JP2007315894A - 電界測定装置 - Google Patents

電界測定装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007315894A
JP2007315894A JP2006145244A JP2006145244A JP2007315894A JP 2007315894 A JP2007315894 A JP 2007315894A JP 2006145244 A JP2006145244 A JP 2006145244A JP 2006145244 A JP2006145244 A JP 2006145244A JP 2007315894 A JP2007315894 A JP 2007315894A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electro
optic crystal
electric field
polarized light
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006145244A
Other languages
English (en)
Inventor
Shin Nakamatsu
慎 中松
Teruo Onishi
輝夫 大西
Shinji Kamibayashi
真司 上林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTT Docomo Inc
Original Assignee
NTT Docomo Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NTT Docomo Inc filed Critical NTT Docomo Inc
Priority to JP2006145244A priority Critical patent/JP2007315894A/ja
Publication of JP2007315894A publication Critical patent/JP2007315894A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる電界測定装置を提供する。
【解決手段】電界測定装置は、与えられた電界の強度に応じて屈折率が変化する単一の電気光学結晶10と、互いに直交する三方向に沿って電気光学結晶10に偏光を照射することが可能な照射装置と、電気光学結晶10を三方向に通過した偏光の各々の状態を測定することが可能な偏光測定装置とを備える。好ましくは、電気光学結晶10は立方晶構造を有し、照射装置は立方晶構造の三つの結晶軸の各々に沿って電気光学結晶10に偏光を照射する。
【選択図】図1

Description

本発明は、電気光学結晶を有する電界測定装置に関する。
例えば携帯電話機のような電磁波を放射する装置の近傍での電界測定において、電気光学(EO)変換素子を用いることが提案されている(特許文献1)。電気光学(EO)変換素子として、電気光学結晶を用いたものが知られている(非特許文献1)。電気光学結晶は、与えられた電界の強度に応じて屈折率が変化するために、偏光が電気光学結晶に入射した場合に電気光学結晶から出射する偏光の状態が、与えられた電界の強度に応じて変化する性質を有する。この性質を利用して電気光学結晶を透過した偏光の状態を評価することによって、電界の強度を測定することができる。電気光学結晶は、金属素子を有しないために、測定される電界に与える撹乱が極めて小さい。
従来、単一の電気光学結晶に直線偏光を単一方向から入射させ、その方向での電界測定を行っていた。しかし、同一位置での複数方向における電界の強度を測定したい場合もある。このような場合には、電気光学結晶の向きを変えて、同一の電気光学結晶で複数方向の電界強度を測定するか、複数の電気光学結晶で複数方向の電界強度を測定する。例えば、特許文献2には、一つの支持部材の周囲に、各々が異なる方向の電界を測定する三つの光電界センサが取り付けられた三軸光電界センサが開示されており、特許文献3には、三つの電気光学結晶で三方向のそれぞれにおける電界を測定する技術が開示されている。
特開2006−47297号公報 特開2004−245731号公報 特開2001−343410号公報 T. Onishi, H. Togo, N. Shimizu, K. Kiminami, S. Uebayashi1, T. Nagatsuma, "SAR measurement employing electro-optic (EO) probe without using metal",Bioelectromagnetics 2005 Abstract collection, (Ireland), Bioelectromagnetics 2005 Technical Program Committee, June 2005, p.469−470
しかし、同一の電気光学結晶の向きを変えて、複数回電界強度を測定する場合には、測定位置の再現性に問題がある。つまり、向きを変えて再び固定した後の電気光学結晶の位置を以前の位置と高い精度で一致させるのは困難である。
また、複数の電気光学結晶を使用する場合には、これらの電気光学結晶の位置は必然的に異なるので、完全な同一位置での電界測定ができない。
そこで、本発明は、同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる電界測定装置を提供する。
