JP2007324382A

JP2007324382A - 旋回流形成体および非接触搬送装置

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Publication number: JP2007324382A
Application number: JP2006153243A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Iwasaka; 斉岩坂; Hideyuki Tokunaga; 英幸徳永
Original assignee: Harmotec Corp
Current assignee: Harmotec Corp
Priority date: 2006-06-01
Filing date: 2006-06-01
Publication date: 2007-12-13
Anticipated expiration: 2026-06-01
Also published as: JP4684171B2

Abstract

【課題】板状部材を非接触で保持しつつ、保持する板状部材の回転を制御できるようにする。
【解決手段】非接触搬送装置は、板状の部材を非接触で保持するために、柱状で上面が平坦な旋回流形成体を有している。この旋回形成体２は、柱状の旋回流形成体２の上面から下面側に向かって設けられ、上面に沿った断面の形状が円または多角形である複数の凹部３と、凹部の周壁に設けられた噴出口と、旋回流形成体の外面に設けられた流体導入口６と、流体導入口６と前記噴出口とを連結する流体通路とを有している。複数の凹部３は隣接する他の凹部と連結しており、噴出口は、流体導入口６から流体通路に供給され噴出口から凹部３へ吐出される流体が、凹部３の壁面に沿って旋回するように前記凹部３の周壁に設けられている。
【選択図】図４

Description

本発明は、板状の部材を非接触で保持および移送する技術に関する。

従来、半導体ウェーハやガラス基板等の板状部材を移送する際には、アーム等の部材で板状部材を把持する把持装置や、真空吸着装置によって板状部材の保持が行われていた。これらの装置においては、真空吸着部またはアーム等の部材が板状部材に直接接触して板状部材を保持しているが、板状部材が装置に直接接触すると、これらの装置に付着していた微細な粒子状の異物がウェーハやガラス基板に付着して不良を発生させる虞がある。また、装置が直接接触することにより、接触部分に傷が発生して不良を発生させる虞もある。

そこで、このような不良を発生させないようにするために、例えば、特許文献１に開示されているように、円筒状の部材の内周面にそって流体を旋回させることにより板状部材を吸引し、板状部材を非接触で保持する非接触搬送装置が考案されている。
特開２００５−５１２６０号公報

ところで、特許文献１に開示されている非接触搬送装置においては、板状部材は保持されている間においては、流体は一方向にのみ回転するため、板状部材は流体との摩擦により流体の旋回方向と同じ方向に回転することとなる。このように、板状部材が回転してしまうと、移送を終了して板状部材を置く際に板状部材は回転しながら置かれることとなり、置かれる場所との摩擦により板状部材が傷つく虞がある。また、回転しながら置かれることとなると、板状部材が置かれた時に置かれた場所との摩擦によって板状部材が移動してしまい、当初に置こうとした位置とは異なる位置に板状部材が位置してしまう場合がある。

本発明は、上述した背景の下になされたものであり、その目的は、板状部材を非接触で保持しつつ、保持する板状部材の回転を制御できるようにすることにある。

上述した課題を解決するために本発明は、柱状で上面が平坦な旋回流形成体であって、前記柱状の旋回流形成体の上面から下面側に向かって設けられ、前記上面に沿った断面の形状が円または多角形である複数の凹部と、前記凹部の周壁に設けられた噴出口と、前記旋回流形成体の外面に設けられた流体導入口と、前記流体導入口と前記噴出口とを連結する流体通路とを有し、前記複数の凹部は隣接する他の凹部と連結しており、前記噴出口は、前記流体導入口から前記流体通路に供給され前記噴出口から前記凹部へ吐出される流体が、該流体が吐出される凹部の壁面に沿って旋回するように前記凹部の周壁に設けられていることを特徴とする旋回流形成体を提供する。

