 따라서 유지 유닛 사이의 적절한 협대역 강성 분포(하나 이상의 자유도에서)를 얻는 것이 가능하다.
다른 변형예에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 그 정면측으로부터 이격하여 향하는 그 후면측에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 지지 링 구조체에 연결된다. 여기서, 지지 인터페이스 유닛, 특히 3개의 지지 인터페이스 유닛은 이어서 바람직하게는 지지 링 구조체에 형성된다. 여기서도, 원주에 걸쳐 지지 인터페이스 유닛의 균일한 분포가 제공될 수 있다. 그러나, 지지 인터페이스 유닛이 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 분포되면 장점이 특히 양호하게 발휘된다.
이 디자인에서, 특히 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소가 지지 링 구조체에 연속적으로 연결되게 하는 것이, 즉, 지지 링 구조체와 지지 멤브레인 요소 사이에 간극이 존재하지 않게 하는 것이 제공될 수 있다. 그러나, 다른 변형예에서, 적어도 단면 방향에서, 이러한 간극은 이 영역에서 지지 멤브레인 요소의 적어도 단면 방향 변형 능력을 해제하기 위해 전술된 바와 같이 웨브 요소와 관련하여 또한 제공될 수 있다는 것이 이해된다.
이들 디자인에서도, 지지 인터페이스 유닛과 개별 유지 유닛 사이의 힘 흐름, 및 따라서 유지 유닛 사이의 강성 분포는 지지 링 구조체의 디자인 및/또는 프로파일에 의해 설정될 수 있다. 특정 변형예에서, 이를 위해, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 내부 섹션으로부터의(특히 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 내부 에지로부터의) 지지 링 구조체의 거리는 원주방향에서 서로 바로 연속하는 적어도 2개의, 특히 모든 지지 인터페이스 유닛 사이에서 원주방향을 따라 변경된다.
지지 링 구조체가 반경방향에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 내부 에지를 넘어 내향으로 돌출하지 않고 본질적으로 최단 경로를 따라, 원주방향으로 서로 바로 연속하는 적어도 2개(바람직하게는 모든) 지지 인터페이스 유닛을 연결하면 더욱이 유리하다. 특히 적절한 힘 흐름 분포가 여기서 얻어질 수 있다.
유지 디바이스에 대해, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소와 지지 링 구조체의 조합은 원리적으로 충분할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 바람직한 변형예에서, 지지 링 구조체는 지지 멤브레인 요소로부터 이격하여 향하는 후면측에서, 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소에 연결된다. 이는 유리하게는 유지 디바이스의 강성을 전체적으로 증가시킬 수 있고, 그 결과 특히, 유지 디바이스의 유리하게 높은 공진 주파수가 발생한다.
원리적으로, 강화 멤브레인 요소는 임의의 적합한 원하는 방식으로 설계될 수 있다. 특히, 이는 지지 멤브레인 요소와 유사하거나 심지어 동일한 방식으로 구성될 수 있다. 바람직하게는, 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소는 얇은 벽 링형 디스크의 방식으로 또는 얇은 벽 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성된다. 더욱이, 반경방향으로 그리고 원주방향에 수직으로 연장하는 단면 평면에서, 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소는 추가로 또는 대안적으로 반경방향에 대해, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장할 수 있다. 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소가 반경방향에 적어도 실질적으로 평행하게 연장되면 여기서 또한 특히 유리하다. 강화 멤브레인 요소의 디자인 및 배열에 대해, 또한, 지지 멤브레인 요소에 대해 상기에 제공된 설명이 원리적으로 적용되며, 따라서 이와 관련하여 참조된다.
이들 디자인에서도, 유지 유닛은 원리적으로 광학 요소를 유지하기 위한 임의의 적합한 형태로 구성될 수 있다. 후방 지지 링 구조체를 갖는 디자인에서, 바람직하게는, 원주방향으로 바로 인접하여 위치된 2개의 유지 유닛 중 적어도 하나(바람직하게는, 각각의 유지 유닛)은 분리 섹션을 통해 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소에 연결된다. 이는 후방 지지 링 구조체에 의한 지지 멤브레인 요소의 변형 능력의 제한이 이 분리 섹션에 의해 보상되는 것을 쉽게 보장할 수 있다. 여기서, 원리적으로, 분리 섹션을 통한 분리는 임의의 디자인을 가질 수 있고, 요구되는 자유도 또는 자유도들에 각각 일치될 수 있다. 통상적으로, 분리 섹션이 반경방향에 평행한 경사축을 중심으로 경사 자유도를 해제하면 특히 유리하다.
원리적으로, 본 개시내용의 개념 내에서 멤브레인 요소는 얇은 벽 요소이고, 그 두께 치수는 공간에서 다른 2개의 방향에서의 그 치수보다 상당히 더 작다(통상적으로는 적어도 한 자릿수만큼)는 것이 이해될 수 있을 것이다. 바람직하게는, 원주방향에 수직인 단면 평면에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 폭 치수가 정의되고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 두께 치수는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 폭 치수의 2% 내지 30%, 바람직하게는 5% 내지 25%, 더 바람직하게는 10% 내지 20%이다. 이는 유지 유닛 사이의 얻어질 협대역 강성 분포와 관련하여 특히 적절한 특성이 얻어지게 한다. 여기서, 절대 폭 치수가 영향을 미칠 수도 있고, 상대 두께 치수는 또한 증가하는 폭 치수에 따라 증가하는 것이 가능하다는 것이 이해된다. 어느 경우든, 지지 멤브레인 요소의 강성은, 특히 주 연장 평면에 수직인 방향에서, 베이스 유닛의 인접 구성요소의 강성보다 적어도 한 자릿수만큼 작은 것이 바람직하다(대응 공간 방향에서).
추가로 또는 그 대안으로서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 두께 치수는 원주방향을 따라 변경될 수 있고, 두께 치수는 특히, 원주방향을 따라 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛까지의 각도 거리에 따라 변경될 수 있다. 여기서, 특히, 두께 치수가 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛에 대한 각도 거리가 증가함에 따라 증가하게 하는 것이 제공될 수 있다. 두께 치수의 이러한 변화에 의해, 각각의 경우에, 각각의 지지 멤브레인 요소의 변형 특성을 미세하게 설정하고 따라서 (그 자체로 또는 본 명세서에 설명된 다른 수단과 함께) 유지 유닛 사이의 원하는 협대역 강성 분포를 얻는 것이 가능하다. 추가로 또는 그 대안으로서, 이 목적을 위해 반경방향을 따라 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 두께 치수를 변경하는 것이 또한 당연히 가능하다. 여기서, 두께 치수는 특히, 반경방향으로 지지 멤브레인 요소의 원하는 강성 프로파일에 따라 변경될 수 있다.
추가로 또는 그 대안으로서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 원주방향에서, 2개의 바로 인접한 유지 유닛 사이에 위치된 적어도 하나의 영역, 특히 2개의 바로 인접한 유지 유닛 사이의 각각의 영역에 적어도 하나의 관통 개구를 가질 수도 있다. 이는 당연히 또한 각각의 지지 멤브레인 요소의 변형 특성에 영향을 미치기 위한 대응 옵션, 및 이어서 유지 유닛 사이의 협대역 강성 분포를 제공한다.
바람직하게는, 각각의 유지 유닛은 광학 요소에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 포함하고, 주 연장 평면에 수직인 제1 방향에서의 제1 강성 및 반경방향에 평행한 축에 대한 제2 강성은 지지 인터페이스 유닛에 대한 각각의 유지 유닛의 각각의 유지 인터페이스 유닛에 대해 정의된다. 여기서, 유지 디바이스, 특히 베이스 유닛, 특히 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 이어서, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛에 대해, 및 유지 유닛의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 그룹에 대해, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛 사이의 제1 강성의 편차가 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛의 최소 제1 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성된다. 일반적으로, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛 사이의 제1 강성의 편차는 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛의 최소 제1 강성의 1% 미만인 것이 바람직하다. 이 방식으로, 특히 적절한 협대역 강성 분포가 제1 방향(즉, 광학 요소의 주 연장 평면에 수직)으로 유리하게 얻어진다.
단일 자유도, 특히 주 충격 하중이 예상되는 자유도에 대한 유지 유닛 사이의 강성 분포의 이러한 적응이 충분할 수도 있다는 것이 이해된다. 바람직하게는, 이러한 적응은 또한 추가 자유도로 구현된다. 마찬가지로, 하나 이상의 다른 자유도에서만 적응을 착수하는 것도 또한 당연히 가능하다.
따라서, 특정 변형예에서, 유지 디바이스, 특히 베이스 유닛, 특히 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 이어서, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛에 대해, 및 유지 유닛의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 다른 그룹에 대해, 유지 유닛의 다른 그룹의 유지 유닛 사이의 제2 강성의 편차가 유지 유닛의 다른 그룹의 유지 유닛의 최소 제2 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성될 수도 있다. 직전에 전술된 바와 같이 제1 강성(즉, 제1 그룹) 및 제2 강성(즉, 제2 그룹)에 대한 유지 유닛의 2개의 그룹은 동일할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 이들은 또한 하나 이상의 유지 유닛에 의해 상이할 수도 있다.
원리적으로, 유지 유닛은 동작 중에 광학 요소를 유지하기 위해 임의의 적합한 방식으로 설계될 수 있다. 여기서, 기본적으로, 마찰 및/또는 포지티브 및/또는 접착 연결 기술이 개별적으로 또는 임의의 원하는 조합으로 사용될 수 있다. 따라서, 예를 들어, 유지 유닛은 예를 들어 접착제 접합 등과 같은 종래의 접착 연결이 광학 요소를 연결하기 위해 사용되는 이러한 방식으로 설계될 수 있다.
탈착 가능한 연결부가 바람직한 변형예에서 사용된다. 여기서, 각각의 경우에 개별 클램핑 연결부를 통해 광학 요소를 유지하는 유지 유닛이 바람직하다. 여기서, 각각의 클램핑 연결부는 연결부의 간단한 해제 가능성 및 따라서 광학 요소의 간단한 교체 가능성을 보장한다. 더욱이, 클램핑은 그로부터 발생하는 유지력(즉, 클램핑 표면 사이의 마찰)이 클램핑 표면에서의 접촉력에 의해 비교적 높은 정밀도로 설정될 수 있다는 점에서 유리하다. 따라서, 유지 유닛에서 가장 불리한 사례에 예상되는 충격 하중이 상기 유지 유닛의 유지력을 초과하는 위험이 큰 안전 계수를 제공할 필요 없이 따라서 유지 유닛의 과치수 설정 없이 신뢰적으로 감소될 수 있다. 결과적으로, 비교적 간단화된 유지 유닛에도 불구하고 충격 하중 하에서 시스템의 고장에 대한 충격 안전성 또는 신뢰성이 유리하게 증가될 수 있다.
원리적으로, 각각의 유지 유닛과 광학 요소 사이의 클램핑 연결부는 임의의 적합한 방식으로 설정될 수 있다. 특히, 클램핑을 위해 요구된, 유지 유닛의 하나 이상의 각각의 접촉 표면과 광학 요소 사이의 마찰 맞물림은 임의의 적합한 방식으로 유도될 수 있다. 따라서, 단일 클램핑 요소가 각각의 유지 유닛에 대해 제공될 수 있고, 상기 클램핑 요소는 클램핑의 마찰 맞물림을 얻기 위해 적합한 인장 디바이스에 의해 광학 요소 상의 대응하는 접촉 표면에 대해 가압된다. 예를 들어, 클램핑 요소는 베이스 유닛 상의 그 자신의 지지에 의해 광학 요소에 대해 미리 인장될 수 있다. 대응하는 대향력은 이어서 조립된 상태에서 광학 요소 상에 작용하는 접촉력이 적어도 단면 방향에서 서로 상쇄되지만 적어도 전체적으로 서로 상쇄되고, 광학 요소의 정의된 위치 및 배향이 달성되는 이러한 방식으로 하나 이상의 인접한 유지 유닛에 의해 인가될 수 있다.
유지 유닛 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛이 광학 요소에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 포함하고, 유지 인터페이스 유닛은 특히, 제1 클램핑 요소 및 제2 클램핑 요소를 포함하면, 특히 간단한 디자인이 발생한다. 여기서, 제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소는 클램핑 연결부를 설정하기 위해 서로에 대해 간단히 브레이싱되고, 광학 요소의 유지 인터페이스 섹션은 제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소 사이에 특히 쉽게 클램핑된다. 바람직하게는, 이러한 구성은 그 경우에 전체적으로 특히 간단한 디자인이 발생하기 때문에 각각의 유지 유닛에 대해 선택된다.
제1 클램핑 요소와 제2 클램핑 요소가 클램핑 연결부를 설정하기 위해, 간단한 인장 요소에 의해 서로에 대해 브레이싱되면, 광학 요소 내로 기생 응력을 도입하는 적은 위험을 갖는 특히 유리한 변형예가 발생한다. 여기서, 인장 요소는 예를 들어, 클램핑 브래킷의 형태 또는 타이 로드의 형태로 설계될 수 있다. 바람직하게는, 인장 요소는 인터페이스 섹션의 리세스를 통해 도달하고, 그 결과 클램핑력의 특히 균일한 분포가 특히 국소적으로 얻어질 수 있다. 여기서, 인장 요소는 바람직하게는 인장 요소와 광학 요소의 인터페이스 섹션 사이의 접촉을 회피하기 위해 인터페이스 섹션의 리세스를 통해 유극을 갖고 도달하고, 상기 접촉은 그렇지 않으면 가능하게는 광학 요소 내에 기생 응력을 유도한다.
바람직하게는, 인장 요소 내의 인장력 손실을 감소시키도록 구성된 보상 스프링 디바이스가 제공된다. 원리적으로, 이 보상 스프링 디바이스는 임의의 적합한 원하는 방식으로 설계될 수 있다. 예로서, 컵 스프링 또는 컵 스프링 패킷(때때로 또한 각각 벨빌 와셔 또는 벨빌 와셔 패킷이라고도 칭함)의 방식으로 쉽게 설계될 수 있다.
원리적으로, 인장 요소는 서로에 대한 클램핑 요소의 브레이싱 및 따라서 인터페이스 섹션의 클램핑을 얻기 위한 임의의 적합한 디자인을 가질 수 있다. 언급된 바와 같이, 이는 2개의 클램핑 요소 주위에 맞물리고 브레이싱하는 클램핑 브래킷과 관련될 수도 있다. 인장 요소가 브레이싱 목적을 위해 클램핑 요소 중 하나에 나사 결합되는 나사산 형성 섹션을 포함하면, 특히 간단하고 콤팩트한 구성이 발생한다. 여기서, 클램핑 요소 중 적어도 하나가 연결 섹션을 통해 베이스 유닛에 연결되고, 연결 섹션은 이어서 바람직하게는 나사산 형성 섹션의 종축에 실질적으로 평행하게 연장하는 축을 중심으로 하는 회전 자유도를 제한하는 이러한 방식으로 구성되면 특히 유리하다. 이는 이와 관련하여 광학 요소 내에 기생 응력이 도입되지 않거나 단지 매우 낮은 기생 응력만이 도입되도록 연결 섹션이 간단한 방식으로 나사 연결부의 조임 토크의 적어도 대부분을 취하는 것을 보장할 수 있다.