本発明に係る電界測定装置は、与えられた電界の強度に応じて屈折率が変化する単一の電気光学結晶と、互いに直交する三方向に沿って前記電気光学結晶に偏光を照射することが可能な照射装置と、前記電気光学結晶を前記三方向に通過した偏光の各々の状態を測定することが可能な偏光測定装置とを備える。
本発明によれば、照射装置が単一の電気光学結晶に互いに直交する三方向に沿って偏光を照射することが可能であり、偏光測定装置が電気光学結晶を三方向に通過した偏光の各々の状態を測定することが可能であるので、同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる。
前記電気光学結晶は立方晶構造を有し、前記照射装置は、前記立方晶構造の三つの結晶軸の各々に沿って前記電気光学結晶に偏光を照射することが可能であると好ましい。このように立方晶構造の結晶軸の各々に沿って、つまり立方晶構造の結晶面の各々に垂直に偏光を照射することにより、与えられる電界と屈折率の変化の関係が前記三方向でほとんどまたは完全に等しくなる。つまり、電気光学結晶は、光学的にほとんどまたは完全に等方な電気光学的性質を有し、このような電気光学結晶では、三方向のどの方向に通過した偏光であっても、その方向の電界強度とほぼ等しい関係で屈折率が変化する。従って、三方向の各々での偏光の状態の測定結果から、電界の強度を簡単に正確に推定することができる。立方晶構造を使用していても、電気光学的性質が三方向で完全には一致しない場合には、電界強度を推定するために、偏光の状態の測定結果を補正する必要がありうるが、その補正は簡素であっても正確な電界強度の推定が可能であると考えられる。
前記照射装置は、前記電気光学結晶に各々が異なる方向に沿って偏光を照射することが可能な三つの照射光学系を備え、前記照射光学系の各々は偏光を伝搬する光伝搬素子を有し、少なくとも一つの前記照射光学系は、自身の光伝搬素子から出射した偏光を反射することにより前記偏光の進行方向を変更して前記電気光学結晶に前記偏光を照射する反射部材を有すると好ましい。
本明細書で「光伝搬素子」とは、光ファイバまたはその他の適切な光導波路を意味する。電気光学結晶を配置して電界を測定する位置によっては、電気光学結晶の周囲の特定の方向に光伝搬素子の長手方向が一致するように光伝搬素子を配置することが困難な場合がありうる。しかし、このような場合でも、少なくとも一つの照射光学系に反射部材を使用することによって、電気光学結晶に偏光を入射させることが容易である。
前記偏光測定装置は、各々が異なる方向に沿って前記電気光学結晶を透過した光の偏光面の回転角度を測定する三つの出力光学系を備え、前記出力光学系の各々は光を伝搬する第2の光伝搬素子を有し、少なくとも一つの前記出力光学系は、前記電気光学結晶を透過した光を反射することにより前記光の進行方向を変更して、自身の第2の光伝搬素子に前記光を導く第2の反射部材を有すると好ましい。
電気光学結晶を配置して電界を測定する位置によっては、電気光学結晶の周囲の特定の方向に第2の光伝搬素子の長手方向が一致するように第2の光伝搬素子を配置することが困難な場合がありうる。しかし、このような場合でも、少なくとも一つの出力光学系に第2の反射部材を使用することによって、電気光学結晶を透過した光を第2の光伝搬素子に導くことが容易である。
前記電気光学結晶の少なくとも一つの面に接合され、前記照射装置から照射されて前記電気光学結晶の内部を進行する偏光を反射することによって、前記偏光測定装置にこの偏光を導く反射層をさらに備えると好ましい。
電気光学結晶を配置して電界を測定する位置によっては、照射装置の電気光学結晶に光を照射する部分の反対側に、電気光学結晶を透過した偏光を偏光測定装置に導く部分を配置することが困難な場合がありうる。しかし、このような場合でも、電気光学結晶の少なくとも一つの面に反射層を設けることによって、電気光学結晶を透過した偏光を偏光測定装置に導くことが容易である。また、反射層で反射された偏光は電気光学結晶の内部を再び透過する。従って、電気光学結晶から出射した偏光は、二回電気光学結晶を通過しているので、電気光学結晶を一回通過した場合よりも電界の影響を大きく受ける。このため、偏光測定装置の感度を向上させることが可能である。
以下、図面を参照しながら本発明に係る様々な実施の形態を説明する。
<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る電界測定装置の概略図であり、図2は図1の電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。この電界測定装置は、与えられた電界の強度に応じて屈折率が変化する単一の電気光学結晶10と、互いに直交する三方向(図のx,y,z方向)に沿って電気光学結晶10に偏光を照射することが可能な照射装置とを備える。照射装置は、各々が異なる方向に沿って偏光を照射することが可能な三つの照射光学系12(第1の照射光学系12x、第2の照射光学系12y、第3の照射光学系12z)を備える。図中の符号の添え字x,y,zは、図のx,y,z方向に対応し、以下の説明では、適宜省略する。
照射光学系12の各々は、光源14、偏光フィルタ16、および偏光を伝搬する光伝搬素子としての光ファイバ18を有する。偏光フィルタ16は、同じ照射光学系12の光源14から発せられた光のうち直線偏光のみを透過する。偏光フィルタ16を透過した直線偏光は、同じ照射光学系12の光ファイバ18内を進行し、電気光学結晶10に到達する。偏光フィルタ16の代わりに、あるいは偏光フィルタ16に加えて、通常光を一定方向の直線偏光に変換する偏光変換素子を使用し、偏光変換素子から出力された直線偏光を光ファイバ18に導いてもよい。