また、本発明は、前記旋回流形成体と、該旋回流形成体が有する流体導入口に接続され該流体導入口へ流体を供給する流体供給装置とを有する非接触搬送装置を提供する。

本発明によれば、板状部材を非接触で保持しつつ、保持する板状部材の回転を制御することができる。

［第１実施形態］
まず、本発明の第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る非接触搬送装置１を斜め下方から見た図であり、図２は、非接触搬送装置１を下方から見た図である。非接触搬送装置１は、半導体ウェーハやガラス基板等の板状部材を非接触で保持して移送する装置であり、支持体１２と、旋回流形成体２と、流体配管７とを備えている。

支持体１２は、一端が開口している円筒状の部材であり、円形の基底部１３、および基底部１３の外周部において基底部１３に対して垂直に設けられた周壁１４とを有している。この周壁１４においては、基底部１３とは反対側の端面１４０の内周部分に２段の階段状にラビリンスフィン１４１が設けられている。また、端面１４０においては、円柱形状のガイド部材１４２が４つ設けられている。

図３は、図２のＡ−Ａ線断面図である。図３に示したように、基底部１３には基底部１３を支持体１２の中心軸方向に沿って貫通する排出通路１３２が設けられている。また、基底部１３には流体配管７に空気を送るための通路であって基底部１３を支持体１２の中心軸方向に沿って貫通する基底部内通路１３１が設けられている。そして、基底部内通路１３１には、流体供給装置８が接続されて流体供給装置８から空気が供給される。

図４は、旋回流形成体２の斜視図であり、図５は図２のＢ−Ｂ線断面図である。また図６は図４のＣ−Ｃ線断面図である。図４に示したように旋回流形成体２においては、凹部３Ａと凹部３Ｂとからなる凹部３が形成されている。また、旋回流形成体２においては、図５に示したように凹部３に設けられた噴出口４と、旋回流形成体の外周面に設けられた流体導入口６、および噴出口４と流体導入口６とを連結する流体通路５が形成されている。

凹部３Ａおよび凹部３Ｂは円筒状の空間であり、その中心軸の方向は、円柱形状の旋回流形成体２の中心軸の方向と同じとなっている。また、図６に示したように凹部３Ａの直径方向の中心点Ｐ１は、旋回流形成体２の中心点Ｐから距離ａだけ離れており、凹部３Ｂの直径方向の中心点は、旋回流形成体２の中心点から距離ａだけ離れている。旋回流形成体２の中心点から凹部３Ａの中心点までの距離ａ、および旋回流形成体２の中心点から凹部３Ｂの中心点までの距離ａは、凹部３Ａと凹部３Ｂの半径の距離より短い距離となっている。このため、図に示したように凹部３Ａと凹部３Ｂは一体となって水平方向の断面形状が８の字状の凹部３を構成している。

また、図５に示したように、凹部３Ａ、凹部３Ｂの開口縁は面取り及びＲ加工により傾斜面３ａが形成されてラッパ状に広がっている。そして、凹部３Ａおよび凹部３Ｂの開口部が設けられている側の端面２ｂは平坦となっている。また、基底部１３において旋回流形成体２が固定されている底面から端面２ｂまでの高さと、旋回流形成体２が固定されている底面から端面１４０までの高さは同じとなっている。

流体導入口６には基底部内通路１３１に接続された流体配管７が接続されている。基底部内通路１３１には流体供給装置８が接続されており、流体供給装置８から空気が供給される。基底部内通路１３１に供給された空気は、流体配管７を通り流体導入口６に供給される。そして、流体通路５を通って噴出口４から凹部３へ吐出される。噴出口４から凹部３に吐出された空気は、噴出口４に対向する位置で図６に示したように、凹部３Ａ側（矢印Ｄ側）と凹部３Ｂ側（矢印Ｅ側）とに分岐する。これにより、凹部３Ａ側においては矢印Ｄ方向に回転する旋回流が生じ、凹部３Ｂ側においては矢印Ｅ方向に回転する旋回流が生じる。