각각의 유지 유닛은 광학 요소를 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 가질 수 있고, 각각의 유지 인터페이스 유닛은 원리적으로 임의의 적합한 방식으로 베이스 유닛에 연결될 수 있는 것이 이해된다. 특히, 예를 들어 클램핑 요소 중 하나와 같은 유지 인터페이스 유닛의 부분은 전술된 인장 요소를 통해 단지 간접적으로만 베이스 유닛에 연결될 수 있고, 반면 다른 부분, 예를 들어 다른 클램핑 요소는 상기 베이스 유닛에 직접 연결될 수 있다. 바람직하게는, 유지 인터페이스 유닛 중 적어도 하나, 특히 각각의 유지 인터페이스 유닛은 연결 섹션을 통해 지지 멤브레인 요소에 연결된다. 전술된 클램핑 요소가 사용되면, 예를 들어 제1 클램핑 요소가 연결 섹션을 통해 지지 멤브레인 요소에 연결되게 하고 그리고/또는 제2 클램핑 요소가 연결 섹션을 통해 지지 멤브레인 요소에 연결되게 하는 것이 가능하다.
제1 클램핑 요소 및 제2 클램핑 요소는 공통 연결 섹션을 통해 베이스 유닛에 연결될 수도 있는 것이 이해된다. 그러나, 다른 변형예에서, 제1 클램핑 요소는 제1 연결 섹션을 통해 베이스 유닛에 연결될 수 있고, 제2 클램핑 요소는 또한 필요한 경우 (개별) 제2 연결 섹션을 통해 베이스 유닛에 연결될 수 있다. 여기서, 제1 연결 섹션과 제2 연결 섹션이 서로에 대해 실질적으로 평행하게 연장하면 유리할 수도 있는데, 이는 생산 및 조립이 특히 쉽지만, 그럼에도 불구하고 동적 관점으로부터, 유리하게는 특정 자유도에서 강성인 구성을 달성하기 때문이다. 추가로 또는 그 대안으로서, 제1 연결 섹션 및 제2 연결 섹션은 반경방향에 대해 실질적으로 평행하게 서로에 대해 브레이싱되는 클램핑 요소를 안내하도록 구성된 평행 가이드의 방식으로 구성될 수 있다. 양 변형예에서, 전술된 반경방향 유연성(열적 변형 분리 목적을 위한)은 특정 조건 하에서 동적으로 유리한 나머지 자유도에서 높은 강성을 갖고 얻어질 수 있다. 그러나, 특정 조건 하에서, 연결부의 이 높은 강성은 또한 유지 디바이스의 변형의 경우에 광학 요소 내에 비교적 높은 기생 응력을 유도할 수도 있기 때문에 역효과를 낼 수 있다.
원리적으로, 연결 섹션은 임의의 원하는 적합한 방식으로 설계될 수 있다. 따라서, 예로서, 연결 섹션은 판 스프링의 방식으로 구성될 수 있다. 이는 특히 간단하고 콤팩트하며 비용 효율적인 변형예를 제공한다. 추가로 또는 그 대안으로서, 연결 섹션은 반경방향으로(광학 요소의) 유연성이도록 구성될 수 있다. 이는 특히, 광학 요소와 유지 디바이스가 상이한 열 팽창 계수를 가지면 유리하다. 반경방향 유연성은 이어서 광학 요소와 유지 디바이스 사이에 양호한 열적 변형 분리가 얻어지게 한다. 추가로 또는 그 대안으로서, 연결 섹션은 실질적으로 반경방향에 수직인 평면으로 연장될 수 있다. 이는 또한 특히 비용 효율적이고 콤팩트한 구성이 얻어질 수 있게 한다.
특정 변형예에서, 연결 섹션은 반경방향에 실질적으로 평행하게 연장하는 축을 중심으로 하는 회전 자유도를 제한하는 이러한 방식으로 구성된다. 특히, 이는 연결 섹션이 이어서 조임 토크의 적어도 일부를 흡수할 수 있기 때문에(클램핑 연결부에 대해 이미 전술됨) 반경방향으로 정렬된 나사 등이 고정 목적으로 사용되면 유리하다.
원리적으로, 연결 섹션은 전술된 변형예를 실현하기 위해 임의의 적합한 방식으로 정렬될 수 있다. 특정 변형예에서, 연결 섹션은 종축을 정의하고, 연결 섹션의 종축은 이어서 주 연장 평면에 실질적으로 수직으로 또는 주 연장 평면에 실질적으로 평행하게 연장된다. 전술된 반경방향 유연성은 양 경우에 특히 간단한 방식으로 실현될 수 있다.
원리적으로, 광학 요소는 유지 유닛으로의 각각의 연결을 설정하기 위한 임의의 디자인을 가질 수도 있다. 따라서, 이는 예를 들어 유지 유닛으로의 연결을 위해 제공되는 단일 유지 인터페이스 섹션을 포함할 수도 있다. 특정 변형예에서, 광학 요소는 각각의 경우에 각각의 유지 유닛과의 연결부를 설정하기 위한 개별 유지 인터페이스 섹션을 포함하고, 상기 유지 인터페이스 섹션은 각각의 유지 유닛으로의 연결부로서 역할을 한다. 이어서, 예를 들어, 전술된 바와 같이, 광학 요소의 유지 인터페이스 섹션은 유지 유닛의 2개의 클램핑 요소 사이에 클램핑될 수도 있다.
유지 인터페이스 섹션과 유지 유닛은 원하는 바와 같이 서로 조합 가능할 수도 있고; 즉, 유지 인터페이스 섹션과 유지 유닛 사이의 특정 페어링이 제공될 수 없다(예를 들어, 광학 요소 및 유지 유닛을 갖는 베이스 유닛은 따라서 원주방향을 따라 서로에 대해 임의로 회전될 수 있음). 다른 변형예에서, 이러한 특정 페어링은 구성요소의 대응적으로 상이한 디자인 및/또는 배열에 의해 실현된다. 여기서, 유지 인터페이스 섹션은 제1 유지 유닛과 조합 가능하지만 제2 유지 유닛과 조합 가능하지 않도록 구성될 수 있다.
원리적으로, 광학 요소의 유지 인터페이스 섹션은 임의의 적합한 방식으로 광학 요소에서 실현될 수 있다. 광학 요소의 유지 인터페이스 섹션이 광학 요소의 돌출부에 의해 구성되면 특히 콤팩트한 간단한 디자인이 발생한다. 복수의 유지 인터페이스 섹션이 광학 요소의 공통 돌출부에 형성될 수 있다. 더욱이, 모든 유지 인터페이스 섹션은 광학 요소의 링형 돌출부에 형성될 수 있다. 광학 요소의 돌출부는 원주방향으로 및/또는 원주방향 및 반경방향에 의해 정의된 평면에 수직인 방향으로 연장될 수도 있다.
원리적으로, 각각의 유지 인터페이스 섹션은 임의의 적합한 원하는 방식으로 설계될 수 있다. 예로서, 이는 광학 요소의 본체에 직접 형성될 수도 있다. 이들은 쉽게 높은 정밀도로 실행될 수 있기 때문에 바람직한 변형예에서, 각각의 유지 인터페이스 섹션은 광학 요소에 연결된 유지 인터페이스 요소에 의해 구성될 수 있다. 여기서, 유지 인터페이스 요소는 광학 요소의 리세스 내에 삽입될 수도 있고, 상기 인터페이스 요소는 특히, 광학 요소의 돌출부의 리세스 내에 삽입될 수도 있다. 이러한 구성은 특히 쉽게 생성될 수 있다. 유지 인터페이스 요소는 예를 들어, 연결 부싱을 포함할 수도 있다. 연결 부싱은 간단하고 정밀한 생산 및 조립을 용이하게 하는 칼라를 포함할 수도 있다.
원리적으로, 광학 요소는 단일 부분 또는 다중 부분 방식으로 임의의 적합한 재료로부터 제조될 수 있다. 바람직하게는, 적어도 돌출부의 영역에서, 광학 요소는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 그리고/또는 Zerodur를 포함하는 재료로부터 및/또는 렌즈 재료로부터 제조된다. 광학 요소에 대한 다른 적합한 재료는 알루미늄(Al), 알루미늄 합금, 특히 알루미늄 실리콘(AlSi), 베릴륨(Be), 베릴륨 합금, 특히 알루미늄 베릴륨(AlBe), ULE®(미국 뉴욕 14831, 코닝 소재의 Corning Inc에 의한 초저팽창 유리), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 실리콘 카바이드(SiC) 및 실리콘(Si)이다. 인터페이스 요소를 갖는 변형예에서, 인터페이스 요소는 바람직하게는 인바(invar) 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조될 수 있다. 인터페이스 요소에 대한 다른 적합한 재료는 알루미늄(Al), 알루미늄 합금, 특히 알루미늄 실리콘(AlSi), 베릴륨(Be), 베릴륨 합금, 특히 알루미늄 베릴륨(AlBe), 세라믹 재료, 특히 SiSiC, 뿐만 아니라 유리 섬유 강화 플라스틱(GFRP) 또는 탄소 섬유 강화 플라스틱(CFRP)이다.
원리적으로, 광학 표면은 임의의 굴절 및/또는 반사 및/또는 회절 광학 표면일 수 있다. 본 명세서에 설명된 장점은 광학 표면이 반사 광학 표면이면 특히 효과를 발휘한다. 이어서, 광학 표면은 바람직하게는 광학 요소의 본체 상에 배치된다. 본체는 이어서 바람직하게는 광학 표면으로부터 이격하여 향하는 측면에 적어도 하나의 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부는 유지 유닛 중 적어도 하나에 대한 인터페이스 섹션을 형성한다.
원리적으로, 베이스 유닛도 마찬가지로 임의의 디자인을 가질 수 있다. 바람직한 콤팩트한 변형예에서, 베이스 유닛은 링형 구성을 갖는다. 여기서, 베이스 유닛은 가장 간단한 경우에 원형 링 형상의 디자인을 가질 수 있다. 그러나, 예를 들어 적어도 단면 방향 다각형인 링 또는 곡선 및 직선 세그먼트의 조합을 갖는 링과 같은, 임의의 다른 링 형태가 또한 가능하다. 통상적으로, 베이스 유닛의 형태는 지지될 광학 요소의 형태와 일치한다.
특히 유리한 디자인에서, 베이스 유닛은 베이스 유닛의 주 연장 평면을 정의하고 유지 유닛 중 적어도 하나는 베이스 유닛의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛으로부터 돌출된다. 바람직하게는, 이는 모든 유지 유닛에 적용되어, 상기 유지 유닛이 베이스 유닛의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛으로부터 돌출되게 된다. 링형 베이스 유닛을 갖는 변형예에서, 이는 이어서 유지 유닛이 크라운의 갈래(tine)의 방식으로 링형 베이스 유닛으로부터 돌출하는 크라운형 디자인을 제공한다.
원리적으로, 유지 디바이스는 소위 차동 디자인으로 복수의 개별 구성요소로부터 임의의 적합한 방식으로 구성될 수도 있다. 특정의 특히 강건하고 매우 정밀하게 제조된 변형예에서, 베이스 유닛은 모놀리식 구성을 갖는다. 추가로 또는 그 대안으로서, 지지 멤브레인 요소는 유지 유닛 중 적어도 하나(바람직하게는 모든 유지 유닛과 함께)와 함께 모놀리식이 되도록 형성될 수 있다.
원리적으로, 임의의 적합한 재료가 유지 디바이스 또는 그 구성요소에 대해 사용될 수 있다. 이는 예를 들어, 개별적으로 또는 임의의 원하는 조합으로, 스테인리스강, 알루미늄(Al) 또는 베릴륨(Be)일 수 있다. 다른 적합한 재료는 알루미늄 합금, 특히 알루미늄 실리콘(AlSi), 베릴륨 합금, 특히 알루미늄 베릴륨(AlBe), 세라믹 재료, 특히 SiSiC, 뿐만 아니라 유리 섬유 강화 플라스틱(GFRP) 또는 탄소 섬유 강화 플라스틱(CFRP)이다.
전술된 바와 같이, 바람직하게는 가능한 한 다수의 유지 유닛이 존재하고, 상기 수는 광학 요소의 크기에 따라 이용 가능한 설치 공간에 의해 제한된다. 바람직하게는, 적어도 6개, 더 바람직하게는 적어도 9개, 더욱 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛이 제공된다. 그러나, 광학 요소의 치수 또는 이용 가능한 설치 공간에 따라, 상당히 더 많은 유지 유닛이 또한 제공될 수도 있다. 따라서, 대형 광학 요소의 경우 가능한 한 다수의 유지 유닛이 바람직하다. 여기서, 유지 유닛의 수는 120개 이상일 수 있다. 유지 유닛은 임의의 분포로 배치될 수 있다. 특히, 분포는 광학 요소의 질량 분포 및/또는 예상되는 하중 방향(특히 충격 하중의)에 적응될 수 있다. 특정 변형예에서, 유지 유닛은 원주방향을 따라 실질적으로 균일한 분포로 배치된다. 특히, 이는 하중이 임의의 방향으로 발생할 수도 있는 상황을 고려할 수 있다.
제2 양태에 따르면, 본 발명은 광학 요소를 유지하기 위한 유지 디바이스를 포함하는, 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피 이미징 디바이스의 장치에 관한 것이다. 광학 요소는 광학 표면을 포함하고 광학 요소가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의한다. 유지 디바이스는 베이스 유닛 및 복수의 개별 유지 유닛, 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛을 포함한다. 지지 구조체에 유지 디바이스를 연결하기 위한 베이스 유닛은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛을 포함한다. 유지 유닛은 베이스 유닛에 연결되어 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치된다. 유지 유닛은 베이스 유닛에 대해 광학 요소를 유지하도록 구성되고, 각각의 유지 유닛은 광학 요소에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 포함한다. 지지 인터페이스 유닛의 각각에 대해, 제1 방향, 특히 주 연장 평면에 수직인 제1 방향에서의 제1 강성은 각각의 유지 유닛의 각각의 유지 인터페이스 유닛에 대해 정의된다. 베이스 유닛은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소를 포함하고, 유지 유닛은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소 상에, 특히 광학 요소를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 정면측 상에 배치된다. 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소를 포함하는 유지 디바이스의 적어도 일부는, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛에 대해, 및 유지 유닛의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 그룹에 대해, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛 사이의 제1 강성의 편차가 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛의 최소 제1 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성된다. 일반적으로, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛 사이의 각각의 강성의 편차는 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛의 최소 각각의 강성의 1% 미만인 것이 바람직하다.