図示の実施の形態では、偏光を伝搬する光伝搬素子として、光ファイバ18が使用されているが、光ファイバの代わりに偏光を伝搬可能な他の光導波路を使用してもよい。光伝搬素子としては、シングルモードの光導波路でもよいが、偏光保持型の光導波路がより好ましい。また、光ファイバ18としては、出射した光束が広がることを抑えるために、屈折率分布型レンズ(グレーデッドインデックスレンズ)を使用してもよい。屈折率分布型レンズの一例は、日本板硝子株式会社から「セルフォック」(登録商標)という商品名で入手することが可能である。
各照射光学系12の光伝搬素子(実施の形態では光ファイバ18)の端面には、電気光学結晶10が接合されている。この接合には、例えば透明接着剤を使用することができる。
電気光学結晶10は、立方晶構造を有する単結晶である。例えばカドミウムテルル化合物(CdTe)の単結晶を電気光学結晶10として使用することができる。図2に示されるように、光ファイバ18x,18y,18zは、電気光学結晶10の互いに直交する三つの結晶面に垂直にそれぞれ接合されている。従って、照射光学系12x,12y,12zは、光ファイバ18x,18y,18zにより、立方晶構造の三つの結晶軸の各々に沿って電気光学結晶10に偏光を照射することが可能である。図2において、x,y,z方向を進行する偏光をそれぞれ符号Lx,Ly、Lzで示す。このように立方晶構造の結晶軸の各々に沿って、つまり立方晶構造の結晶面の各々に垂直に偏光を照射することにより、与えられる電界と屈折率の変化の関係が三方向でほとんどまたは完全に等しくなる。つまり、電気光学結晶10は、光学的にほとんどまたは完全に等方な電気光学的性質を有し、このような電気光学結晶10では、三方向のどの方向に通過した偏光であっても、その方向の電界強度とほぼ等しい関係で屈折率が変化する。
この電界測定装置は、電気光学結晶10をx,y,z方向に通過した偏光の各々の状態を測定することが可能な偏光測定装置を備える。具体的には、偏光測定装置は、図1に示されるように、三つの出力光学系20(第1の出力光学系20x、第2の出力光学系20y、第3の出力光学系20z)を有する。出力光学系20の各々は、偏光計22と、電気光学結晶10と偏光計22を接続する三つの光ファイバ24を有する。光ファイバ24の各々の端面は、電気光学結晶10の互いに直交する三つの結晶面(光ファイバ18の反対側の面)に垂直にそれぞれ接合されている。この接合には、例えば透明接着剤を使用することができる。
光ファイバ24の各々は、電気光学結晶10から出射した偏光を同じ出力光学系の偏光計22に伝搬する第2の光伝搬素子である。但し、光ファイバの代わりに光を伝搬可能な他の光導波路を使用してもよい。電気光学結晶10を透過した光をその偏光面を調節せずに偏光計22に導くため、第2の光伝搬素子としては、シングルモードの光導波路が好ましい。
第1の照射光学系12xの光ファイバ18xを通過してx方向に進行する偏光Lxは電気光学結晶10を透過して、第1の出力光学系20xの光ファイバ24xにより偏光計22xに導かれる。第2の照射光学系12yの光ファイバ18yを通過してy方向に進行する偏光Lyは電気光学結晶10を透過して、第2の出力光学系20yの光ファイバ24yにより偏光計22yに導かれる。第3の照射光学系12zの光ファイバ18zを通過してz方向に進行する偏光Lzは電気光学結晶10を透過して、第3の出力光学系20zの光ファイバ24zにより偏光計22zに導かれる。
偏光計22の各々は、接続された光ファイバ24を通過した偏光の偏光面の回転角度を測定する。偏光面の回転角度は、電気光学結晶10に与えられた電界強度に応じて異なる。例えば、光ファイバ24xを通過してx方向に進行し偏光計22xで測定された偏光Lxの偏光面は、電気光学結晶10に与えられたx方向の電界の強度に関連する。つまり、偏光計22の各々の測定結果から、その偏光計に対応する方向における電気光学結晶10の位置での電界の強度を評価することが可能である。各偏光計22の測定結果は、図示しない表示装置で表示してもよい。また、各偏光計22の測定結果に、図示しない処理装置で算術処理を施すことによって、電界強度を算出してもよい。
この実施の形態に係る電界測定装置では、上記の通り、立方晶構造の単結晶である電気光学結晶10を利用するので、電気光学結晶10を三方向のどの方向に通過した偏光であっても、その方向の電界強度とほぼ等しい関係で屈折率が変化する。従って、三方向の各々での偏光の状態の測定結果から、電界の強度を簡単に正確に推定することができる。立方晶構造を使用していても、電気光学的性質が三方向で完全には一致しない場合には、電界強度を推定するために、偏光の状態の測定結果を補正する必要がありうるが、その補正は簡素であっても正確な電界強度の推定が可能であると考えられる。
この実施の形態に係る電界測定装置では、照射装置が単一の電気光学結晶10に互いに直交する三方向に沿って偏光を照射することが可能であり、偏光測定装置が電気光学結晶10を三方向に通過した偏光の各々の状態を測定することが可能である。従って、同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる。