凹部３に吹き込まれて旋回流となった空気は凹部３の開口部から流出するが、その流出時に端面２ｂに対向する位置に板状部材があると、凹部３内への外部からの大気圧供給が制限され旋回流の遠心力により次第に単位面積当たりの空気の密度が小さくなり、旋回流中心部の圧力が低下して負圧が発生する。負圧が発生すると、板状部材は周囲の大気圧によって押圧されて端面２ｂ側へ吸引される一方、端面２ｂと板状部材の距離が近づくと凹部３からの空気の排出が制限され、噴出口４から凹部３内へ吹き込まれる空気の速度が遅くなるため凹部３内の旋回流中心部の圧力は上昇し、板状部材は端面２ｂに接触せず端面２ｂと板状部材との間の距離が保たれる。また、端面２ｂと板状部材との間に介在する空気により板状部材は安定して保持されることとなる。なお、凹部３においては矢印Ｄ方向の旋回流と矢印Ｅ方向の旋回流という互いに回転方向が異なる旋回流が生じるため、板状部材は回転することなく保持されることとなる。

［第２実施形態］
次に本発明の第２実施形態について説明する。図７は、本実施形態に係る非接触保持装置１を斜め下方から見た図であり、図８は、本実施形態に係る非接触搬送装置１を下方から見た図である。また、図９は図８のＦ−Ｆ線断面図であり、図１０は本実施形態に係る旋回流形成体２Ａの斜視図である。また、図１１は図８のＧ−Ｇ線断面図、図１２は図８のＨ−Ｈ線断面図であり、図１３は図１０のＩ−Ｉ線断面図である。図に示したように、本実施形態においては、旋回流形成体および基底部の構成と、流体配管７が３つ設けられている点が第１実施形態と異なる。なお、本実施形態において、第１実施形態と同じ構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。

図１２に示したように、旋回流形成体２Ａは噴出口４に加え、凹部３Ａに噴出口４Ａを備えており、凹部３Ｂに噴出口４Ｂを備えている。また、旋回流形成体２Ａの外周面には流体導入口６に加え、流体導入口６Ａと流体導入口６Ｂが設けられており、さらに、旋回流形成体２Ａの内部においては、噴出口４Ａと流体導入口６Ａを連結する流体通路５Ａと、噴出口４Ｂと流体導入口６Ｂを連結する流体通路５Ｂが設けられている。

流体導入口６Ａには流体配管７Ａが接続されており、流体導入口６Ｂには流体配管７Ｂが接続されている。また、流体配管７Ａは、基底部１３を支持体１２の中心軸方向に沿って貫通する基底部内通路１３１Ａに接続されており、流体配管７Ｂは、基底部１３を支持体１２の中心軸方向に沿って貫通する基底部内通路１３１Ｂ（図示略）に接続されている。

基底部内通路１３１、１３１Ａ、および１３１Ｂには、流体供給装置８が接続されており、流体供給装置８から空気が供給される。各基底部内通路に供給された空気は、各基底部内通路に接続された流体配管を通り流体導入口６、６Ａおよび６Ｂに供給される。流体導入口６に供給された空気は、流体通路５を通って噴出口４から凹部３へ吐出される。噴出口４から吐出された空気は、噴出口４に対向する位置で、図１３に示したように、凹部３Ａ側（矢印Ｄ側）と凹部３Ｂ側（矢印Ｅ側）とに分岐する。これにより、凹部３Ａ側においては矢印Ｄ方向に回転する旋回流が生じ、凹部３Ｂ側においては矢印Ｅ方向に回転する旋回流が生じる。