전술된 바와 같이, 지지 멤브레인 요소 상에 각각의 유지 유닛을 배치하는 결과로서, 지지 멤브레인 요소의 디자인에 의해 및/또는 지지 멤브레인 요소가 지지 인터페이스 유닛에 연결되는 방식에 의해 각각의 유지 유닛의 힘의 광학 유닛측 공격 지점(광학 요소에서)과 각각의 지지 인터페이스 유닛에서 힘의 지지 구조체측 공격 지점(지지 구조체의) 사이에 유지 디바이스의 강성을 설정하는 것이 더욱이 가능하다. 결과적으로, 이것이 유리하게 달성할 수 있는 것은, 특히 특정의 각각의 자유도에서 이 강성이, 최대 가능한 정도로, 복수의 유지 유닛(바람직하게는 모든 유지 유닛) 사이에 균등화된다는 것이다. 특정 자유도에서 이 균등화가 클수록(따라서, 이 자유도에서 개별 유지 유닛 사이의 강성의 차이가 더 작을수록 또는 유지 유닛 사이에서 이 강성의 분포가 더 협대역일수록), 충격 하중은 각각의 자유도에서 유지 유닛 사이에서 더 균일하게 분포된다. 이상적인 경우에, 각각의 자유도에서 힘의 지지 구조체측 공격 지점과 관련하여 모든 유지 유닛에 대해 적어도 실질적으로 동일한 강성이 얻어지는 것도 가능하다. 이 경우, 각각의 자유도에서 충격 하중은 이어서 모든 유지 유닛 사이에 균일하게 분포된다.
제2 양태에 따른 유지 유닛 사이의 이 강성 분포는 특히, 본 발명의 상기 제1 양태의 맥락에서 전술된 바와 같은 특징 및 변형예(또는 특징 조합)와 임의로 조합될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 특히, 각각의 특징에 대해 전술된 바와 동일한 장점이 달성될 수도 있다. 따라서, 상기에 제공된 설명이 명시적으로 참조된다.
본 발명은 또한 제1 광학 요소 그룹을 포함하는 조명 디바이스, 물체를 수용하기 위한 물체 디바이스, 제2 광학 요소 그룹을 포함하는 투영 디바이스 및 이미지 디바이스를 포함하는, 광학 이미징 디바이스, 특히 마이크로리소그래피 광학 이미징 디바이스에 관한 것으로서, 조명 디바이스는 물체를 조명하도록 구성되고, 투영 디바이스는 물체의 이미지를 이미지 디바이스 상에 투영하도록 구성된다. 조명 디바이스 및/또는 투영 디바이스는 본 발명에 따른 적어도 하나의 장치를 포함한다. 이는 전술된 변형예 및 장점을 동일한 정도로 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 상기에 제공된 설명을 참조한다.
본 발명은 더욱이 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피 광학 요소를 지지하기 위한 방법에 관한 것으로서, 광학 표면을 포함하고 광학 요소가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의하는 광학 요소(109)가 유지 디바이스에 의해 유지된다. 여기서, 광학 요소는 유지 디바이스의 복수의 개별 유지 유닛, 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛에 의해 유지 디바이스의 베이스 유닛에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치된다. 베이스 유닛은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛에 의해 지지 구조체에 연결된다. 여기서, 베이스 유닛의 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소는 원주방향 및 반경방향에 대해 횡방향으로 두께 치수를 갖는다. 유지 유닛은 광학 요소를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 정면측에 배치된다. 이는 또한 제1 양태의 맥락에서 전술된 변형예 및 장점을 동일한 정도로 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 상기에 제공된 설명을 참조한다.
본 발명은 더욱이 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피 광학 요소를 지지하기 위한 방법에 관한 것으로서, 광학 표면을 포함하고 광학 요소가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의하는 광학 요소(109)가 유지 디바이스에 의해 유지된다. 여기서, 광학 요소는 유지 디바이스의 복수의 개별 유지 유닛, 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛에 의해 유지 디바이스의 베이스 유닛에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치된다. 베이스 유닛은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛에 의해 지지 구조체에 연결된다. 각각의 유지 유닛은 광학 요소에 연결되는 유지 인터페이스 유닛을 포함한다. 지지 인터페이스 유닛의 각각에 대해, 제1 방향, 특히 주 연장 평면에 수직인 제1 방향에서의 제1 강성은 각각의 유지 유닛의 각각의 유지 인터페이스 유닛에 대해 정의된다. 유지 유닛은 베이스 유닛의 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소 상에, 특히 광학 요소를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소의 정면측 상에 배치된다. 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소를 포함하는 유지 디바이스의 적어도 일부는, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛에 대해, 및 유지 유닛의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 그룹에 대해, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛 사이의 제1 강성의 편차가 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛의 최소 제1 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성된다. 이는 또한 제2 양태의 맥락에서 전술된 변형예 및 장점을 동일한 정도로 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 상기에 제공된 설명을 참조한다.
무응력 또는 정의된 조립체(광학 요소 내의 기생 응력의 발생이 적어도 크게 회피됨)의 견지에서, 유지 디바이스의 3개의 유지 유닛과 광학 요소 사이의 각각의 연결부가 광학 요소가 베이스 요소에 대해 공간에서 고정되는 이러한 방식으로 제1 단계에서 설정되면 상기 방법에서 특히 유리하다. 따라서, 종래의 3점 지지 방식의 고정이 결과적으로 먼저 실현될 수 있다. 여기서, 이는 광학 요소의 이러한 초기 부착을 위해 특수하게 설계되고 나머지 유지 유닛과는 상이한 3개의 (제1) 유지 유닛에 관련될 수도 있다. 특히, 이들 3개의 (제1) 유지 유닛은 나머지 (제2) 유지 유닛보다 더 강성인 디자인을 가질 수도 있다. 이어서, 유지 디바이스의 나머지 (제2) 유지 유닛과 광학 요소 사이의 각각의 연결부는 제2 단계에서 설정되고, 이 제2 단계는 제1 단계에 이어진다. 여기서, 나머지 (제2) 유지 유닛은, 특히 주목할만한 복원력 및 따라서, 기생 응력을 발생하지 않고 생산 부정확도를 따라서 보상하는 것이 가능하도록 3개의 (제1) 유지 유닛보다 클램핑 목적을 위해 요구되는 이동 방향으로 상당히 더 낮은 강성을 가질 수도 있다.
본 발명의 다른 양태 및 실시예는 종속항 및 첨부 도면과 관련하는 바람직한 실시예의 이하의 설명으로부터 명백해진다. 이들이 청구항의 주제인지 여부에 무관하게, 개시된 특징의 모든 조합이 본 발명의 보호의 범주 내에 있다.
도 1은 본 발명에 따른 광학 장치의 바람직한 실시예를 포함하는, 본 발명에 따른 투영 노광 장치의 바람직한 실시예의 개략도이다.
도 2는 도 1로부터의 본 발명에 따른 장치의 유지 디바이스의 정면측의 개략 평면도이다.
도 3은 도 2로부터의 본 발명에 따른 장치의 부분(상세 D)의 개략 단면도(도 2의 라인 III-III을 따른)이다.
도 4는 도 1로부터의 본 발명에 따른 장치의 유지 디바이스의 후면측의 개략 평면도이다.
도 5는 도 2로부터의 본 발명에 따른 장치의 변형예의 개략 단면도(후면측의 평면도에서)(도 4의 도면과 유사하고 도 6의 라인 V-V를 따른)이다.
도 6은 도 5로부터의 본 발명에 따른 장치의 부분(상세 D)의 개략 단면도(도 5의 라인 VI-VI을 따른)이다.
도 7은 도 5로부터의 장치의 부분의 개략 단면도(도 6의 라인 VII-VII을 따른)이다.
제1 실시예
본 발명에 따른 광학 장치의 바람직한 실시예를 포함하는 본 발명에 따른 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(101)의 바람직한 실시예가 도 1 내지 4를 참조하여 이하에 설명된다. 이하의 설명을 단순화하기 위해, x, y, z 좌표계가 도면에 지시되어 있고, z 방향은 중력의 방향에 대응한다. 다른 구성에서 x, y, z 좌표계의 임의의 원하는 다른 배향을 선택하는 것이 가능하다는 것은 말할 필요도 없다.
도 1은 반도체 구성요소를 생산하기 위한 마이크로리소그래피 프로세스에서 사용되는 투영 노광 장치(101)의 개략적인 비-실제 축척 도면이다. 투영 노광 장치(101)는 조명 디바이스(102) 및 투영 디바이스(103)를 포함한다. 투영 디바이스(103)는 노광 프로세스에서, 마스크 유닛(104)에 배치된 마스크(104.1)의 구조의 이미지를 기판 유닛(105)에 배치된 기판(105.1) 상에 전사하도록 설계된다. 이를 위해, 조명 디바이스(102)는 마스크(104.1)를 조명한다. 광학 투영 디바이스(103)는 마스크(104.1)로부터 광을 수용하고 마스크(104.1)의 마스크 구조의 이미지를 예를 들어 웨이퍼 등과 같은 기판(105.1) 상에 투영한다.
조명 디바이스(102)는 광학 요소 그룹(106.1)을 포함하는 광학 유닛(106)을 포함한다. 투영 디바이스(103)는 광학 요소 그룹(107.1)을 포함하는 다른 광학 유닛(107)을 포함한다. 광학 요소 그룹(106.1, 107.1)은 투영 노광 장치(101)의 절첩된 중앙 광선 경로(101.1)를 따라 배치된다. 각각의 광학 요소 그룹(106.1, 107.1)은 복수의 광학 요소를 포함할 수 있다.
본 실시예에서, 투영 노광 장치(101)는 5 nm 내지 20 nm의 파장, 특히 13 nm의 파장을 갖는 EUV 범위(극자외선 방사선)의 노광 광으로 동작한다. 따라서, 조명 디바이스(102) 및 투영 디바이스(103)의 요소 그룹(106.1, 107.1)의 광학 요소는 전적으로 반사 광학 요소이다. 광학 요소 그룹(106.1, 107.1)은 광학 장치(108)에 기초하여 이하에서 설명되는 바와 같이, 본 발명에 따른 하나 이상의 광학 장치를 포함할 수도 있다. 광학 유닛(106, 107)은 각각 지지 구조체(101.2)에 의해 지지된다.
본 발명의 다른 구성에서, 임의의 유형의 광학 요소(굴절, 반사, 회절)를 단독으로 또는 광학 모듈에 대해 임의의 원하는 조합으로 사용하는 것도 물론 가능하다(특히 조명 광의 파장에 따라).
본 발명에 따른 장치는 장치(108)에 기초하여 예시적인 방식으로 이하에 설명된다. 도 2는 장치(108)의 부분의 정면측의 개략 평면도를 도시하고 있고, 반면 도 3은 장치(108)의 부분의 개략 단면도(도 2의 라인 III-III을 따른)를 도시하고 있고 도 4는 도 2로부터의 장치(108) 부분의 후면측의 개략 평면도를 도시하고 있다.
도 2 및 특히 도 3(도 2의 상세 D를 도시하고 있음)으로부터 알 수도 있는 바와 같이, 본 예에서, 장치(108)는 광학 장치이고 조명 디바이스(102)의 집광기 미러 형태의 광학 요소(109) 및 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함한다. 여기서, 도 2는 광학 요소(109)를 향하는(z-방향을 따른) 유지 디바이스(110)의 정면측의 평면도를 도시하고 있다. 도 2에서, 광학 요소(109)는 그 점선 외부 윤곽에 의해 지시되어 있다.
광학 요소(109)는 광학 요소(109)의 본체(109.2)의 일 측(정면측) 상에 형성된(종래의 방식으로) 반사 광학 표면(109.1)을 포함한다. 광학 요소(109)는 광학 요소(109)가 반경방향(R) 및 원주방향(U)을 정의하는 주 연장 평면(도 2의 도면의 평면 또는 xy 평면에 평행함)을 정의한다.
본 예에서, 유지 디바이스(110)는 베이스 유닛(110.1) 및 개별 유지 유닛(110.2)을 포함하고, 유지 유닛(110.2)은 베이스 유닛(110.1)에 연결되고, 원주방향(U)을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치된다. 유지 유닛(110.2)은 미리 결정 가능한 위치 및 배향으로 베이스 유닛(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 유지한다. 본 예에서, 각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 유닛(110.1) 사이에 클램핑 연결부를 설정하고, 상기 클램핑 연결부는 다른 유지 유닛(110.2)으로부터 분리되어 있다. 그러나, 임의의 다른 연결 기술이 다른 변형예에서 각각의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이에 채용될 수도 있는 것이 이해된다.
전술된 바와 같이, 바람직하게는 가능한 한 다수의 유지 유닛(110.2)이 존재하고, 상기 수는 광학 요소(109)의 크기에 따라 이용 가능한 설치 공간에 의해 제한된다. 본 예에서, 18개의 유지 유닛(110.2)이 제공된다. 그러나, 상이한 수가 또한 다른 변형예에서 제공될 수도 있다. 특히, 적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛(110.2)이 특정 변형예에 제공될 수도 있다.
본 예에서, 유지 유닛(110.2)은 각각의 경우에 20°의 각도 간격으로 원주방향(U)을 따라 균일하게 분포되어 배치된다. 이것이 달성할 수 있는 것은, 부착물이 예를 들어 광학 요소에 도입된 충격 하중과 같은 하중의 하중 방향에 독립적으로, 항상 실질적으로 동일한 거동을 갖거나, 또는 충격 하중이 광학 요소(109)의 오정렬의 증가된 위험을 수반하는 특정 하중 방향이 없다는 것이다.
그러나, 다른 변형예에서, 유지 유닛(110.2)은 적어도 단면 방향으로 불규칙한 분포로 원하는 바와 같이 배치될 수도 있는 것이 이해된다. 특히, 유지 유닛(110.2)의 분포는 이들 경우에 광학 요소(109)의 질량 분포 및/또는 장치(108)의 예상 가속도 및 그로부터 발생하는 하중 방향에 적응될 수도 있다. 유지 유닛(110.2)은 특히 비대칭성 광학 요소(109)의 경우, 특정 영역에서 더 높은 하중에 노출될 수도 있고, 따라서 동작 중에 예상되는 더 높은 하중을 갖는 이 영역에서 유지 유닛(110.2)의 집중도(즉, 원주각당 국소적으로 더 큰 유지 유닛의 수)를 갖는 비대칭성 분포를 갖는 것이 적절할 수도 있다.
더욱이, 베이스 유닛(110.1)은 조명 디바이스(102)의 지지 구조체(102.1)에 유지 디바이스(110)를 연결하기 위해, 원주방향(U)으로 서로 이격되어 있는 복수의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 포함한다. 본 예에서, 3개의 지지 인터페이스(110.3)가 제공된다. 그러나, 임의의 다른(더 작거나 더 큰) 수의 지지 인터페이스(110.3)가 다른 변형예에서 제공될 수 있는 것이 이해된다.
도 3으로부터 알 수도 있는 바와 같이, 베이스 유닛(110.1)은 지지 멤브레인 요소(110.4)를 포함한다. 지지 멤브레인 요소(110.4)는 주로 원주방향(U)을 따라 그리고 반경방향(R)을 따라 연장되고, 이는 원주방향(U) 및 반경방향(R)에 횡방향으로(더 정밀하게는, 본 예에서, 수직인) 두께 치수(D)를 갖는다. 여기서, 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)를 향하는 지지 멤브레인 요소(110.4)의 정면측에 배치된다.
이하에 더 상세히 설명되는 바와 같이, 더욱이, 지지 멤브레인 요소(110.4) 상에 유지 유닛(110.2)을 배치하는 것은 지지 멤브레인 요소(110.4)의 디자인에 의해 및/또는 지지 멤브레인 요소(110.4)가 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 연결되는 방식에 의해 각각의 유지 유닛(110.2)의 힘의 광학 유닛측 공격 지점(광학 요소(109)에서)과 각각의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에서 힘의 지지 구조체측 공격 지점(지지 구조체(102.1)의) 사이에 유지 디바이스(110)의 강성을 설정하는 것을 가능하게 한다.