図3は、比較例の電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。この比較例は、三方向の電界強度を測定するために、三つの電気光学結晶30x,30y,30zを有する。光ファイバ18xを通過してx方向に進行する偏光Lxが、電気光学結晶30xを透過し光ファイバ24xに入射する。光ファイバ18yを通過してy方向に進行する偏光Lyが、電気光学結晶30yを透過し光ファイバ24yに入射する。光ファイバ18zを通過してz方向に進行する偏光Lzが、電気光学結晶30zを透過し光ファイバ24zに入射する。
この比較例のように、三つの電気光学結晶30x,30y,30zを使用する場合には、これらの電気光学結晶の位置は必然的に異なり、光ファイバ18x,18y,18zも交叉しないように配置しなければならないので、完全な同一位置での電界測定ができない。これに対して、この実施の形態では、上記の通り、同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる。つまり、電界のベクトルを正確かつ容易に測定することができる。この実施の形態の電界測定装置は、携帯電話機のような電磁波を放射する装置の近傍での電界だけでなく、遠方に電磁波源がある場合でも電界のベクトルを正確かつ容易に測定することができる。
この実施の形態では、三方向の電界強度測定を同時に行ってもよいし、別の時に行ってもよい。いずれの場合にも電界強度測定を行う前に、三方向の各々について、電界強度と、電気光学結晶10を透過した偏光の偏光面の回転角度の関係をあらかじめ求めておく。具体的には、あらかじめ定められた強度(基準強度)の電界をx,y,z方向のいずれかに沿って電気光学結晶10に与え、その条件での偏光の偏光面の回転角度を測定し、別の基準強度の電界を同じ方向に沿って電気光学結晶10に与え、その条件での偏光の偏光面の回転角度を測定することを繰り返す。これにより、一つの方向での電界強度と、電気光学結晶10を透過した偏光の偏光面の回転角度の関係を得る。同様にして、他の二つの方向についても、電界強度と偏光面の回転角度の関係を得る。
電界強度測定では、このようにして三方向についてあらかじめ求められた電界強度と偏光面の回転角度の関係に、各偏光計22の測定結果(偏光面の回転角度)を当てはめることによって、三方向の各々での電界強度を推定する。従って、電気光学的性質が三方向で完全には一致しない場合であっても、正確に電界強度を推定することができる。
<第2の実施の形態>
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。この電界測定装置の概略は図1と同じである。図4において、第1の実施の形態と共通する構成要素を示すために、同一の符号が使用され、それらの詳細な説明は省略する。第1の実施の形態に関連して説明した変更または修正は第2の実施の形態についても同様に施すことが可能である。
この実施の形態では、第1の照射光学系12xに直角プリズム(反射部材)40xが設けられ、第2の照射光学系12yに直角プリズム(反射部材)40yが設けられている。さらに、第1の出力光学系20xに直角プリズム(第2の反射部材)42xが設けられ、第2の出力光学系20yに直角プリズム(第2の反射部材)42yが設けられている。図4に示された範囲において、各照射光学系12の光ファイバ18および各出力光学系20の光ファイバ24は、z方向に延びている。
第1の照射光学系12xにおいて、直角プリズム40xは光ファイバ18xの端面に例えば透明接着剤で接合されている。直角プリズム40xは、光ファイバ18xから出射した偏光Lxを反射することにより偏光Lxの進行方向をx方向に変更して電気光学結晶10に偏光Lxを照射する。第1の出力光学系20xにおいて、直角プリズム42xは光ファイバ24xの端面に例えば透明接着剤で接合されている。直角プリズム42xは、電気光学結晶10を透過しx方向に進む偏光Lxを反射することにより偏光Lxの進行方向をz方向に変更して、第1の出力光学系20xの光ファイバ24xに偏光Lxを導く。
第2の照射光学系12yにおいて、直角プリズム40yは光ファイバ18yの端面に例えば透明接着剤で接合されている。直角プリズム40yは、光ファイバ18yから出射した偏光Lyを反射することにより偏光Lyの進行方向をy方向に変更して電気光学結晶10に偏光Lyを照射する。第2の出力光学系20yにおいて、直角プリズム42yは光ファイバ24yの端面に例えば透明接着剤で接合されている。直角プリズム42yは、電気光学結晶10を透過しy方向に進む偏光Lyを反射することにより偏光Lyの進行方向をz方向に変更して、第2の出力光学系20yの光ファイバ24yに偏光Lyを導く。つまり、いずれの直角プリズムにおいても、その直角を挟む面の一方に光が入射し、傾斜面で反射し、直角を挟む面の他方から光が出射することにより、光の進行方向を90°曲げる。
第3の照射光学系12zおよび第3の出力光学系20zには、プリズムは設けられず、第1の実施の形態と同様に偏光Lzが進行する。
この実施の形態でも、第1の実施の形態と同様に、三方向の電界強度測定を同時に行ってもよいし、別の時に行ってもよい。電界強度測定では、三方向についてあらかじめ求められた電界強度と偏光面の回転角度の関係に、各偏光計22の測定結果(偏光面の回転角度)を当てはめることによって、三方向の各々での電界強度を推定する。
電気光学結晶10を配置して電界を測定する位置によっては、電気光学結晶10の周囲の特定の方向(例えばx方向およびy方向)に光伝搬素子すなわち光ファイバ18,24(例えば光ファイバ18x,18y,24x,24y)の長手方向が一致するように光伝搬素子を配置することが困難な場合がありうる。しかし、このような場合でも、照射光学系12x,12yに反射部材としてのプリズムを使用することによって、電気光学結晶10に偏光を入射させることが容易である。また、出力光学系20x,20yに第2の反射部材としてのプリズムを使用することによって、電気光学結晶10を透過した偏光を光ファイバ24x,24yに導くことが容易である。