また、流体導入口６Ａに供給された空気は、流体通路５Ａを通って噴出口４Ａから凹部３Ａへ吐出される。噴出口４Ａから吐出された空気は、凹部３Ａの内周面に沿って矢印Ｄ方向へ回転する。凹部３Ａにおいては、吐出口４から吐出された空気も矢印Ｄ方向へ旋回するため、凹部３Ａにおいては、吐出口４から吐出された空気と吐出口４Ａから吐出された空気とによる相乗効果が生ずる。また、流体導入口６Ｂに供給された空気は、流体通路５Ｂを通って噴出口４Ｂから凹部３Ｂへ吐出される。噴出口４Ｂから吐出された空気は、凹部３Ｂの内周面に沿って矢印Ｅ方向へ回転する。また、凹部３Ｂにおいては、吐出口４から吐出された空気も矢印Ｅ方向へ旋回するため、凹部３Ｂにおいては、吐出口４から吐出された空気と吐出口４Ｂから吐出された空気とによる相乗効果が生ずる。

凹部３に吐出された空気は凹部３の開口部から流出するが、その流出時に端面２ｂに対向する位置に板状部材があると、凹部３内への外部からの大気圧供給が制限され旋回流の遠心力により次第に単位面積当たりの空気の密度が小さくなり、旋回流中心部の圧力が低下して負圧が発生する。負圧が発生すると、板状部材は周囲の大気圧によって押圧されて端面２ｂ側へ吸引される一方、端面２ｂと板状部材の距離が近づくと凹部３からの空気の排出が制限され、噴出口４から凹部３内へ吹き込まれる空気の速度が遅くなるため凹部３内の旋回流中心部の圧力は上昇し、板状部材は端面２ｂに接触せず端面２ｂと板状部材との間の距離が保たれる。また、端面２ｂと板状部材との間に介在する空気により板状部材は安定して保持されることとなる。なお、凹部３においては矢印Ａ方向の旋回流と矢印Ｂ方向の旋回流という互いに回転方向が異なる旋回流が生じるため、板状部材は回転することなく保持されることとなる。

［第３実施形態］
次に本発明の第３実施形態について説明する。図１４は、本実施形態に係る非接触搬送装置１０の構成を示した斜視図である。また、図１５は非接触搬送装置１０の構成を示した図であり、図１５（ａ）は上面図、図１５（ｂ）は側面図、図１５（ｃ）は下面図である。また、図１６は、非接触搬送装置１０が備えるセンタリング機構１２の駆動説明図であり、図１７（ａ）は本実施形態に係る旋回流形成体２Ｂの斜視図、図１７（ｂ）は、旋回流形成体２Ｂを中心軸に沿って切断した時の断面図である。なお、以下の説明においては、第１実施形態と同じ構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。

本実施形態に係る非接触搬送装置１０は、基底部１１と、基底部１１に固定された６個の旋回流形成体２Ｂと、板状部材のセンタリングを行うセンタリング機構１５とを備えている。旋回流形成体２Ｂの構成は、第１実施形態に係る旋回流形成体２とほぼ同じ構成となっている。旋回流形成体２Ｂが第１実施形態に係る旋回流形成体２と異なる点は、流体導入口６が、端面２ｂとは反対側の面に設けられており、噴出口４と流体導入口６を結ぶ流体通路５が図１７（ｂ）に示したように旋回流形成体２Ｂ内部にて屈曲している点である。各旋回流形成体２Ｂは、閉端面側（端面２ｂと反対側）が基底部１１に固定されており、６個の旋回流形成体２Ｂは、基底部１１から端面２ｂまでの高さがいずれも同じ高さとなっている。