따라서, 이것이 유리하게 달성할 수 있는 것은, 특히 특정 관련 자유도에서 이 강성이 복수의 유지 유닛(110.2) 사이에서 최대 가능한 정도로 균등화되는데, 모든 유지 유닛을 위해 이렇게 하는 것은 가장 적절한 경우이다. 특정 자유도에서 강성의 이 균등화가 클수록(따라서, 이 자유도에서 개별 유지 유닛(110.2) 사이의 강성의 차이가 더 작을수록 또는 유지 유닛(110.2) 사이에서 이 강성의 분포가 더 협대역일수록), 충격 하중은 각각의 자유도에서 유지 유닛(110.2) 사이에서 더 균일하게 분할된다. 이상적인 경우에, 모든 유지 유닛(110.2)에 대해, 각각의 자유도에서, 지지 인터페이스 유닛(110.3)에서 힘의 지지 구조체측 공격 지점에 대해 적어도 실질적으로 동일한 강성이 얻어지는 것이 가능하다. 이 경우, 각각의 자유도에서 충격 하중은 이어서 모든 유지 유닛(110.2) 사이에 균일하게 분포된다.
따라서, 유지 유닛(110.2)에서 가장 불리한 사례에 예상되는 충격 하중이 상기 유지 유닛의 최대 도달 가능한 유지력을 초과하는 위험이 큰 안전 계수를 제공할 필요 없이 따라서 유지 유닛(110.2)을 과치수 설정하지 않고 신뢰적으로 감소될 수 있다. 결과적으로, 비교적 간단한 디자인을 갖는 유지 유닛(110.2)을 갖는 것에도 불구하고 충격 하중 하에서 시스템의 고장에 대한 충격 안전성 또는 신뢰성이 유리하게 증가될 수 있다. 이에 따라, 유지 유닛(110.2)은 더 간단한 및 따라서 더 공간 절약형 디자인을 가질 수 있고, 이는 이어서 유지 유닛(110.2)의 수의 추가의 증가를 용이하게 한다. 궁극적으로, 이는 유지 유닛(110.2) 사이에 충격 하중의 균일한 분포를 갖는 유리하게 많은 수의 유지 유닛(110.2)의 실현을 허용할 수도 있다.
지지 멤브레인 요소(110.4)의 다른 장점은, 이 지지 멤브레인 요소가 그 경사축이 지지 멤브레인 요소(110.4)에 있는 경사 자유도의 견지에서 유지 유닛(110.2)을 서로 분리한다는 사실에 있다. 특히, 반경방향(R)에 평행하게 연장하는 경사축에 대한 분리를 실현하는 것이 가능하다. 이는 특히, 지지 멤브레인 요소(110.4)가 팽윤에 의해 비교적 쉽게 변형될 수 있다는 사실에 기인한다. 그 결과(예를 들어, 베이스 유닛(110.1)의 변형의 경우), 유지 유닛(110.2)은 이들 경사축을 중심으로 서로에 대해 경사질 수 있고, 그 결과 유지 유닛(110.2)을 통한 광학 요소(109) 내로의 변형 유도 기생 응력의 도입이 감소된다.
본 예에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 얇은 벽의 링형 디스크의 방식으로 특히 간단한 방식으로 설계된다. 그러나, 링형 원주방향 멤브레인은 다른 변형예에서 사용될 필요가 없다는 것이 이해된다. 대신에, 예를 들어 링 세그먼트 방식으로 구성된 복수의 개별 지지 멤브레인 요소(110.4)가 제공될 수도 있다.
더욱이, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 또한 다른 변형예에서 얇은 벽의 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다. 마찬가지로, 다른 변형예에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 개별 유지 유닛(110.2) 사이의 강성을 분리하고 균등화하는 전술된 기능을 얻기 위한 다른 적합한 디자인 및 배열을 가질 수 있다. 예로서, 지지 멤브레인 요소(110.4)의 임의의 권취 및/또는 절첩된 구성이 (하나 이상의) 특정 자유도로 목표화된 방식으로 유지 디바이스(110)의 강성 또는 유연성을 설정하기 위해 실현될 수도 있다(원주방향(U)에 수직으로 연장하는 단면 평면에서). 따라서, 지지 멤브레인 요소(110.4)의 단면 윤곽은 이어서 적어도 단면 방향 직선 및/또는 적어도 단면 방향 다각형 및/또는 적어도 단면 방향 곡선 코스를 가질 수 있다. 당연히, 본 예의 경우와 같이, 단면 윤곽의 직선 코스의 경우 특히 간단한 디자인이 발생한다.
링형 디스크로서의 지지 멤브레인 요소(110.4)의 디자인은 지지 멤브레인 요소(110.4)가 반경방향(R)으로 그리고 반경방향(R)에 평행하고 결과적으로 반경방향(R)에 대해 0°의 기울기를 갖는 원주방향(U)에 수직으로 연장하는 단면 평면에서 연장되게 하는데, 이는 본 예에서 광학 요소(109) 및 유지 유닛(110.2)의 기하학적 조건에 특히 양호한 적응을 제공하기 때문이다. 본 경우에, 이는 특히 광학 요소(109)의 주 연장 평면에 수직인(즉, 본 예에서 z-방향을 따른) 자유도에서 유지 유닛(110.2) 사이에서 적절한 협대역 강성 분포를 가능하게 한다.
그러나, 지지 멤브레인 요소(110.4)의 배열은 또한 광학 요소(109)와 유지 디바이스(110)(특히 유지 유닛(110.2))의 페어링에 일치하는 구성을 얻기 위해 다른 변형예에서 상이하게 배치될 수도 있고, 이에 의해 개별 유지 유닛(110.2)에 대해 강성의 원하는 분리 및/또는 균등화가 얻어지는 것이 이해된다. 바람직하게는, 반경방향(R)으로 그리고 원주방향(U)에 수직으로 연장하는 단면 평면에서 각각의 지지 멤브레인 요소(110.2)는 반경방향에 대해 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장된다. 이에 의해, 사용 사례에 따라, 특정 자유도, 특히 광학 요소(109)의 주 연장 평면에 수직인 자유도로 유지 유닛(110.2) 사이에서 적절한 협대역 강성 분포를 얻는 것이 또한 가능하다.
본 예에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 반경방향(R)에서, 내부 섹션(110.5), 및 그로부터 소정 거리에 외부 섹션(110.6)을 갖고, 중간 섹션(110.7)이 내부 섹션(110.5)과 외부 섹션(110.6) 사이에 위치되고, 이 중간 섹션의 영역에서 유지 유닛(110.2)이 지지 멤브레인 요소(110.4)에 연결된다. 이에 의해 지지 멤브레인 요소(110.4)의 잠재력(강성의 분리 및/또는 균등화)이 특히 양호하게 활용될 수 있다.
본 예에서, 외부 섹션(110.6)의 영역에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 원주방향(U)으로 연장하는 원주방향 외부 링 구조체(110.8)에 연결되고, 반면 내부 섹션(110.5)의 영역에서는, 상기 지지 멤브레인 요소(110.4)는 원주방향(U)으로 연장하는 원주방향의 얇은 벽 내부 링 구조체(110.9)에 연결된다.
본 예에서, 외부 링 구조체(110.8) 및 내부 링 구조체(110.9)의 모두는 지지 멤브레인 요소(110.4)의 정면측으로부터 이격하여 향하는 지지 멤브레인 요소(110.4)의 후면측에 배치된다. 따라서, 외부 링 구조체(110.8) 및 내부 링 구조체(110.9)의 모두는 결과적으로 광학 요소(109)로부터 이격하여 지향한다. 그러나, 다른 변형예에서, 외부 링 구조체(110.8) 및/또는 내부 링 구조체(110.9)는 광학 요소(109)의 방향으로 지지 멤브레인 요소(110.4)를 넘어 전체적으로 또는 부분적으로 돌출될 수 있는 것이 이해된다.
여기서, 반경방향(R)에서, 유지 유닛(110.2)이 지지 멤브레인 요소(110.4)에 연결되는 위치는 지지 멤브레인 요소(110.4)에 의해 달성되는 분리 및 유지 유닛(110.2)과 각각의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이의 강성에 영향을 미친다. 유지 유닛(110.2)의 이 연결 지점이 강화 링 구조체(110.8, 110.9) 중 하나에 더 가까울수록, 분리의 정도가 더 낮거나 이 강성의 값이 더 높다. 따라서, 일반적으로(즉, 임의의 구성에 대해), 강화 구조체(예를 들어, 링 구조체(110.8, 110.9) 중 하나)로부터 유지 유닛(110.2)의 이 연결 지점의 거리가 가능한 한 크면, 특히 높은 분리의 정도가 달성된다. 본 예에서, 이는 각각의 유지 유닛(110.2)의 연결 지점이 지지 멤브레인 요소(110.4)의 중앙 영역에, 즉, 강화 링 구조체(110.8, 110.9) 사이의 대략 중앙에 배치되는(반경방향(R)으로) 것에 의해 달성될 수 있다. 이로부터, 유지 유닛(110.2)의 연결 지점의 위치는 그에 의해 유지 유닛(110.2) 사이의 강성 분포가 설정될 수 있는 다른 파라미터인 것이 자명하다.
유지 디바이스(110)를 바람직하게 더 강성이 되게 하는 것에 추가하여, 내부 및 외부 링 구조체(110.9, 110.8)는, 유지 유닛(110.2) 사이의 강성 분포의 부가의 적응이 상기 링 구조체의 디자인 및/또는 지지 멤브레인 요소(110.4)로의 그 연결에 의해 비교적 간단하고 유연한 방식으로 가능하다는 점에서 각각 유리하다.
본 예에서, 유지 유닛(110.2)은 베이스 유닛(110.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛(110.1)으로부터 돌출한다. 이는 유지 유닛(110.2)이 크라운의 갈래의 방식으로 링형 베이스 유닛(110.1)으로부터 돌출하는 크라운형 디자인을 제공한다.
여기서, 외부 지지 구조체(102.1)로의 유지 디바이스(110)의 특히 간단한 연결은 지지 인터페이스 유닛(110.3)이 외부 링 구조체(110.8)에 형성되는 것에 의해 외부 링 구조체(110.8)에 의해 실현된다. 그러나, 다른 변형예에서, 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 적어도 일부가 또한 내부 링 구조체(110.9)에 형성될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 특히, 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)이 내부 링 구조체(110.9)에 형성되는 것이 또한 가능하다.
특정 변형예에서, 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 유지 디바이스(110)의 원주를 따라 균일하게 분포될 수 있다. 그러나, 본 예에서, 지지 인터페이스 유닛(110.3)이 원주방향(U)을 따라 불규칙한 간격으로 분포되기 때문에 강성 분포에 관한 적응 잠재력이 특히 양호하게 효과를 발휘하는데, 이는 예를 들어 광학 요소(109) 및/또는 이미징 디바이스(101)의 인접 구성요소에 의해 미리 결정되기 때문이다.
유지 유닛(110.2) 사이의 강성(지지 인터페이스 유닛(110.3)에 관한)의 양호한 협대역 분포를 얻기 위해, 웨브 요소(110.10)가 본 예에서 제공되고, 상기 웨브 요소는 쌍(110.11)으로 배치되고 외부 링 구조체(110.8)와 내부 링 구조체(110.9)를 상호 연결한다(특히 도 4 참조). 여기서, 지지 멤브레인 요소(110.4)의 두께 치수(D)의 방향으로 웨브 요소(110.10)와 지지 멤브레인 요소(110.4) 사이에 간극(110.12)이 각각의 경우에 형성된다.
여기서, 각각의 지지 인터페이스 유닛(110.3)과 각각의 유지 유닛(110.2)(도 4에 단지 개략적으로만 지시되어 있음) 사이의 힘 흐름은 각각의 웨브 요소(110.10)의 배열 및/또는 디자인을 통해 적절한 방식으로 지향되고 분포될 수 있고, 그 결과 각각의 지지 인터페이스 유닛(110.3)과 관련하여 각각의 유지 유닛(110.2)의 강성에 영향을 미치거나 설정하는 것이 또한 가능하다.
여기서, 간극(110.12)은 지지 멤브레인 요소(110.4)의 분리 잠재력이 제한되지 않거나, 또는 적절한 경우 정의된 방식으로 영향을 받는 것을 보장한다. 따라서, 간극은 외부 링 구조체(110.8)와 내부 링 구조체(110.9) 사이의 웨브 요소(110.10) 길이의 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%, 더 바람직하게는 90 내지 100%에 걸쳐 연장될 수 있다. 당연히, 이 경우에 간극(110.12)이 존재하지 않는(즉, 웨브 요소(110.10)가 지지 멤브레인 요소(110.4)와 접촉하는) 영역은 이 영역에서 지지 멤브레인 요소(110.4)의 변형 가능성을 제한한다. 결과적으로, 이러한 영역은 강성을 증가시키는 효과를 갖는다.
본 예에서, 상호 할당된 3개의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)가 제공된다. 그러나, 얻어질 강성 분포에 따라, 임의의 수의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)가 원리적으로 제공될 수 있는 것이 이해된다.
본 예에서, 각각의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향(U)으로 바로 연속적으로 내부 링 구조체(110.9)와 맞물린다. 이는 힘 흐름 및 따라서 강성 분포가 특히 적절한 방식으로 설정될 수 있게 한다. 더욱이, 각각의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 마찬가지로 외부 링 구조체(110.8) 상에서 바로 연속적으로 맞물린다. 결과적으로, 상이한 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)는 서로 교차하지 않는다. 그러나, 다른 변형예에서, 상이한 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)는 또한 필요한 경우 교차할 수 있고; 당연히, 이는 이어서 유지 디바이스(110)의 추가의 강화를 제공한다는 것이 이해된다.
유지 디바이스(110)의 원주에 걸친 웨브 요소(110.10)의 배열 또는 분포는 얻어질 유지 유닛(110.2) 사이의 강성 분포에 따라, 임의의 적합한 방식으로 구현될 수 있다. 본 예와 같은 바람직한 변형예에서, 각각의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향(U)으로 서로 바로 연속하는 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에서 외부 링 구조체(110.8)와 맞물린다. 이는 힘 흐름 및 따라서 강성(하나 이상의 자유도에서)의 특히 적절한 분포 또는 설정이 지지 인터페이스 유닛(110.3)과 유지 유닛(110.2) 사이에서 얻어지게 한다.
본 예에서, 각각의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)의 종축(110.13)은 서로에 대해 동일 선상에서 연장된다. 그러나, 다른 변형예에서, 각각의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)는 또한 유지 유닛(110.2) 사이에 원하는 강성 분포를 얻기 위해 서로에 대한 기울기를 갖고 정렬될 수도 있다. 바람직하게는, 2개의 웨브 요소(110.10)의 종축(110.13)은 주 연장 평면 상의 평면도에서 서로에 대해 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장된다(도 4 참조).