この実施の形態では、偏光の進行方向を変更する反射部材および第2の反射部材として、直角プリズムが使用されているが、反射部材または第2の反射部材は直角プリズムに限定されない。例えば、他の種類のプリズムまたはミラーを反射部材または第2の反射部材として、直角プリズム40,42の代わりに使用してもよい。
このような反射部材を設ける光学系は、第1および第2の照射光学系12x,12yならびに第1および第2の出力光学系20x,20yに限られない。第3の照射光学系12zおよび/または第3の出力光学系20zに反射部材を設けてもよい。照射装置において反射部材を設ける照射光学系の数は、図示の実施の形態のように二つに限られず、一つでもよいし、三つすべてであってもよい。また、偏光測定装置において第2の反射部材を設ける出力光学系の数も、図示の実施の形態のように二つに限られず、一つでもよいし、三つすべてであってもよい。さらには、どの照射光学系にも反射部材を設けないことも可能であるし、どの出力光学系にも第2の反射部材を設けないことも可能である。
<第3の実施の形態>
図5は、本発明の第3の実施の形態に係る電界測定装置の概略図であり、図6は図5の電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。図5および図6において、第1の実施の形態と共通する構成要素を示すために、同一の符号が使用され、それらの詳細な説明は省略する。
この実施の形態では、照射光学系12および出力光学系20で光伝搬素子を共有する。照射装置の照射光学系12の各々は、光源14、偏光フィルタ16、偏光を伝搬する光伝搬素子としての光ファイバ54、光分岐器としての光サーキュレータ56、および偏光を伝搬する光伝搬素子としての光ファイバ58を有する。偏光フィルタ16および/または偏光変換素子からの直線偏光は、同じ照射光学系12の光ファイバ54および光サーキュレータ56を経て、光ファイバ58内を進行し、電気光学結晶10に到達する。
図6に示されるように、光ファイバ58x,58y,58zは、電気光学結晶10の互いに直交する三つの結晶面に垂直にそれぞれ接合されている。この接合には、例えば透明接着剤を使用することができる。
図6に示されるように、電気光学結晶10の互いに直交する三つの結晶面(光ファイバ58の反対側の面)には、反射層60が接合されている。反射層60は、例えば誘電体反射膜、金属反射膜またはこれらの組合せであってよく、例えばコーティングにより電気光学結晶10に形成することができる。反射層60の各々は、光ファイバ58から照射されて電気光学結晶10の内部を進行した偏光を反射することによって同じ光ファイバ58にその変更を導くことが可能である。
偏光測定装置の出力光学系20の各々は、光を伝搬する第2の光伝搬素子としての光ファイバ58、光サーキュレータ56、光ファイバ62および偏光計22を有する。第1の照射光学系12xの光ファイバ54xおよび光サーキュレータ56xを経て光ファイバ58xに導かれてx方向に進行する偏光Lxは電気光学結晶10を透過して、反射層60xで反射し、反射した偏光Lx2は逆方向に電気光学結晶10を透過して同じ光ファイバ58xを進行し、光サーキュレータ56xにより光ファイバ62xに導かれて、第1の出力光学系20xの偏光計22xに導かれる。第2の照射光学系12yの光ファイバ54yおよび光サーキュレータ56yを経て光ファイバ58yに導かれてy方向に進行する偏光Lyは電気光学結晶10を透過して、反射層60yで反射し、反射した偏光Ly2は逆方向に電気光学結晶10を透過して同じ光ファイバ58yを進行し、光サーキュレータ56yにより光ファイバ62yに導かれて、第2の出力光学系20yの偏光計22yに導かれる。第3の照射光学系12zの光ファイバ54zおよび光サーキュレータ56zを経て光ファイバ58zに導かれてz方向に進行する偏光Lzは電気光学結晶10を透過して、反射層60zで反射し、反射した偏光Lz2は逆方向に電気光学結晶10を透過して同じ光ファイバ58zを進行し、光サーキュレータ56zにより光ファイバ62zに導かれて、第3の出力光学系20zの偏光計22zに導かれる。
光ファイバ54,58,62の代わりに偏光を伝搬可能な他の光導波路を使用してもよい。光ファイバ54としては、シングルモードの光導波路でもよいが、偏光保持型の光導波路がより好ましい。光ファイバ58,62としては、電気光学結晶10を透過した光をその偏光面を調節せずに偏光計22に導くため、シングルモードの光導波路が好ましい。また、光ファイバ58としては、電気光学結晶10に向けて出射した光束が広がることを抑えるために、屈折率分布型レンズ(グレーデッドインデックスレンズ)を使用してもよい。
電気光学結晶10を配置して電界を測定する位置によっては、照射装置の電気光学結晶10に光を照射する部分の反対側に、電気光学結晶10を透過した偏光を偏光測定装置に導く部分を配置することが困難な場合がありうる。しかし、このような場合でも、電気光学結晶10の表面に反射層60を設けることによって、電気光学結晶10を透過した偏光を偏光測定装置の出力光学系20に導くことが容易である。
また、反射層60で反射された偏光は電気光学結晶10の内部を再び透過する。従って、電気光学結晶10から出射した偏光は、二回電気光学結晶10を通過しているので、電気光学結晶10を一回通過した場合よりも電界の影響を大きく受ける。このため、偏光計22の感度を向上させることが可能である。
