JP2007510311A5

JP2007510311A5 -

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Publication number: JP2007510311A5
Application number: JP2006538427A
Authority: JP
Filing date: 2004-10-29
Publication date: 2010-12-16
Anticipated expiration: 2024-10-29

Claims

電子ビーム処理装置であって、
（ａ）（i）電子を生産できる露出された表面積を備えるカソードと、
（ii）前記カソードによって生産された電子の電子平均自由行路より大きな作動距離ほど前記カソードから離隔され、ホールを有するアノードと、
（iii）前記アノードと対向するウエハホルダと、
（iv）ガス導入速度で前記チャンバにガスが入るようにするガス入口と、
（v）ガス導入速度とともにチャンバ内にガス圧力を提供するガス排出速度で前記チャンバからガスを排出するポンプと、
を有するチャンバと、
（ｂ）その出力が前記カソードに印加され、カソード電圧を提供する負電圧源と、
（ｃ）その出力が前記アノードに印加される電圧源と、
を備え、
前記作動距離の値が、−０．５ＫＶ〜−１０ＫＶの範囲内のカソード電圧および４０ミリトールより大きいガス圧力において、カソードとアノード間にアークが生じないように構成されている、電子ビーム処理装置。
Ｎｅ、Ｈｅ、Ａｒ、Ｈ_２、Ｏ_２、Ｋｒ、Ｘｅ及びＮ_２のうち１つ以上を備えるガス源を備える、請求項１に記載の装置。
前記カソード表面の材料がＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｍｏ、黒鉛、Ｗ、Ｃｏ、及びこれらの合金からなる群から選ばれる、請求項１に記載の装置。
少なくとも前記アノード表面の材料が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｍｏ、黒鉛、Ｗ、Ｃｏ、及びこれらの合金からなる群から選ばれる、請求項１に記載の装置。
電子を生産できる露出された表面積を有するカソード及び前記カソードから作動距離ほど離隔され、その中にホールを有するアノードを有するチャンバと、前記アノードと対向する前記チャンバの内側に配置されたウエハホルダと、その出力が前記カソードに印加され、カソード電圧を提供する負電圧源と、その出力が前記アノードに印加される電圧源と、ガス源からガス導入速度で前記チャンバにガスが入るようにするガス入口と、ガス導入速度とともにチャンバ内にガス圧力を提供するガス排出速度で前記チャンバからガスを排出するように適合されたポンプとを含む電子ビーム処理装置の稼動方法であって、
前記ウエハホルダ上にウエハを置くステップと、
前記アノードとカソード間の作動距離が、前記カソードによって生産された電子の電子平均自由行路より大きくなるように設定するステップと、
カソード電圧、ガス圧力、及び電子平均自由行路より大きな作動距離において、前記カソードとアノード間にアークがないようにする作動距離の値を提供するように、前記負電圧源、ガス導入速度、ガス排出速度、及び作動距離を設定するステップと、
を備える方法。
前記カソード電圧が−０．５ＫＶ〜−１０ＫＶの範囲内にある、請求項５記載の方法。
前記ガスがＮｅ、Ｈｅ、Ａｒ、Ｈ_２、Ｏ_２、Ｋｒ、Ｘｅ及びＮ_２のうち１つ以上を備える、請求項６記載の方法。
前記ガス圧力が、４０ミリトールより大きい、請求項５記載の方法。