주 연장 평면의 평면도에서, 쌍(110.11)의 2개의 종축(110.13)은 더욱이 연결 라인(110.14)에 적어도 실질적으로 평행하게 연장되고, 이 연결 라인은 외부 링 구조체(110.8)에서 원주방향(U)에서 바로 연속적으로 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 연결하고, 각각의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)는 상기 2개의 지지 인터페이스 유닛 사이에 맞물린다. 여기서, 이미 전술된 바와 같이, 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이의 연결 라인(110.14)은 각각의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에서 (이미징 디바이스(101)의 지지 구조체(102.2)의) 결과적인 지지력의 공격 지점 사이의 연결에 의해 형성된다. 그 결과, 지지 인터페이스 유닛(110.3)과 유지 유닛(110.2) 사이의 힘 흐름의 특히 적절한 분포를 얻는 것이 가능하고, 따라서 유지 유닛(110.2) 사이의 적절한 협대역 강성 분포(하나 이상의 자유도에서)를 얻는 것이 가능하다.
그러나, 각각의 쌍(110.11)의 2개의 종축(110.13)은 또한 다른 변형예에서 서로에 대해 경사지게 연장될 수 있는 것이 이해된다. 그러나, 바람직하게는, 각각의 쌍(110.11)의 2개의 종축(110.13)은 서로에 대해 최대 30°, 바람직하게는 최대 10°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장된다.
본 예에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 얇은 벽 요소이고, 그 두께 치수(D)는 다른 2개의 공간 방향에서의 그 치수보다 상당히 더 작다(통상적으로는 적어도 한 자릿수만큼). 본 예에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는 원주방향(U)에 수직인 단면 평면에서, 폭 치수(B)를 정의하고, 지지 멤브레인 요소의 두께 치수(D)는 지지 멤브레인 요소(110.4)의 폭 치수(B)의 2% 내지 30%, 바람직하게는 5% 내지 25%, 더 바람직하게는 10% 내지 20%이다. 이는 얻어질 유지 유닛(110.2) 사이의 협대역 강성 분포와 관련하여 특히 적절한 특성이 얻어지게 한다.
여기서, 지지 멤브레인 요소(110.2)의 두께 치수(D)는 원주방향(U)을 따라 변경될 수 있다. 특히, 두께 치수(D)는 원주방향(U)을 따라 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛(110.3)까지의 각도 거리에 따라 변경될 수 있다. 여기서, 두께 치수(D)는 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대한 각도 거리가 증가함에 따라 증가할 수 있다. 두께 치수(D)의 이러한 변화에 의해, 각각의 경우에, 지지 멤브레인 요소(110.4)의 변형 특성을 미세하게 설정하고 따라서 (그 자체로 또는 본 명세서에 설명된 다른 수단과 함께) 유지 유닛(110.2) 사이의 원하는 협대역 강성 분포를 얻는 것이 가능하다. 추가로 또는 그 대안으로서, 이 목적을 위해 반경방향(R)을 따라 지지 멤브레인 요소(110.4)의 두께 치수(D)를 변경하는 것이 또한 당연히 가능하다. 여기서, 두께 치수(D)는 특히 반경방향으로 달성될 지지 멤브레인 요소의 원하는 강성 프로파일에 따라 변경될 수 있다.
더욱이, 특정 변형예에서, 지지 멤브레인 요소(110.4)는, 점선 윤곽(113)에 의해 도 4에 지시되어 있는 바와 같이, 원주방향(U)에서, 2개의 바로 인접한 유지 유닛(110.2) 사이에 위치된 적어도 하나의 영역에, 특히 2개의 바로 인접한 유지 유닛(110.2) 사이의 각각의 영역에 적어도 하나의 관통 개구를 가질 수 있다. 이 방식으로도, 지지 멤브레인 요소(110.4)의 변형 특성에 영향을 미치기 위한 대응 옵션, 및 이어서 유지 유닛(110.2) 사이의 협대역 강성 분포가 발생한다. 이 경우에 각각의 관통 개구(113)의 크기 및/또는 위치 및/또는 형태는 강성에 특히 정밀하게 영향을 미치는 것을 가능하게 한다.
도 3으로부터 알 수도 있는 바와 같이, 특히, 본 예에서 각각의 유지 유닛(110.2)은 제1 클램핑 요소(110.15)(이 경우 반경방향(R)에서의 외부 클램핑 요소) 및 제2 클램핑 요소(110.16)(이 경우 반경방향(R)에서의 내부 클램핑 요소)를 갖는다. 여기서, 제1 클램핑 요소(110.15)는 점선 윤곽(110.17)에 의해 도 3에 지시되어 있는 바와 같이, 제1 연결 섹션(110.17)을 통해 베이스 유닛(110.1)에 연결될 수 있다. 그러나, 제1 연결 섹션(110.17)은 또한 결여될 수도 있고 제1 클램핑 요소(110.15)는 또한 베이스 유닛(110.1)에 직접 연결되지 않을 수도 있다. 어느 경우든, 제2 클램핑 요소(110.16)는 제2 연결 섹션(110.18)을 통해 베이스 유닛(110.1)에 연결된다.
광학 요소(109)로의 클램핑 연결부를 설정하기 위해, 제1 클램핑 요소(110.15) 및 제2 클램핑 요소(110.16)는 인장 나사의 형태의 인장 요소(111)에 의해 서로에 대해 브레이싱된다. 여기서, 광학 요소(109)의 연관된 인터페이스 섹션(109.3)은 각각의 유지 유닛(110.2)의 제1 클램핑 요소(110.15)와 제2 클램핑 요소(110.16) 사이에 각각 클램핑된다.
그러나, 각각의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 클램핑 연결부는 또한 다른 변형예에서 상이한 디자인을 가질 수도 있다. 따라서, 적절한 경우에, 클램핑 요소(110.15 또는 110.16)가 클램핑의 마찰 맞물림을 얻기 위해 적합한 인장 디바이스(예를 들어, 반경방향(R)에서 적절한 예비 인장 하의 연결 섹션(110.17 또는 110.18)에 의해 광학 요소(109)의 인터페이스 섹션(109.3) 상의 연관된 접촉 표면에 가압되면, 클램핑을 위해 요구되는 마찰 맞물림이 또한 유지 유닛(110.2)당 단지 단일 클램핑 요소(110.15 또는 110.16)에 의해 또한 실현될 수도 있다. 대응하는 대향력은 이어서 조립된 상태에서 광학 요소(109) 상에 작용하는 접촉력이 단면 방향에서 서로 상쇄되지만 적어도 전체적으로 서로 상쇄되고, 광학 요소(109)의 정의된 위치 및 배향이 달성되는 이러한 방식으로 하나 이상의 인접한 유지 유닛(110.2)에 의해 인가될 수 있다.
본 예에서, 인장 요소(111)는 타이 로드의 방식으로 설계된다. 인장 요소(111)는 인터페이스 섹션(109.3)의 리세스(109.4)를 통해 유극을 갖고 도달하고, 그 결과 클램핑력의 특히 균일한 분포가 얻어진다. 리세스(109.4)의 영역에서 인장 요소(111)와 인터페이스 섹션(109.3) 사이의 유극으로 인해, 그렇지 않으면 광학 요소(109)에 기생 응력을 유도할 수 있는 인장 요소(111)와 인터페이스 섹션(109.3) 사이의 접촉이 회피된다.
결과적으로, 여기서, 반경방향(R)에 수직이면, 클램핑 요소(110.15, 110.16)의 접촉 표면과 인장 요소(111)의 예비 인장에 의해 정밀하게 형성된 인터페이스 섹션(109.3)의 연관된 접촉 표면 사이에 클램핑 연결부의 마찰 맞물림만이 존재한다. 이는 클램핑으로부터 발생하는 유지력, 및 따라서 클램핑 표면에서의 접촉력이 인장 요소(111)의 예비 인장에 의해 비교적 높은 정밀도로 설정될 수 있다는 점에서 유리하다.
인장 요소(111)는 외부의 제1 클램핑 요소(110.16)의 관통 개구를 통해 그리고 리세스(109.9)를 통해 안내된다. 본 예에서, 인장 요소(111)는 브레이싱의 목적으로 내부의 제2 클램핑 요소(110.16)의 대응하는 나사산 형성 보어 내로 나사 결합되는 나사산 형성 섹션(111.1)을 포함한다. 대조적으로, 인장 요소(111)의 나사 헤드(111.2)는 외부의 제1 클램핑 요소(110.16) 상에 놓여 있다.
본 예에서, 보상 스프링 디바이스(111.3)가 나사 헤드(111.2)와 제1 클램핑 요소(110.16) 사이에 제공되고, 상기 보상 스프링 디바이스는 인장 요소(111) 내의 인장력 손실을 감소시키도록 구성된다. 원리적으로, 이 보상 스프링 디바이스(111.3)는 임의의 적합한 원하는 방식으로 설계될 수 있다. 이를 위해, 본 예에서, 보상 스프링 디바이스(111.3)는 컵 스프링 또는 컵 스프링 패킷의 방식으로 간단하게 설계된다. 그러나, 임의의 다른 적합한 보상 스프링 디바이스가 또한 사용될 수도 있다.
제1 연결 섹션(110.17)은 도 3에 지시되어 있는 바와 같이, 제2 연결 섹션(110.18)에 연결될 수 있다. 이는 2개의 클램핑 요소(110.15, 110.16)의 각각의 연결 섹션(110.17, 110.18)이 이어서 나사산 형성 부분(111.1)의 종축에 실질적으로 평행하게 연장하는 축 주위의 회전 자유도를 제한하는 경우에 유리하다. 이는 광학 요소 내에 기생 응력이 도입되지 않거나 단지 매우 낮은 기생 응력만이 도입되는 한 각각의 연결 섹션(110.17, 110.18)이 간단한 방식으로 나사 연결부의 조임 토크의 적어도 대부분을 취할 수 있는 것을 보장한다.
이를 위해, 본 예에서와 같이, 각각의 연결 섹션(110.17, 110.18)은 판 스프링의 방식으로 구성될 수 있고, 본 예에서 상기 판 스프링은 반경방향(R)에 수직인 평면에서 실질적으로 연장한다. 이는 특히 간단하고 콤팩트한 구성을 제공한다. 더욱이, 각각의 연결 섹션(110.17, 110.18)은 그 결과 반경방향(R)에서 유연성이다. 이는 특히, 광학 요소(109)와 유지 디바이스(110)가 상이한 열 팽창 계수를 갖는 경우에 유리하다. 이 반경방향 유연성은 이어서 광학 요소(109)와 유지 디바이스(110) 사이에 양호한 열적 변형 분리가 얻어지게 한다.
제1 연결 섹션(110.17) 및 제2 연결 섹션(110.18)은 서로에 대해 실질적으로 평행하게 연장되고, 그 결과 특히 생산 및 조립이 쉬운 구성이 얻어진다. 더욱이, 이 구성은 유리하게는 각각의 연결 섹션(110.17, 110.18)의 평면에 평행한 자유도에서 강성이기 때문에 동적 관점으로부터 유리하다.
유지 디바이스(110)의 중력 유발 파형 변형의 경우(지지 구조체(102.1)가 연결되는 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이의), 각각의 경우에 반경방향(R)에 평행한 경사축을 중심으로 서로에 대한 유지 유닛(110.2)의 경사가 존재할 수 있다. 이 경우에, 연결 섹션(110.18)의 강성은 인접한 클램핑 요소(110.16) 사이의 거리의 변화를 유도할 것이고, 그 결과 기생 응력이 광학 요소(109) 내에 도입된다. 지지 멤브레인 요소(110.4)로의 연결 섹션(110.18)의 연결은, 지지 멤브레인 요소(110.4)가 국소 팽윤의 형태의 탄성 변형에 의해 발생하는 구속력을 흡수할 수 있기 때문에, 이들 기생 응력을 상당히 감소시킬 수 있다.
제1 연결 섹션(110.17)이 제2 연결 섹션(110.18)에 평행하게 연장하는 직선 판 스프링으로서 마찬가지로 구성되면 다른 변형예에서 제1 연결 섹션(110.17) 및 제2 연결 섹션(110.18)으로 평행 가이드가 실현될 수 있다. 여기서, 양쪽 판 스프링이 지지 멤브레인 요소(110.4)에 구속되는 약간 수정된 디자인이 이어서 유리하다. 서로에 대해 브레이싱되는 클램핑 요소(110.15, 110.16)는 그 결과 반경방향(R)에 실질적으로 평행하게 안내된다. 따라서, 전술된 반경방향 유연성(열적 변형 분리 목적을 위한)은 나머지 자유도에서 동적으로 유리한 높은 강성으로 얻어질 수 있다.
본 예에서, 광학 요소(109)의 각각의 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)의 후면측(광학 표면(109.1)으로부터 이격하여 향하는)에 링형 방식으로 원주방향으로 연장하는(원주방향(U)으로) 돌출부(109.5)에 형성된다. 여기서, 돌출부(109.5)는 원주방향(U)으로 그리고 광학 요소(109)의 주 연장 평면(즉, 원주방향(U) 및 반경방향(R)에 의해 정의된 평면)에 수직인 방향으로 연장된다.
본 예에서, 모든 인터페이스 섹션(109.3)은 공통 돌출부(109.5)에 형성된다. 다른 변형예에서, 그러나, 돌출부(109.5)는 또한 원주방향(U)으로 중단될 수도 있고, 따라서 인터페이스 섹션(109.3)은 각각의 경우에 돌출부(109.5)의 개별 원주방향 세그먼트에서 개별적으로 또는 그룹으로 제공될 수도 있다.
본 예에서, 각각의 인터페이스 섹션(109.3)이 돌출부(109.5)의 영역에서 광학 요소(109)에 연결된 인터페이스 요소(109.6)에 의해 형성된다는 사실로 인해 특히 쉽게 그리고 높은 정밀도로 실현 가능한 디자인이 나타난다. 인터페이스 요소(109.6)는, 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)의 리세스(109.8) 내에 삽입되고 적합한 방식으로(예를 들어, 접착제 접합, 납땜 등에 의한 접착 연결에 의해) 거기에 부착되는 칼라(109.7)를 갖는 연결 부싱으로서 구성된다.
이 구성은 연결 부싱(109.6)이 클램핑 요소(110.15, 110.16)에 대한 접촉 표면을 형성하기 때문에 특히 생산이 쉽다. 돌출부(109.5)에서보다 연결 부싱(109.6)의 단부에서, 클램핑 요소(110.15, 110.16)에 대한 이들 접촉 표면을 설정하는 것이 실질적으로 더 쉽다. 따라서, 연결 부싱(109.6)이 충분히 높은 정밀도로 비교적 쉽게 장착될 수 있는 반경방향 리세스(109.8)만이 돌출부(109.5) 상에 생성되기만 하면 된다.
그러나, 다른 변형예에서, 각각의 인터페이스 섹션(109.3)은 또한 광학 요소(109)의 본체(109.2)에, 특히 돌출부(109.5)에 직접 형성될 수도 있는 것이 이해된다.
인터페이스 섹션(109.3)과 유지 유닛(110.2)은 원하는 바와 같이 서로 조합 가능할 수도 있고; 즉, 인터페이스 섹션(109.3)과 유지 유닛(110.2) 사이의 특정 페어링이 규정될 수 없다(예를 들어, 광학 요소(109) 및 그 유지 유닛(110.2)을 갖는 베이스 유닛(110.1)은 따라서 원주방향(U)을 따라 서로에 대해 임의로 회전될 수 있음).