この実施の形態によっても、第1の実施の形態と同様に、同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる。この実施の形態でも、第1の実施の形態と同様に、三方向の電界強度測定を同時に行ってもよいし、別の時に行ってもよい。電界強度測定では、三方向についてあらかじめ求められた電界強度と偏光面の回転角度の関係に、各偏光計22の測定結果(偏光面の回転角度)を当てはめることによって、三方向の各々での電界強度を推定する。
この実施の形態では、電気光学結晶10の三面に反射層60が設けられている。但し、電気光学結晶10の一面または二面にのみ反射層60を設け、反射層60を設けない面から出射する偏光は、第1の実施の形態と同じ手法で偏光計に導いてもよい。
この実施の形態では、各光ファイバ58は単芯タイプであって、電気光学結晶10に入射する偏光および電気光学結晶10から出射する偏光は同じ芯を通過する。しかし、各光ファイバ58は二芯タイプであって、電気光学結晶10に入射する偏光および電気光学結晶10から出射する偏光は異なる芯を通過するようにしてもよい。二芯タイプでは、電気光学結晶10に入射する偏光を伝搬する芯は偏光保持型、電気光学結晶10から出射する偏光を伝搬する芯はシングルモード型にし、光サーキュレータ56の代わりに光分岐器としての光カプラで、光ファイバ58の芯を光ファイバ54および光ファイバ62にそれぞれ接続してもよい。
<第4の実施の形態>
図7は、本発明の第4の実施の形態に係る電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。この電界測定装置の概略は図5と同じである。図7において、第2または第3の実施の形態と共通する構成要素を示すために、同一の符号が使用され、それらの詳細な説明は省略する。
この実施の形態は、第2の実施の形態と第3の実施の形態の組合せである。具体的には、この実施の形態では、第1の照射光学系12xおよび第2の出力光学系20xに共通する一つの直角プリズム(反射部材、第2の反射部材)70xが設けられ、第2の照射光学系12yおよび出力光学系20yに共通する一つの直角プリズム(反射部材、第2の反射部材)70yが設けられている。図7に示された範囲において、光ファイバ58のいずれもがz方向に延びている。さらに、第3の実施の形態と同様に、電気光学結晶10の互いに直交する三つの結晶面には、反射層60が接合されている。
直角プリズム70xは光ファイバ58xの端面に例えば透明接着剤で接合されている。第1の照射光学系12xにおいて、直角プリズム70xは、光ファイバ58xから出射した偏光Lxを反射することにより偏光Lxの進行方向をx方向に変更して電気光学結晶10に偏光Lxを照射する。x方向に進行する偏光Lxは電気光学結晶10を透過して、反射層60xで反射し、反射した偏光Lx2は逆方向に電気光学結晶10を透過して同じ直角プリズム70xに入射する。第1の出力光学系20xにおいて、直角プリズム70yは、電気光学結晶10を透過しx方向に進む偏光Lxを反射することにより偏光Lxの進行方向をz方向に変更して、光ファイバ58xに偏光Lxを導く。
直角プリズム70yは光ファイバ58yの端面に例えば透明接着剤で接合されている。第2の照射光学系12yにおいて、直角プリズム70yは、光ファイバ58yから出射した偏光Lyを反射することにより偏光Lyの進行方向をy方向に変更して電気光学結晶10に偏光Lyを照射する。y方向に進行する偏光Lyは電気光学結晶10を透過して、反射層60yで反射し、反射した偏光Ly2は逆方向に電気光学結晶10を透過して同じ直角プリズム70yに入射する。第2の出力光学系20yにおいて、直角プリズム70yは、電気光学結晶10を透過しy方向に進む偏光Lyを反射することにより偏光Lyの進行方向をz方向に変更して、光ファイバ58yに偏光Lyを導く。つまり、いずれの直角プリズムにおいても、その直角を挟む面の一方に光が入射し、傾斜面で反射し、直角を挟む面の他方から光が出射することにより、光の進行方向を90°曲げる。
第3の照射光学系12zおよび第3の出力光学系20zには、プリズムは設けられず、第3の実施の形態と同様に偏光Lzおよび反射層60zで反射した偏光Lz2が進行する。
この実施の形態によっても、第1の実施の形態と同様に、同一位置での複数方向における電界の強度を容易に測定することができる。この実施の形態でも、第1の実施の形態と同様に、三方向の電界強度測定を同時に行ってもよいし、別の時に行ってもよい。電界強度測定では、三方向についてあらかじめ求められた電界強度と偏光面の回転角度の関係に、各偏光計22の測定結果(偏光面の回転角度)を当てはめることによって、三方向の各々での電界強度を推定する。
この実施の形態では、照射光学系12x,12yに反射部材としてのプリズムを使用することによって、電気光学結晶10に偏光を入射させることが容易である。また、出力光学系20x,20yに第2の反射部材としてのプリズムを使用することによって、電気光学結晶10を透過した偏光を光ファイバ24x,24yに導くことが容易である。
また、電気光学結晶10の表面に反射層60を設けることによって、電気光学結晶10を透過した偏光を偏光測定装置の出力光学系20に導くことが容易である。また、電気光学結晶10から出射した偏光は、二回電気光学結晶10を通過しているので、電気光学結晶10を一回通過した場合よりも電界の影響を大きく受ける。このため、偏光計22の感度を向上させることが可能である。