基底部１１の外面には流体供給口１６が設けられており、基底部１１の内部には流体供給口１６と各旋回流形成体２Ｂの流体導入口６とを結ぶ基底部内通路（図示略）が流体供給口１６から分岐して形成されている。また、基底部１１の外面には、非接触で保持した板状部材の位置決めを行うとともに、板状部材の離脱を防止するセンタリング機構１７が設けられている。このセンタリング機構１７は、図１６に示したように、その一端が相互に連通している６本のシリンダと、各シリンダに一端が連結されたリンクアーム１７２と、各リンクアーム１７２のシリンダが連結されている方と反対側の端部に垂直に設けられた６個のセンタリングガイド１７３とから構成されている。６本のシリンダは、その一端が相互に連通しているため、１系統の流体によって加圧または減圧が可能となっている。シリンダ１２１内が流体によって減圧されると、６本のリンクアームが中心方向に移動し、これと共にリンクアームに設けられているセンタリングガイド１７３が非接触搬送装置１０の中心方向に移動する。また、シリンダ１２１内が流体によって加圧されると、６本のリンクアームが中心方向とは反対方向に移動し、これと共にリンクアームに設けられているセンタリングガイド１７３が非接触搬送装置１０の中心方向とは反対方向に移動する。

非接触搬送装置１０において、流体供給口１６に接続された流体供給装置（図示略）から空気が供給されると、供給された空気は基底部１１内の基底部内通路を通って各旋回流形成体２Ｂの流体導入口６へ送られる。流体導入口６に供給された空気は、流体通路５を通って噴出口４から凹部３へ吐出される。凹部３内部に吐出された空気は、噴出口４に対向する位置で、凹部３Ａ側と凹部３Ｂ側とに分岐する。これにより、第１実施形態と同様に凹部３Ａ側と凹部３Ｂ側とに旋回流が生じる。凹部３に吐出された空気は旋回流形成体２Ｂの開口部から流出するが、その流出時に端面２ｂに対向する位置に板状部材があると、第１実施形態と同様に板状部材は端面２ｂに接触せず端面２ｂと板状部材との間の距離が保たれたまま安定して保持されることとなる。

そして、円形の板状部材が保持されている状態において、シリンダ１７１内が流体によって減圧されると、６本のリンクアームが中心方向に移動し、リンクアームに設けられているセンタリングガイド１７３が非接触搬送装置１０の中心方向に移動する。これにより、保持されている板状部材はその外周部分が規制され、板状部材の中心が基底部１１の中心に一致するように位置決めされる。この状態で非接触搬送装置１０を移動させると、板状部材はセンタリングガイド１７３によりガイドされつつ移動する。また、シリンダ１７１内が流体によって加圧されると、６本のリンクアームが中心方向とは反対方向に移動し、リンクアームに設けられているセンタリングガイド１７３が非接触搬送装置１０の中心方向とは反対方向に移動する。このように、センタリングガイド１７３が基底部１１の中心方向から離れると、板状部材への規制が解除されて板状部材は自由状態となる。

この非接触搬送装置１０では、６個の旋回流形成体２Ｂによって形成される旋回流により板状部材を吸引して保持するため、吸引力を強力なものにすることができる。また、この非接触搬送装置１０では、６個の旋回流形成体２Ｂによって形成される旋回流により板状部材を吸引して保持するため、大きな径を有する板状部材であってもその全体を吸引することができる。

［第４実施形態］
次に本発明の第４実施形態について説明する。図１８は、本実施形態に係る非接触搬送装置２０の構成を示した斜視図である。また、図１９（ａ）は非接触搬送装置２０の上面図であり、図１９（ｂ）は非接触搬送装置２０の側面図である。また、図２０は、非接触搬送装置２０が備えるセンタリング機構を説明するための図である。なお、以下の説明においては、上述した実施形態と同じ構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。

本実施形態に係る非接触搬送装置２０は、板状の基体２１と、基体２１に固定された６個の旋回流形成体２Ｂと、基体２１を移動させる把持部２３とを備えている。基体２１は、基部２１１と、基部２１１から二股状に分岐する２つの腕部２１２から構成されており、腕部２１２の突端には円柱形状のセンタリングガイド２１３が設けられている。