그러나, 다른 변형예에서, 이러한 특정 페어링은 인터페이스 섹션(109.3) 및 유지 유닛(110.2)의 구성요소의 대응적으로 상이한 디자인 및/또는 배열에 의해 정의될 수 있다. 이 경우에, 인터페이스 섹션(109.3)은, (제1) 유지 유닛(110.2)과 조합 가능하지만, 다른 (제2) 유지 유닛(110.2)과 조합 가능하지 않은 이러한 방식으로 구성될 수 있다.
무응력 또는 정의된 조립체(광학 요소(109) 내의 기생 응력의 발생이 적어도 크게 회피됨)의 견지에서, 유지 디바이스(110)의 3개의 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결부는 광학 요소가 베이스 유닛(110.1)에 대해 공간에서 고정되는 이러한 방식으로 조립 중에 제1 단계에서 초기에 설정되면 여기서 특히 유리하다. 따라서, 종래의 3점 지지 방식의 고정이 결과적으로 먼저 실현될 수 있다.
이는 광학 요소(109)의 이러한 초기 부착을 위해 특수하게 설계되고 나머지 유지 유닛(110.2)과는 상이한 3개의 (제1) 유지 유닛(110.2)에 의해 달성될 수도 있다. 본 예에서, 이들은 서로에 대해 원주방향으로 120° 회전된 방식으로 각각 배치되는 3개의 위치(112.1, 112.2, 112.3)에 있는 유지 유닛(110.2)일 수도 있다(도 2 참조). 특히, 이들 3개의 (제1) 유지 유닛(110.2)은 나머지 (제2) 유지 유닛(110.2)보다 본질적으로 더 강성인 디자인을 가질 수도 있다.
이어서, 유지 디바이스(110)의 나머지 (제2) 유지 유닛(110.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 클램핑 연결부가 조립의 제2 단계에서 설정되고, 제2 단계는 제1 단계에 이어진다. 나머지 (제2) 유지 유닛(110.2)은, 주목할만한 복원력 및 따라서, 기생 응력을 발생하지 않고 생산 부정확도를 따라서 보상하는 것이 가능하도록 3개의 (제1) 유지 유닛(110.2)보다 클램핑 목적을 위해 요구되는 이동 방향으로(즉, 본 예에서 반경방향(R)으로) 상당히 더 낮은 강성을 가질 수도 있다.
본 예에서, 각각의 유지 유닛(110.2)의 내부 클램핑 요소(110.16)는 본 개시내용의 의미 내에서 광학 요소(109)를 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 나타낸다. 각각의 유지 유닛(110.2)에 대해, 광학 요소(109)의 주 연장 평면에 수직인 제1 방향(즉, 본 예에서 z-방향)에서의 제1 강성(S1) 및 반경방향(R)에 평행한 축에 대한 제2 강성(S2)은 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 각각에 대해 이 유지 인터페이스 유닛(110.16)에 대해 정의된다.
유지 디바이스(110), 특히 베이스 유닛(110.1) 및 특히 지지 멤브레인 요소(110.4)를 포함하는 그 부분은, 제시된(본 개시내용에) 영향 파라미터를 적응시킴으로써, 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 그리고 유지 유닛(110.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛(110.2)의 (제1) 그룹에 대해, 이 유지 유닛(110.2)의 (제1) 그룹의 유지 유닛 사이의 제1 강성(S1)의 편차가 유지 유닛(110.2)의 이 (제1) 그룹의 유지 유닛(110.2)의 최소 제1 강성(S1)의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인(즉, 유지 유닛(110.2)의 이 (제1) 그룹의 유지 유닛(110.2) 사이에 존재하는 제1 강성(S1)의 최소값) 이러한 방식으로 구성된다. 이 방식으로, 특히 적절한 협대역 강성 분포가 제1 방향(즉, 광학 요소(109)의 주 연장 평면에 수직)으로 얻어진다.
단일 자유도, 특히 임의의 관련 자유도, 특히 주 충격 하중이 예상되는 자유도에 대한 유지 유닛(110.2) 사이의 강성 분포의 이러한 적응은 원리적으로 충분할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 바람직하게는, 이러한 적응은 또한 추가 자유도로 구현된다. 마찬가지로, 하나 이상의 다른 자유도에서만 적응을 착수하는 것도 또한 당연히 가능하다.
본 예에서, 이러한 적응은 바람직하게는 제2 강성(S2)과 관련하여 또한 구현된다. 이를 위해, 유지 디바이스(110), 특히 베이스 유닛(110.1) 및 특히 지지 멤브레인 요소(110.4)를 포함하는 부분은, 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 그리고 유지 유닛(110.2)의 이 다른 (제2) 그룹의 유지 유닛(110.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛(110.2)의 다른 (제2) 그룹에 대해, 유지 유닛(110.2)의 이 다른 (제2) 그룹의 유지 유닛(110.2) 사이의 제2 강성(S2)의 편차가 유지 유닛(110.2)의 이 다른 (제2) 그룹의 유지 유닛(110.2)의 최소 제2 강성(S2)의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성된다. 유지 유닛(110.2)의 제1 및 제2 그룹은 동일할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 이들은 또한 하나 이상의 유지 유닛(110.2)에 의해 상이할 수도 있다.
원리적으로, 광학 요소(109)는 단일 부분 또는 다중 부분 방식으로 임의의 적합한 재료로부터 제조될 수 있다. 바람직하게는, 적어도 돌출부(109.5)의 영역에서, 광학 요소(109)는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 그리고/또는 Zerodur를 포함하는 재료로부터 및/또는 렌즈 재료로부터 제조된다. 인터페이스 요소(109.6)를 갖는 전술된 변형예에서, 인터페이스 요소는 바람직하게는 인바 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조될 수 있다.
원리적으로, 유지 디바이스(110)는 소위 차동 구성으로 복수의 개별 구성요소로부터 임의의 적합한 방식으로 구성될 수도 있다. 본 예에서, 베이스 유닛(110.1)은 지지 멤브레인 요소(110.4) 및 모든 유지 유닛(110.2)과 모놀리식으로 구성되고, 그 결과 특히 강건하고 고도로 정밀하게 제조된 디자인이 발생한다.
원리적으로, 임의의 적합한 재료가 유지 디바이스(110) 또는 그 구성요소에 대해 사용될 수 있다. 이는 예를 들어, 개별적으로 또는 임의의 조합으로, 스테인리스강, 알루미늄(Al) 또는 베릴륨(Be)일 수 있다. 다른 적합한 재료는 알루미늄 합금, 특히 알루미늄 실리콘(AlSi), 베릴륨 합금, 특히 알루미늄 베릴륨(AlBe), 세라믹 재료, 특히 SiSiC, 뿐만 아니라 유리 섬유 강화 플라스틱(GFRP) 또는 탄소 섬유 강화 플라스틱(CFRP)이다.
전술된 디자인을 사용하여, 전술된 바와 같이 본 발명에 따른 방법을 수행하는 것이 가능하다. 이와 관련하여, 따라서 반복을 회피하기 위해 상기에 제공된 설명이 참조된다.
제2 실시예
이미징 디바이스(101)의 장치(108) 대신에 사용될 수 있는 본 발명에 따른 장치(208)의 다른 바람직한 실시예가 도 1, 도 2 및 도 5 내지 도 7을 참조하여 이하에 설명된다. 장치(208)는 그 기본 디자인 및 기능성에서 도 2 내지 도 4로부터의 장치(108)에 대응하고, 따라서 단지 차이점만이 여기에 설명될 것이다. 특히, 동일한 구성요소에는 동일한 참조 부호가 제공되고, 반면 유사한 구성요소에는 값 100만큼 증가된 참조 부호가 제공된다. 이하에서 달리 언급되지 않으면, 이들 구성요소의 특징, 기능 및 장점에 관하여 제1 실시예와 관련하는 상기 설명을 참조한다.
제1 실시예의 디자인에 대한 차이점은 실질적으로 베이스 유닛(210)의 디자인으로 이루어진다. 본 예에서, 지지 멤브레인 요소(210.4)는 그 정면측(또는 광학 요소(109))으로부터 이격하여 향하는 후면측에서 원주방향(U)으로 연장하는 원주방향 지지 링 구조체(210.21)에 연결된다. 여기서, 3개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 지지 링 구조체(210.21) 상에 다시 한번 형성된다. 여기에서도, 특정 변형예에서, 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 균일한 분포가 베이스 유닛(210)의 원주에 걸쳐 제공될 수 있다. 그러나, 본 예에서, 지지 멤브레인 요소(210.4)를 갖는 디자인의 장점이 여기서 특히 양호하게 효과를 발휘하기 때문에, 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 다시 한번 분포된다.
본 예에서, 지지 멤브레인 요소(210.4)는 지지 링 구조체(210.21)에 연속적으로 연결된다. 따라서, 지지 링 구조체(210.21)와 지지 멤브레인 요소(210.4) 사이에 간극(간극(110.12)과 유사함)이 존재하지 않는다. 그러나, 다른 변형예에서, 이러한 간극(간극(110.12)과 유사함)은 이 영역에서 지지 멤브레인 요소(210.4)의 적어도 단면 방향 변형 능력을 해제하기 위해 제1 실시예의 웨브 요소(110.11)와 관련하여 전술된 바와 같이 적어도 단면 방향으로 또한 제공될 수 있다는 것이 이해된다.
본 예의 디자인에서도, 지지 인터페이스 유닛(110.3)과 개별 유지 유닛(210.2) 사이의 힘 흐름, 및 따라서 유지 유닛(210.2) 사이의 강성 분포는 지지 링 구조체(210.21)의 디자인 및/또는 코스에 의해 설정될 수 있다. 이를 위해, 본 예에서, 지지 멤브레인 요소(210.4)의 내부 섹션(210.5)(특히 내부 에지(210.22))으로부터 지지 링 구조체(210.21)의 각각의 거리는 원주방향으로 서로 바로 연속하는 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에서 원주방향(U)을 따라 변경된다.
본 예에서, 지지 링 구조체(210.21)는 반경방향(R)에서, 지지 멤브레인 요소(210.4)의 내부 에지(210.22)를 넘어 내향으로 돌출하지 않고 본질적으로 최단 가능한 경로를 따라, 원주방향으로 서로 바로 연속하는 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 연결한다. 특히 적절한 힘 흐름 분포가 이에 의해 얻어질 수 있다.
유지 디바이스(210)에 대해, 지지 멤브레인 요소(210.4)와 지지 링 구조체(210.21)의 조합은 원리적으로 충분할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 본 예에서, 지지 링 구조체는 지지 멤브레인 요소(210.4)로부터 이격하여 지향하는 후면측에서, 주로 원주방향(U)을 따라 그리고 반경방향(R)을 따라 연장하는 얇은 벽 강화 멤브레인 요소(210.23)에 연결된다. 이는 유리하게는 유지 디바이스(210)의 강성을 전체적으로 증가시킬 수 있고, 그 결과 특히, 유지 디바이스(210)의 유리하게 높은 공진 주파수가 발생한다.
여기서, 원리적으로, 강화 멤브레인 요소(210.23)는 원하는 강화 효과를 얻기 위해 임의의 적합한 방식으로 설계될 수 있다. 본 예에서, 이는 지지 멤브레인 요소와 실질적으로 동일한 구조를 갖는다. 결과적으로, 강화 멤브레인 요소(210.23)도, 그 단면 윤곽이 도 5에 도시되어 있는 단면 평면에서 반경방향(R)에 실질적으로 평행하게 연장하는 얇은 벽의 링형 디스크의 방식으로 구성된다. 강화 멤브레인 요소(210.23)의 디자인 및 배열과 관련하여, 또한, 상기에 이루어진 지지 멤브레인 요소(110.4 또는 210.4)에 관련하는 설명이 원리적으로 적용되며, 따라서 이와 관련하여 참조된다.
이들 디자인에서도, 유지 유닛(210.2)은 원리적으로 광학 요소(109)를 유지하기 위한 임의의 적합한 형태로 구성될 수 있다. 본 예에서, 유지 유닛(210.2)은 분리 섹션(210.24)을 통해 지지 멤브레인 요소(210.4)에 연결된다. 이는 후방 지지 링 구조체(210.21)에 의한 지지 멤브레인 요소(210.4)의 변형 능력의 제한이 이 분리 섹션(210.24)에 의해 보상되는 것을 쉽게 보장한다. 여기서, 원리적으로, 분리 섹션(210.24)을 통한 분리는 임의의 디자인을 가질 수 있고, 분리가 필요한 요구되는 자유도 또는 자유도들에 일치될 수 있다. 본 예에서, 분리 섹션(210.24)은 좁은 웨브로서 구성되고, 따라서 분리 섹션(210.24)은 반경방향(R)에 평행한 경사축을 중심으로 경사 자유도를 해제한다.
도 6 및 도 7로부터 알 수도 있는 바와 같이, 특히, 유지 유닛(210.2)과 제1 실시예의 유지 유닛 사이의 차이점은 반경방향(R)에서 유지 요소(210.2)의 유연성이 판 스프링 요소(210.18)에 의해 유지되는 내부 클램핑 요소(110.16)에 의해 유발된다는 사실로 이루어진다. 판 스프링 요소(210.18)는 원주방향(U)을 따라 신장되고 반경방향(R)에 수직인 평면에서 클램핑 요소(110.16)의 양 측면으로(원주방향(U)으로) 연장된다. 그 단부에서, 판 스프링 요소(210.18)는 유지 유닛(210.2)의 베이스 본체(210.25)에 연결된다. 다시 한번, 본체(210.25)는 분리 섹션(210.24)을 통해 지지 멤브레인 요소(210.4)에 연결된다.
유지 유닛(210.2)의 이 디자인의 결과로서, 광학 요소(109)의 주 연장 평면에 수직인 작은 크기를 갖는 구성을 얻는 것이 가능하다. 이는 광학 요소(109)의 주 연장 평면에 수직인 방향(여기서: z-방향)에서 설치 공간을 절약하거나 이 방향에서 지지 링 구조체(210.21)의 치수를 증가시키는 것을 가능하게 하고, 그 결과 베이스 유닛(210.1)의 강성이 상당히 증가될 수 있다. 이는 특히, 유지 디바이스(210)의 공진 주파수와 관련하여 동적 관점으로부터 유리하다.
이 디자인은 또한 동일한 방식으로 본 발명에 따른 전술된 방법을 실현하는 것을 가능하게 하고, 따라서 이와 관련하여 상기에 제공된 설명을 참조한다.
유지 유닛(210.2) 사이의 강성 분포의 적응은 제1 및 제2 강성에 대해 및/또는 임의의 다른 단일 또는 다중 자유도, 특히 임의의 관련 자유도, 특히 주 충격 하중이 예상되는 자유도에 대해 전술된 것과 동일한 정도로 달성될 수도 있다는 것이 특히 이해될 수 있을 것이다. 이는 특히 본 개시내용에 제시된 바와 같은 영향 파라미터를 적응시킴으로써, 유지 디바이스(210), 특히 베이스 유닛(210.1) 및 특히 지지 멤브레인 요소(210.4)를 포함하는 그 부분을 통해 다시 달성될 수도 있다.
본 발명이 전적으로 마이크로리소그래피의 분야로부터의 예에 기초하여 전술되었다. 그러나, 본 발명은 또한 유사한 문제가 무거운 광학 유닛의 지지에 관하여 발생하는, 임의의 다른 광학 용례, 특히 상이한 파장에서의 이미징 방법의 맥락에서 사용될 수 있다는 것이 이해된다.