第2および第3の実施の形態に関連して説明した変更または修正は第4の実施の形態についても同様に施すことが可能である。例えば、この実施の形態では、偏光の進行方向を変更する反射部材および第2の反射部材として、直角プリズムが使用されているが、反射部材または第2の反射部材は直角プリズムに限定されない。例えば、他の種類のプリズムまたはミラーを反射部材または第2の反射部材として、直角プリズム70の代わりに使用してもよい。図8は、第4の実施の形態のバリエーションに係る電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。図8のバリエーションでは、直角プリズム70の代わりに、反射部材および第2の反射部材としてミラー72が使用されており、第4の実施の形態と同様の効果が達成される。
本発明の第1の実施の形態に係る電界測定装置の概略図である。 図1の電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。 比較例の電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。 本発明の第2の実施の形態に係る電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。 本発明の第3の実施の形態に係る電界測定装置の概略図である。 図5の電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。 本発明の第4の実施の形態に係る電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。 本発明の第4の実施の形態のバリエーションに係る電界測定装置の電気光学結晶およびその付近を示す斜視図である。
符号の説明
10 電気光学結晶、12 照射光学系、18 光ファイバ(光伝搬素子)、20 出力光学系、22 偏光計、24 光ファイバ(第2の光伝搬素子)、40 直角プリズム(反射部材)、42 直角プリズム(第2の反射部材)、54 光ファイバ、56 光サーキュレータ、58 光ファイバ(光伝搬素子、第2の光伝搬素子)、60 反射層、62 光ファイバ、70 直角プリズム(反射部材、第2の反射部材)、72 直角プリズム(反射部材、第2の反射部材)。

Claims (5)

  1. 与えられた電界の強度に応じて屈折率が変化する単一の電気光学結晶と、
    互いに直交する三方向に沿って前記電気光学結晶に偏光を照射することが可能な照射装置と、
    前記電気光学結晶を前記三方向に通過した偏光の各々の状態を測定することが可能な偏光測定装置とを備えることを特徴とする電界測定装置。
  2. 前記電気光学結晶は立方晶構造を有し、
    前記照射装置は、前記立方晶構造の三つの結晶軸の各々に沿って前記電気光学結晶に偏光を照射することが可能であることを特徴とする請求項1に記載の電界測定装置。
  3. 前記照射装置は、
    前記電気光学結晶に各々が異なる方向に沿って偏光を照射することが可能な三つの照射光学系を備え、
    前記照射光学系の各々は偏光を伝搬する光伝搬素子を有し、
    少なくとも一つの前記照射光学系は、自身の光伝搬素子から出射した偏光を反射することにより前記偏光の進行方向を変更して前記電気光学結晶に前記偏光を照射する反射部材を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電界測定装置。
  4. 前記偏光測定装置は、
    各々が異なる方向に沿って前記電気光学結晶を透過した光の偏光面の回転角度を測定する三つの出力光学系を備え、
    前記出力光学系の各々は光を伝搬する第2の光伝搬素子を有し、
    少なくとも一つの前記出力光学系は、前記電気光学結晶を透過した光を反射することにより前記光の進行方向を変更して、自身の第2の光伝搬素子に前記光を導く第2の反射部材を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の電界測定装置。
  5. 前記電気光学結晶の少なくとも一つの面に接合され、前記照射装置から照射されて前記電気光学結晶の内部を進行する偏光を反射することによって、前記偏光測定装置にこの偏光を導く反射層をさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の電界測定装置。
JP2006145244A 2006-05-25 2006-05-25 電界測定装置 Pending JP2007315894A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006145244A JP2007315894A (ja) 2006-05-25 2006-05-25 電界測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006145244A JP2007315894A (ja) 2006-05-25 2006-05-25 電界測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007315894A true JP2007315894A (ja) 2007-12-06

Family