旋回流形成体２Ｂは、その閉端面側（端面２ｂと反対側）が基部２１１と腕部２１２とに固定されており、各旋回流形成体２Ｂにおける基部２１１または腕部２１２から端面２ｂまでの高さはいずれも同じ高さとなっている。把持部２３の側面には、流体供給口２４が設けられており、基体２１の内部（基部２１１１と腕部２１２の内部）には流体供給口２４と各旋回流形成体２Ｂの流体導入口６とを結ぶ基底部内通路（図示略）が流体供給口２４から分岐して形成されている。

基体２１の下方には、非接触で保持した板状部材の位置決めを行うとともに、板状部材の離脱を防止するセンタリング機構２２が設けられている。このセンタリング機構２２は、図２０に示したように、把持部２３内に設けられたシリンダ２２１と、シリンダ２２１にその一端が連結され、他端に２個のセンタリングガイド２２３が設けられたリンクプレート２２２とを備えている。シリンダ２２１内が流体によって加圧されると、シリンダ２２１に連結されているセンタリングガイド２２３が図２０中の矢印Ｊ方向へ移動する。また、シリンダ２２１内が減圧されるとシリンダ２２１に連結されているセンタリングガイド２２３が図２０中の矢印Ｋ方向へ移動する。

非接触搬送装置２０において、流体供給口２４に接続された流体供給装置（図示略）から空気が供給されると、供給された空気は基部２１内の基底部内通路を通って各旋回流形成体２Ｂの流体導入口６へ送られる。流体導入口６に供給された空気は、流体通路５を通って噴出口４から凹部３へ吐出される。凹部３内部に吐出された空気は、噴出口４に対向する位置で、凹部３Ａ側と凹部３Ｂ側とに分岐する。これにより、第１実施形態と同様に凹部３Ａ側と凹部３Ｂ側とに旋回流が生じる。凹部３に吐出された空気は旋回流形成体２Ｂの開口部から流出するが、その流出時に端面２ｂに対向する位置に板状部材があると、第１実施形態と同様に板状部材は端面２ｂに接触せず端面２ｂと板状部材との間の距離が保たれたまま安定して保持されることとなる。

円形の板状部材が保持されている状態において、シリンダ２２１内が流体によって加圧されると、センタリングガイド２２３が矢印Ｊ方向へ移動する。センタリングガイド２２３が矢印Ｊ方向へ移動すると、保持されている板状部材はセンタリングガイド２１３とセンタリングガイド２２３とによってその外周部分が規制されて位置決めされる。この状態で基体２１を移動させると、基体２１の移動と共に板状部材もセンタリングガイド２１３とセンタリングガイド２２３によってガイドされつつ移動する。また、シリンダ２２１内が減圧されると、センタリングガイド２２３が矢印Ｋ方向へ移動する。センタリングガイド２２３が矢印Ｋ方向へ移動すると、保持されている板状部材の規制が解除されて板状部材は自由状態となる。

非接触搬送装置２０は、６個の旋回流形成体２Ｂによって形成される旋回流により板状部材を吸引して保持するため、吸引力を強力なものにすることができる。また、この非接触搬送装置１０では、６個の旋回流形成体２Ｂによって形成される旋回流により板状部材を吸引して保持するため、大きな径を有する板状部材であってもその全体を吸引することができる。

［変形例］
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、他の様々な形態で実施可能である。例えば、上述の実施形態を以下のように変形して本発明を実施してもよい。

上述した実施形態においては、流体通路５、５Ａおよび５Ｂの形状は、図２１に示したようにベルマウス５Ａを備えた形状であってもよい。

上述した第１実施形態および第２実施形態においても、流体通路５や流体通路５Ａ、５Ｂを第３実施形態と同様の構成とし、基底部１３側から空気を供給するようにして流体配管を用いないようにしてもよい。