더욱이, 본 발명은 예를 들어 마이크로리소그래피를 위해 사용되는 마스크가 이들의 무결성 등을 위해 검사되는 소위 마스크 검사와 같은 물체의 검사와 관련하여 사용될 수 있다. 도 1에서, 예를 들어 마스크(104.1)의 투영 패턴의 이미징을 검출하는(추가 처리를 위해) 센서 유닛이 이어서 기판(105.1)을 대신한다. 이 마스크 검사는 이어서 이후의 마이크로리소그래피 프로세스에서 사용되는 것과 실질적으로 동일한 파장에서 모두 수행될 수 있다. 그러나, 검사를 위해 그로부터 벗어나는 임의의 원하는 파장을 사용하는 것도 마찬가지로 가능하다.
마지막으로, 본 발명은 이하의 특허 청구범위에서 정의된 특징의 특정 조합을 나타내는 특정 실시예에 기초하여 전술되었다. 이 시점에서, 본 발명의 주제는 이들 특징의 조합에 한정되지 않고, 오히려 이하의 특허 청구범위로부터 명백한 것과 같은 모든 다른 특징의 조합이 또한 본 발명의 주제에 속한다는 것이 명백히 지적되어야 한다.

Claims (44)

  1. 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한, 마이크로리소그래피 이미징 디바이스의 장치이며,
    - 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110; 210)를 포함하고,
    - 광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 광학 요소(109)가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의하며,
    - 유지 디바이스(110; 210)는 베이스 유닛(110.1; 210.1) 및 복수의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2), 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2)을 포함하고,
    - 지지 구조체(102.1)에 유지 디바이스(110; 210)를 연결하기 위한 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 포함하고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)에 연결되어 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치되고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 110.2)에 대해 광학 요소(109)를 유지하도록 구성되는, 장치에 있어서,
    - 베이스 유닛은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)를 포함하고,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 원주방향 및 반경방향에 대해 횡방향으로 두께 치수를 갖고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 정면측에 배치되는 것을 특징으로 하는, 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 얇은 벽 링형 디스크의 방식으로 또는 얇은 벽 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 반경방향으로 연장하고 원주방향에 수직인 단면 평면에서, 반경방향에 대해, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°만큼 경사지고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 반경방향에 적어도 실질적으로 평행하게 연장하는, 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 내부 섹션(110.5; 210.5), 및 그로부터 반경방향으로 이격된 외부 섹션(110.6)을 갖고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 내부 섹션(110.5; 210.5)과 외부 섹션(110.6) 사이에 중간 섹션(110.7)을 갖고,
    및/또는
    - 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 복수의 유지 유닛(110.2; 210.2), 특히 모든 유지 유닛(110.2; 210.2)은 반경방향으로, 내부 섹션(110.5, 210.5)과 외부 섹션(110.6) 사이에서 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4, 210.4)에 연결되는, 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    - 외부 섹션(110.6)의 영역에서 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)는 원주방향으로 연장하는 원주방향 외부 링 구조체(110.8)에 연결되고, 외부 링 구조체(110.8)는, 특히, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)의 정면측으로부터 이격하여 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)의 후면측에 배치되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)는 내부 섹션(110.5)의 영역에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 내부 링 구조체(110.9), 특히 얇은 벽 내부 링 구조체(110.9)에 연결되고, 내부 링 구조체(110.9)는, 특히, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 정면측으로부터 이격하여 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 후면측에 배치되고,
    여기서, 특히,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 적어도 일부, 특히 3개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 외부 링 구조체(110.8) 또는 내부 링 구조체에 형성되고, 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 특히, 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 분포되는, 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    - 외부 링 구조체(110.8)와 내부 링 구조체(110.9)를 상호 연결하는 적어도 하나의 웨브 요소(110.10)가 제공되고, 두께 치수의 방향으로, 적어도 하나의 웨브 요소(110.10)와 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4) 사이에 간극이 형성되고,
    여기서, 특히,
    - 간극은 외부 링 구조체(110.8)와 내부 링 구조체(110.9) 사이의 웨브 요소(110.10) 길이의 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%, 더 바람직하게는 90% 내지 100%에 걸쳐 연장되는, 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    - 서로 할당된 적어도 하나의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)가 제공되고, 특히 서로 할당된 3개의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)가 제공되며, 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향으로 바로 연속적으로 내부 링 구조체(110.9)와 맞물리고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향으로 바로 연속적으로 외부 링 구조체(110.8)와 맞물리고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향으로 서로 바로 연속하는 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에서 외부 링 구조체(110.8)와 맞물리고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 각각 종축을 정의하고 2개의 종축은 주 연장 평면의 평면도에서, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°, 특히 0°의 상호 기울기로 연장되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 각각 종축을 정의하고, 2개의 종축 중 적어도 하나, 바람직하게는 2개의 종축의 각각은 주 연장 평면의 평면도에서, 연결 라인에 대해 최대 30°, 바람직하게는 최대 10°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장되고, 연결 라인은 원주방향으로 서로 바로 연속하는 외부 링 구조체(110.8)에서 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 연결하고, 각각의 웨브 요소(110.10)는 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에 맞물리는, 장치.
  7. 제3항에 있어서,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(210.4)는 그 정면측으로부터 이격하여 향하는 후면측에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 지지 링 구조체(210.21)에 연결되고,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3), 특히 3개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 지지 링 구조체(210.21)에 형성되고, 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 특히, 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 분포되고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 내부 섹션(210.5)으로부터의, 특히 내부 에지(210.22)로부터의 지지 링 구조체(210.21)의 거리는 원주방향에서 서로 바로 연속하는 적어도 2개의, 특히 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에서 원주방향을 따라 변경되고,
    및/또는
    - 지지 링 구조체(210.21)는 반경방향에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(210.4)의 내부 에지(210.22)를 넘어 내향으로 돌출하지 않고 본질적으로 최단 경로를 따라, 원주방향으로 바로 연속적으로 적어도 2개, 특히 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 연결하는, 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    - 지지 링 구조체(210.21)는 지지 멤브레인 요소(210.4)로부터 이격하여 향하는 후면측에서, 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)에 연결되고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)는 얇은 벽 링형 디스크의 방식으로 또는 얇은 벽 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)는 반경방향으로 그리고 원주방향에 수직으로 연장하는 단면 평면에서, 반경방향에 대해, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)는 반경방향에 적어도 실질적으로 평행하게 연장되는, 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    - 원주방향으로 바로 인접하여 위치된 2개의 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나, 특히 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 분리 섹션(210.24)을 통해 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(210.4)에 연결되고,
    여기서, 특히,
    - 분리 섹션(210.24)은 반경방향에 평행한 경사축을 중심으로 경사 자유도를 해제하는, 장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 원주방향에 수직인 단면 평면에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 폭 치수가 정의되고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 두께 치수는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 폭 치수의 2% 내지 30%, 바람직하게는 5% 내지 25%, 더 바람직하게는 10% 내지 20%이고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 두께 치수는 원주방향을 따라 변경되고, 두께 치수는 특히, 원주방향을 따라 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛(110.3)까지의 각도 거리에 따라 변경되고, 두께 치수는 특히, 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대한 각도 거리가 증가함에 따라 증가하고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 두께 치수는 반경방향을 따라 변경되고, 두께 치수는 특히, 반경방향에서 지지 멤브레인 요소의 미리 결정된 강성 프로파일에 따라 변경되고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 원주방향에서, 2개의 바로 인접한 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이에 위치된 적어도 하나의 영역, 특히 2개의 바로 인접한 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 각각의 영역에 적어도 하나의 관통 개구(113)를 갖는, 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)를 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛(110.16)을 포함하고,
    - 주 연장 평면에 수직인 제1 방향에서의 제1 강성 및 반경방향에 평행한 축에 대한 제2 강성은 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 각각에 대한 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 각각의 유지 인터페이스 유닛(110.16)에 대해 정의되고,
    - 유지 디바이스(110; 210), 특히 베이스 유닛(110.1; 210.1), 특히 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 및 유지 유닛(110.2; 210.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 그룹에 대해, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 제1 강성의 편차가 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 최소 제1 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성되고,
    여기서, 특히,
    - 유지 디바이스(110; 210), 특히 베이스 유닛(110.1; 210.1), 특히 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 및 유지 유닛(110.2; 210.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 다른 그룹에 대해, 유지 유닛의 다른 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 제2 강성의 편차가 유지 유닛의 다른 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 최소 제2 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성되는, 장치.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)와 베이스 유닛(110.1; 210.1) 사이에 클램핑 연결부를 설정하도록 구성되고, 상기 클램핑 연결부는 다른 유지 유닛(110.2; 210.1)으로부터 분리되어 있고,
    여기서, 특히,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 포함하고, 유지 인터페이스 유닛은 특히, 제1 클램핑 요소(110.15) 및 제2 클램핑 요소(110.16)를 포함하고, 제1 클램핑 요소(110.15) 및 제2 클램핑 요소(110.16)는 클램핑 연결부를 설정하기 위해 서로에 대해 브레이싱되고, 광학 요소(109)의 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 제1 클램핑 요소(110.15)와 제2 클램핑 요소(110.16) 사이에 클램핑되는, 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    - 제1 클램핑 요소(110.15)와 제2 클램핑 요소(110.16)는 클램핑 연결부를 설정하기 위해, 인장 요소(111)에 의해 서로에 대해 브레이싱되고,
    여기서, 특히,
    - 인장 요소(111)는 유지 인터페이스 섹션(109.3)의 리세스(109.4)를 통해 도달하고, 특히 유극을 갖고 리세스(109.4)를 통해 도달하고,
    및/또는
    - 인장 요소(111) 내의 인장력 손실을 감소시키도록 구성된 보상 스프링 디바이스(111.3)가 제공되는, 장치.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛(110.15, 110.16)을 포함하고,
    - 유지 인터페이스 유닛(110.15, 110.16) 중 적어도 하나, 특히 각각의 유지 인터페이스 유닛(110.15, 110.16)은 연결 섹션(110.17, 110.18, 210.18)을 통해 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)에 연결되고,
    여기서, 특히,
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 반경방향에 실질적으로 평행하게 연장하는 축을 중심으로 하는 회전 자유도를 제한하는 이러한 방식으로 구성되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 적어도 단면 방향에서 판 스프링의 방식으로 구성되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 반경방향으로 유연성이도록 구성되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 적어도 단면 방향에서 반경방향에 수직인 평면에서 실질적으로 연장되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 종축을 정의하고, 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)의 종축은 주 연장 평면에 실질적으로 수직으로 또는 주 연장 평면에 실질적으로 평행하게 연장되는, 장치.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 광학 요소(109)의 적어도 하나의 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)에 의해 형성되고,
    여기서, 특히,
    - 복수의 유지 인터페이스 섹션(109.3)이 광학 요소(109)의 공통 돌출부(109.5)에 형성되고;
    및/또는
    - 모든 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)의 링형 돌출부(109.5)에 형성되고;
    및/또는
    - 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)는 원주방향으로 및/또는 원주방향 및 반경방향에 의해 정의된 평면에 수직인 방향으로 연장되는, 장치.
  16. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 광학 요소(109)의 적어도 하나의 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)에 연결된 유지 인터페이스 요소(109.6)에 의해 형성되고,
    여기서, 특히,
    - 유지 인터페이스 요소(109.6)는 광학 요소(109)의 리세스(109.8) 내로 삽입되고, 특히 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)의 리세스(109.8) 내로 삽입되고;
    및/또는
    - 유지 인터페이스 요소(109.6)는 연결 부싱, 특히 칼라(109.7)를 갖는 연결 부싱을 포함하는, 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    - 적어도 돌출부(109.5)의 영역에서, 광학 요소(109)는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 그리고/또는 Zerodur를 포함하는 재료로부터 및/또는 렌즈 재료로부터 제조되고,
    및/또는
    - 인터페이스 요소(109.6)는 특히 인바 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조되는, 장치.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 광학 표면(109.1)은 반사 광학 표면이고,
    - 광학 표면(109.1)은 광학 요소(109)의 본체(109.2) 상에 배치되고,
    - 본체(109.2)는 광학 표면(109.1)으로부터 이격하여 향하는 측면에 적어도 하나의 돌출부(109.5)를 포함하고, 상기 돌출부는 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나에 대한 인터페이스(109.3)를 형성하는, 장치.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 링형 구성을 갖고,
    및/또는
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 주 연장 평면을 정의하고 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나는 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛(110.1; 210.1)으로부터 돌출되고, 특히, 모든 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛(110.1; 210.1)으로부터 돌출되고,
    및/또는
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 모놀리식 구성을 갖고;
    및/또는
    - 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나를 갖는 모놀리식인, 장치.
  20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛(110.2; 210.2)이 제공되고;
    및/또는
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 원주방향을 따라 실질적으로 균일한 분포로 배치되는, 장치.
  21. 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한, 마이크로리소그래피 이미징 디바이스의 장치이며,
    - 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110; 210)를 포함하고,
    - 광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 광학 요소(109)가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의하며,
    - 유지 디바이스(110; 210)는 베이스 유닛(110.1; 210.1) 및 복수의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2), 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2)을 포함하고,
    - 지지 구조체(102.1)에 유지 디바이스(110; 210)를 연결하기 위한 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 포함하고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)에 연결되어 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치되고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 110.2)에 대해 광학 요소(109)를 유지하도록 구성되고,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛(110.16)을 포함하고,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 각각에 대해, 제1 방향, 특히 주 연장 평면에 수직인 제1 방향에서의 제1 강성은 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 각각의 유지 인터페이스 유닛(110.16)에 대해 정의되는, 장치에 있어서,
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)를 포함하고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4) 상에, 특히 광학 요소(109)를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 정면측 상에 배치되고,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)를 포함하는 유지 디바이스(110; 210)의 적어도 일부는, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 및 유지 유닛(110.2; 210.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 그룹에 대해, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 제1 강성의 편차가 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 최소 제1 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  22. 제23항에 있어서,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 각각에 대해, 반경방향에 평행한 축에 대한 제2 강성은 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 각각의 유지 인터페이스 유닛(110.16)에 대해 정의되고,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)를 포함하는 유지 디바이스(110; 210)의 부분은, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 및 유지 유닛의 다른 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 다른 그룹에 대해, 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 제2 강성의 편차가 유지 유닛의 다른 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 최소 제2 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성되는, 장치.
  23. 제21항 또는 제22항에 있어서,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 원주방향 및 반경방향에 대해 횡방향으로 두께 치수를 갖고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 얇은 벽 링형 디스크의 방식으로 또는 얇은 벽 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 반경방향으로 연장하고 원주방향에 수직인 단면 평면에서, 반경방향에 대해, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°만큼 경사지고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 반경방향에 적어도 실질적으로 평행하게 연장하는, 장치.