上述した実施形態においては、図２２に示したように、旋回流形成体に噴出口４、４Ｂ、流体導入口６、６Ｂ、流体通路５、５Ｂを設け、噴出口４Ａと、流体導入口６Ａと、流体通路５Ａとを旋回流形成体２に設けないようにしてもよい。
また、上述した実施形態においては、図２３に示したように、旋回流形成体に噴出口４、４Ａ、流体導入口６、６Ａ、流体通路５、５Ａを設け、噴出口４Ｂと、流体導入口６Ｂと、流体通路５Ｂとを旋回流形成体２に設けないようにしてもよい。
また、上述した実施形態においては、図２４に示したように、旋回流形成体に噴出口４Ｂ、流体導入口６Ｂ、流体通路５Ｂを設け、噴出口４、４Ａと、流体導入口６、６Ａと、流体通路５、５Ａとを旋回流形成体２に設けないようにしてもよい。
また、上述した実施形態においては、図２５に示したように、旋回流形成体に噴出口４Ａ、流体導入口６Ａ、流体通路５Ａを設け、噴出口４、４Ｂと、流体導入口６、６Ｂと、流体通路５、５Ｂとを旋回流形成体２に設けないようにしてもよい。
また、上述した実施形態においては、図２６に示したように旋回流形成体に噴出口４Ａ、４Ｂ、流体導入口６Ａ、６Ｂ、流体通路５Ａ、５Ｂを設け、噴出口４と、流体導入口６と、流体通路５とを旋回流形成体２に設けないようにしてもよい。
また、上述した実施形態においては、噴出口４Ａと、流体導入口６Ａと、流体通路５Ａとおよび噴出口４Ｂと、流体導入口６Ｂと、流体通路５Ｂとを設ける位置を図２７に示した位置としてもよい。
また、上述した実施形態においては、図２８に示したように噴出口の数を４以上にしてもよい。
また、上述した実施形態においては、図２９に示したように流体導入口４Ｃを設け、この流体導入口６Ｃから噴出口４Ａと４Ｂとに分岐する流体通路５Ｃを旋回流形成体２の内部に設けるようにしてもよい。また、この態様においては図３０に示したように噴出口４と、流体導入口６と、流体通路５とを設けないようにしてもよい。
図２２から図３１に示した構成においても、各図中の矢印の方向に空気が流れ凹部において旋回流が形成される。

上述した実施形態においては、凹部３Ａの中心点と凹部３Ｂの中心点との間の距離は、図面に示した距離以外に任意に変更してもよい。
また、上述した実施形態においては、旋回流形成体の凹部３は、端面２ｂ側から基底部１３側へ貫通していてもよい。

上述した実施形態においては、旋回流形成体２を旋回流形成体２の半径方向に切断した時の凹部３Ａと凹部３Ｂの断面形状は、円状ではなく、楕円状や多角形の形状であってもよい。

上述した実施形態においては、旋回流形成体２には、円筒状の凹部３Ａと凹部３Ｂとの２つが設けられているが、円筒状の凹部は２つに限らず、図３１に示したように３つ設けるようにしてもよい。また、円筒状の凹部の数は４つ以上であってもよい。

上述した旋回流形成体２Ａにおいては、流体導入口４、４Ａ、４Ｂに供給する空気量を制御することにより、保持する板状部材を回転させるようにしてもよい。

図３２は、本発明の変形例に係る旋回流形成体２Ｃの上面図であり、図３３は、図３２のＬ−Ｌ線断面図である。旋回流形成体においては、図３２、３３に示したように、凹部３の内部にさらに円筒状の周壁３３を設けるようにしてもよい。凹部３Ａと凹部３Ｂの内部に周壁３３を設けることにより、凹部３Ａと周壁３３との間を流れる空気と、凹部３Ｂと周壁３３との間を流れる空気は整流される。

上述した実施形態においては、噴出口の位置は、図に示した位置に限定されず、凹部の底部部分や凹部の中段部分等、凹部の深さ方向に変更してもよい。

図３４は、本発明の変形例に係る旋回流形成体２Ｄであり、図３５は、図３４のＣ−Ｃ線断面図である。上述した実施形態においては、旋回流形成体は円柱状になっているが、図３４および図３５に示したように、旋回流形成体の側面は凹部３Ａと凹部３Ｂの形状に沿うようにしてもよい。
また、上述した実施形態および変形例においては、流体通路５は図３５に示したように凹部３の近傍で分岐するようにして凹部３Ａと凹部３Ｂとに空気を吐出するようにしてもよい。

本発明の第１実施形態に係る非接触搬送装置１の斜視図である。同実施形態に係る非接触搬送装置１の下面図である。図２のＡ−Ａ線断面図である。同実施形態に係る旋回流形成体２の斜視図である。図２のＢ−Ｂ線断面図である。図４のＣ−Ｃ線断面図である。本発明の第２実施形態に係る非接触搬送装置の斜視図である。同実施形態に係る非接触搬送装置１の下面図である。図８のＦ−Ｆ線断面図である。同実施形態に係る旋回流形成体２Ａの斜視図である。図８のＧ−Ｇ線断面図である。図８のＨ−Ｈ線断面図である。図１０のＩ−Ｉ線断面図である。本発明の第３実施形態に係る非接触搬送装置１０の斜視図である。同実施形態に係る非接触搬送装置の上面図、側面図および下面図である。同実施形態に係る非接触搬送装置１０が備えるセンタリング機構を説明するための図である。同実施形態に係る旋回流形成体２Ｂの斜視図と断面図である。本発明の第４実施形態に係る非接触搬送装置２０の斜視図である。同実施形態に係る非接触搬送装置の上面図および側面図である。同実施形態に係るセンタリング機構を説明するための図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の上面図である。同変形例に係る旋回流形成体の断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の斜視図である。図３４のＣ−Ｃ線断面図である。本発明の変形例に係る旋回流形成体の断面図である。

符号の説明

１，１０，２０・・・非接触搬送装置、２，２Ａ，２Ｂ，２Ｃ・・・旋回流形成体、３，３Ａ，３Ｂ・・・凹部、４，４Ａ，４Ｂ・・・噴出口、５，５Ａ，５Ｂ・・・流体通路、６，６Ａ，６Ｂ・・・流体導入口、７，７Ａ，７Ｂ・・・流体配管、８・・・流体供給装置、１２・・・支持体、１３・・・基底部、１４・・・周壁、１３１・・・基底部内通路、１３２・・・排出通路、１４０・・・端面、１４１・・・ラビリンスフィン、１４２・・・ガイド部材

Claims

柱状で上面が平坦な旋回流形成体であって、
前記柱状の旋回流形成体の上面から下面側に向かって設けられ、前記上面に沿った断面の形状が円または多角形である複数の凹部と、
前記凹部の周壁に設けられた噴出口と、
前記旋回流形成体の外面に設けられた流体導入口と、
前記流体導入口と前記噴出口とを連結する流体通路と
を有し、
前記複数の凹部は隣接する他の凹部と連結しており、
前記噴出口は、前記流体導入口から前記流体通路に供給され前記噴出口から前記凹部へ吐出される流体が、該流体が吐出される凹部の壁面に沿って旋回するように前記凹部の周壁に設けられていること
を特徴とする旋回流形成体。
前記噴出口が前記凹部に複数設けられていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流形成体。
前記凹部の底面から前記凹部の開口部に向かって設けられた筒状の部材であって、前記旋回流形成体の上面に沿った断面の形状が円または多角形であり、該筒状の部材の外周の長さが、前記凹部の上面に沿った断面の周の長さより短いこと
を特徴とする請求項１に記載の旋回流形成体。
前記凹部の開口縁が面取りまたはＲ加工されていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流形成体。
請求項１乃至４のいずれかに記載の旋回流形成体と、
該旋回流形成体が有する流体導入口に接続され該流体導入口へ流体を供給する流体供給装置と
を有する非接触搬送装置。
請求項１乃至４のいずれかに記載の旋回流形成体を複数有することを特徴とする請求項５に記載の非接触搬送装置。