  24. 제21항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 내부 섹션(110.5; 210.5), 및 그로부터 반경방향으로 이격된 외부 섹션(110.6)을 갖고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 내부 섹션(110.5; 210.5)과 외부 섹션(110.6) 사이에 중간 섹션(110.7)을 갖고,
    및/또는
    - 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 복수의 유지 유닛(110.2; 210.2), 특히 모든 유지 유닛(110.2; 210.2)은 반경방향으로, 내부 섹션(110.5, 210.5)과 외부 섹션(110.6) 사이에서 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4, 210.4)에 연결되는, 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    - 외부 섹션(110.6)의 영역에서 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)는 원주방향으로 연장하는 원주방향 외부 링 구조체(110.8)에 연결되고, 외부 링 구조체(110.8)는, 특히, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)의 정면측으로부터 이격하여 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)의 후면측에 배치되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4)는 내부 섹션(110.5)의 영역에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 내부 링 구조체(110.9), 특히 얇은 벽 내부 링 구조체(110.9)에 연결되고, 내부 링 구조체(110.9)는, 특히, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 정면측으로부터 이격하여 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 후면측에 배치되고,
    여기서, 특히,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 적어도 일부, 특히 3개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 외부 링 구조체(110.8) 또는 내부 링 구조체에 형성되고, 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 특히, 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 분포되는, 장치.
  26. 제25항에 있어서,
    - 외부 링 구조체(110.8)와 내부 링 구조체(110.9)를 상호 연결하는 적어도 하나의 웨브 요소(110.10)가 제공되고, 두께 치수의 방향으로, 적어도 하나의 웨브 요소(110.10)와 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4) 사이에 간극이 형성되고,
    여기서, 특히,
    - 간극은 외부 링 구조체(110.8)와 내부 링 구조체(110.9) 사이의 웨브 요소(110.10) 길이의 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%, 더 바람직하게는 90% 내지 100%에 걸쳐 연장되는, 장치.
  27. 제26항에 있어서,
    - 서로 할당된 적어도 하나의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)가 제공되고, 특히 서로 할당된 3개의 쌍(110.11)의 웨브 요소(110.10)가 제공되며, 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향으로 바로 연속적으로 내부 링 구조체(110.9)와 맞물리고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향으로 바로 연속적으로 외부 링 구조체(110.8)와 맞물리고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 원주방향으로 서로 바로 연속하는 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에서 외부 링 구조체(110.8)와 맞물리고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 각각 종축을 정의하고 2개의 종축은 주 연장 평면의 평면도에서, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°, 특히 0°의 상호 기울기로 연장되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 쌍(110.11)의 2개의 웨브 요소(110.10)는 각각 종축을 정의하고 2개의 종축 중 적어도 하나, 바람직하게는 2개의 종축의 각각은 주 연장 평면의 평면도에서, 연결 라인에 대해 최대 30°, 바람직하게는 최대 10°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장되고, 연결 라인은 원주방향으로 서로 바로 연속하는 외부 링 구조체(110.8)에서 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 연결하고, 각각의 웨브 요소(110.10)는 2개의 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에 맞물리는, 장치.
  28. 제24항에 있어서,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(210.4)는 그 정면측으로부터 이격하여 향하는 후면측에서, 원주방향으로 연장하는 원주방향 지지 링 구조체(210.21)에 연결되고,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3), 특히 3개의 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 지지 링 구조체(210.21)에 형성되고, 지지 인터페이스 유닛(110.3)은 특히, 원주방향을 따라 불규칙한 간격으로 분포되고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 내부 섹션(210.5)으로부터의, 특히 내부 에지(210.22)로부터의 지지 링 구조체(210.21)의 거리는 원주방향에서 서로 바로 연속하는 적어도 2개의, 특히 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3) 사이에서 원주방향을 따라 변경되고,
    및/또는
    - 지지 링 구조체(210.21)는 반경방향에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(210.4)의 내부 에지(210.22)를 넘어 내향으로 돌출하지 않고 본질적으로 최단 경로를 따라, 원주방향으로 바로 연속적으로 적어도 2개, 특히 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)을 연결하는, 장치.
  29. 제28항에 있어서,
    - 지지 링 구조체(210.21)는 지지 멤브레인 요소(210.4)로부터 이격하여 향하는 후면측에서, 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)에 연결되고,
    여기서, 특히,
    - 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)는 얇은 벽 링형 디스크의 방식으로 또는 얇은 벽 중공 원추형 절두체의 방식으로 구성되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)는 반경방향으로 그리고 원주방향에 수직으로 연장하는 단면 평면에서, 반경방향에 대해, 최대 10°, 바람직하게는 최대 5°, 더 바람직하게는 최대 2°의 기울기로 연장되고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 강화 멤브레인 요소(210.23)는 반경방향에 적어도 실질적으로 평행하게 연장되는, 장치.
  30. 제28항 또는 제29항에 있어서,
    - 원주방향으로 바로 인접하여 위치된 2개의 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나, 특히 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 분리 섹션(210.24)을 통해 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(210.4)에 연결되고,
    여기서, 특히,
    - 분리 섹션(210.24)은 반경방향에 평행한 경사축을 중심으로 경사 자유도를 해제하는, 장치.
  31. 제21항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 원주방향에 수직인 단면 평면에서, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 폭 치수가 정의되고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 두께 치수는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 폭 치수의 2% 내지 30%, 바람직하게는 5% 내지 25%, 더 바람직하게는 10% 내지 20%이고,
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 두께 치수는 원주방향을 따라 변경되고, 두께 치수는 특히, 원주방향을 따라 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛(110.3)까지의 각도 거리에 따라 변경되고, 두께 치수는 특히, 가장 가까운 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대한 각도 거리가 증가함에 따라 증가하고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 두께 치수는 반경방향을 따라 변경되고, 두께 치수는 특히, 반경방향에서 지지 멤브레인 요소의 미리 결정된 강성 프로파일에 따라 변경되고;
    및/또는
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 원주방향에서, 2개의 바로 인접한 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이에 위치된 적어도 하나의 영역, 특히 2개의 바로 인접한 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 각각의 영역에 적어도 하나의 관통 개구(113)를 갖는, 장치.
  32. 제21항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)와 베이스 유닛(110.1; 210.1) 사이에 클램핑 연결부를 설정하도록 구성되고, 상기 클램핑 연결부는 다른 유지 유닛(110.2; 210.1)으로부터 분리되어 있고,
    여기서, 특히,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나, 바람직하게는 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛을 포함하고, 유지 인터페이스 유닛은 특히, 제1 클램핑 요소(110.15) 및 제2 클램핑 요소(110.16)를 포함하고, 제1 클램핑 요소(110.15) 및 제2 클램핑 요소(110.16)는 클램핑 연결부를 설정하기 위해 서로에 대해 브레이싱되고, 광학 요소(109)의 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 제1 클램핑 요소(110.15)와 제2 클램핑 요소(110.16) 사이에 클램핑되는, 장치.
  33. 제32항에 있어서,
    - 제1 클램핑 요소(110.15)와 제2 클램핑 요소(110.16)는 클램핑 연결부를 설정하기 위해, 인장 요소(111)에 의해 서로에 대해 브레이싱되고,
    여기서, 특히,
    - 인장 요소(111)는 유지 인터페이스 섹션(109.3)의 리세스(109.4)를 통해 도달하고, 특히 유극을 갖고 리세스(109.4)를 통해 도달하고,
    및/또는
    - 인장 요소(111) 내의 인장력 손실을 감소시키도록 구성된 보상 스프링 디바이스(111.3)가 제공되는, 장치.
  34. 제21항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)에 연결하기 위한 유지 인터페이스 유닛(110.15, 110.16)을 포함하고,
    - 유지 인터페이스 유닛(110.15, 110.16) 중 적어도 하나, 특히 각각의 유지 인터페이스 유닛(110.15, 110.16)은 연결 섹션(110.17, 110.18, 210.18)을 통해 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)에 연결되고,
    여기서, 특히,
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 반경방향에 실질적으로 평행하게 연장하는 축을 중심으로 하는 회전 자유도를 제한하는 이러한 방식으로 구성되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 적어도 단면 방향에서 판 스프링의 방식으로 구성되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 반경방향으로 유연성이도록 구성되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 적어도 단면 방향에서 반경방향에 수직인 평면에서 실질적으로 연장되고;
    및/또는
    - 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)은 종축을 정의하고, 연결 섹션(110.17, 110.18; 210.18)의 종축은 주 연장 평면에 실질적으로 수직으로 또는 주 연장 평면에 실질적으로 평행하게 연장되는, 장치.
  35. 제21항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 광학 요소(109)의 적어도 하나의 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)에 의해 형성되고,
    여기서, 특히,
    - 복수의 유지 인터페이스 섹션(109.3)이 광학 요소(109)의 공통 돌출부(109.5)에 형성되고;
    및/또는
    - 모든 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)의 링형 돌출부(109.5)에 형성되고;
    및/또는
    - 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)는 원주방향으로 및/또는 원주방향 및 반경방향에 의해 정의된 평면에 수직인 방향으로 연장되는, 장치.
  36. 제21항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 광학 요소(109)의 적어도 하나의 유지 인터페이스 섹션(109.3)은 광학 요소(109)에 연결된 유지 인터페이스 요소(109.6)에 의해 형성되고,
    여기서, 특히,
    - 유지 인터페이스 요소(109.6)는 광학 요소(109)의 리세스(109.8) 내로 삽입되고, 특히 광학 요소(109)의 돌출부(109.5)의 리세스(109.8) 내로 삽입되고;
    및/또는
    - 유지 인터페이스 요소(109.6)는 연결 부싱, 특히 칼라(109.7)를 갖는 연결 부싱을 포함하는, 장치.
  37. 제36항에 있어서,
    - 적어도 돌출부(109.5)의 영역에서, 광학 요소(109)는 세라믹 재료로부터 제조되고, 세라믹 재료는 특히 SiSiC를 포함하고, 그리고/또는 Zerodur를 포함하는 재료로부터 및/또는 렌즈 재료로부터 제조되고,
    및/또는
    - 인터페이스 요소(109.6)는 특히 인바 및/또는 스테인리스강 및/또는 몰리브덴을 포함하는 재료로부터 제조되는, 장치.
  38. 제21항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 광학 표면(109.1)은 반사 광학 표면이고,
    - 광학 표면(109.1)은 광학 요소(109)의 본체(109.2) 상에 배치되고,
    - 본체(109.2)는 광학 표면(109.1)으로부터 이격하여 향하는 측면에 적어도 하나의 돌출부(109.5)를 포함하고, 상기 돌출부는 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나에 대한 인터페이스(109.3)를 형성하는, 장치.
  39. 제21항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 링형 구성을 갖고,
    및/또는
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 주 연장 평면을 정의하고 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나는 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛(110.1; 210.1)으로부터 돌출되고, 특히, 모든 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 주 연장 평면에 실질적으로 수직인 방식으로 베이스 유닛(110.1; 210.1)으로부터 돌출되고,
    및/또는
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 모놀리식 구성을 갖고;
    및/또는
    - 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 유지 유닛(110.2; 210.2) 중 적어도 하나를 갖는 모놀리식인, 장치.
  40. 제21항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 적어도 6개, 바람직하게는 적어도 9개, 더 바람직하게는 18 내지 36개의 유지 유닛(110.2; 210.2)이 제공되고;
    및/또는
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 원주방향을 따라 실질적으로 균일한 분포로 배치되는, 장치.
  41. 광학 이미징 디바이스, 특히 마이크로리소그래피 광학 이미징 디바이스이며,
    - 제1 광학 요소 그룹(106)을 포함하는 조명 디바이스(102),
    - 물체(104.1)를 수용하기 위한 물체 디바이스(104),
    - 제2 광학 요소 그룹(107)을 포함하는 투영 디바이스(103) 및
    - 이미지 디바이스(105)를 포함하고,
    - 조명 디바이스(102)는 물체(104.1)를 조명하도록 구성되고,
    - 투영 디바이스(103)는 물체(103.1)의 이미지를 이미지 디바이스(105) 상에 투영하도록 구성되는, 광학 이미징 디바이스에 있어서,
    - 조명 디바이스(102) 및/또는 투영 디바이스(103)는 제1항 내지 제40항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 장치(108)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학 이미징 디바이스.
  42. 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한, 마이크로리소그래피 광학 요소(109)를 지지하기 위한 방법이며,
    - 광학 요소(109)가 유지 디바이스(110; 210)에 의해 유지되고, 광학 요소는 광학 표면을 포함하고 광학 요소(109)가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의하고,
    - 광학 요소(109)는 유지 디바이스(110; 210)의 복수의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2), 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2)에 의해 유지 디바이스(110; 210)의 베이스 유닛(110.1; 210.1)에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치되고,
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 의해 지지 구조체에 연결되는, 방법에 있어서,
    - 베이스 유닛의 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 주로 원주방향을 따라 그리고 반경방향을 따라 연장하고, 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)는 원주방향 및 반경방향에 대해 횡방향으로 두께 치수를 갖고,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 정면측에 배치되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  43. 특히 극 UV(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한, 마이크로리소그래피 광학 요소(109)를 지지하기 위한 방법이며,
    - 광학 요소(109)가 유지 디바이스(110; 210)에 의해 유지되고, 광학 요소는 광학 표면을 포함하고 광학 요소(109)가 반경방향 및 원주방향을 정의하는 주 연장 평면을 정의하고,
    - 광학 요소(109)는 유지 디바이스(110; 210)의 복수의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2), 특히 3개 초과의 개별 유지 유닛(110.2; 210.2)에 의해 유지 디바이스(110; 210)의 베이스 유닛(110.1; 210.1)에 대해 유지되고, 상기 유지 유닛은 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배치되고,
    - 베이스 유닛(110.1; 210.1)은 원주방향으로 서로 이격된 복수의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 의해 지지 구조체에 연결되고,
    - 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)은 광학 요소(109)에 연결되는 유지 인터페이스 유닛(110.16)을 포함하고,
    - 지지 인터페이스 유닛(110.3)의 각각에 대해, 주 연장 평면에 수직인 제1 방향에서의 제1 강성은 각각의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 각각의 유지 인터페이스 유닛(110.16)에 대해 정의되는, 방법에 있어서,
    - 유지 유닛(110.2; 210.2)은 베이스 유닛(110.1; 210.1)의 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4) 상에, 특히 광학 요소(109)를 향하는 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)의 정면측 상에 배치되고,
    - 적어도 하나의 지지 멤브레인 요소(110.4; 210.4)를 포함하는 유지 디바이스(110; 210)의 적어도 일부는, 적어도 하나의 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 바람직하게는 모든 지지 인터페이스 유닛(110.3)에 대해, 및 유지 유닛(110.2; 210.2)의 적어도 80%, 바람직하게는 적어도 90%, 더 바람직하게는 95% 내지 100%를 포함하는 유지 유닛의 그룹에 대해, 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2) 사이의 제1 강성의 편차가 유지 유닛의 그룹의 유지 유닛(110.2; 210.2)의 최소 제1 강성의 최대 900%, 바람직하게는 최대 100%, 더 바람직하게는 최대 10% 내지 1%인 이러한 방식으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  44. 제42항 또는 제43항에 있어서,
    - 유지 디바이스(110; 210)의 3개의 유지 유닛(110.2; 210.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 연결부는 광학 요소(109)가 베이스 유닛(110.1; 210.1)에 대해 공간에서 고정되는 이러한 방식으로 제1 단계에서 각각 설정되고,
    - 유지 디바이스(110; 210)의 나머지 유지 유닛(110.2; 210.2)과 광학 요소(109) 사이의 각각의 연결부는 제2 단계에서 각각 설정되고, 이 제2 단계는 제1 단계에 이어지는, 방법.
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