ID=38849883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006145244A Pending JP2007315894A (ja) 2006-05-25 2006-05-25 電界測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007315894A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013125502A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 スタック電子株式会社 微小径3軸電界センサ及びその製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56157872A (en) * 1980-05-10 1981-12-05 Sumitomo Electric Ind Ltd Light-applying voltage and electric field sensor
JPS5899761A (ja) * 1981-12-08 1983-06-14 Sumitomo Electric Ind Ltd 光による電界,磁界測定器
JPS62159059A (ja) * 1986-01-07 1987-07-15 Susumu Sato 液晶電界センサ
JP2001343410A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電界プローブ
JP2004177214A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Communication Research Laboratory 3次元電界分布測定方法および3次元電界分布測定装置
JP2004212137A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Nec Tokin Corp 3軸光電界センサ

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56157872A (en) * 1980-05-10 1981-12-05 Sumitomo Electric Ind Ltd Light-applying voltage and electric field sensor
JPS5899761A (ja) * 1981-12-08 1983-06-14 Sumitomo Electric Ind Ltd 光による電界,磁界測定器
JPS62159059A (ja) * 1986-01-07 1987-07-15 Susumu Sato 液晶電界センサ
JP2001343410A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電界プローブ
JP2004177214A (ja) * 2002-11-26 2004-06-24 Communication Research Laboratory 3次元電界分布測定方法および3次元電界分布測定装置
JP2004212137A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Nec Tokin Corp 3軸光電界センサ

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6013034859; 藤浦 和夫,豊田 誠治,笹浦 正弘,今井 欽之: '"高効率電気光学結晶KTNを用いた光デバイスの開発"' NTT技術ジャーナル Vol.16, No.1, 200401, p.56-59, 日本電信電話株式会社 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013125502A1 (ja) * 2012-02-24 2013-08-29 スタック電子株式会社 微小径3軸電界センサ及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2629319C (en) Single aperture multiple optical waveguide transceiver
US10928303B2 (en) Concentration measuring device
JP2804073B2 (ja) 物質の屈折率を測定する装置及び方法
CN102933944B (zh) 用于偏振测量的系统和方法
JP2013101295A (ja) テラヘルツ波素子、テラヘルツ波検出装置、テラヘルツ時間領域分光システム及びトモグラフィ装置
CN102650595B (zh) 光学成分测定装置
US10175425B2 (en) Integrated polarizing and analyzing optical fiber collimator device and methods of use thereof
FR2661003A2 (fr) Capteur de champ electrique a effet pockels.
JP2007315894A (ja) 電界測定装置
US20120237163A1 (en) Photonic crystal based multi-channel rotary joint for electro-magnetic signals
CN111812776A (zh) 一种三端口光环形器
WO2013040776A1 (zh) 退偏器
Lin et al. Optical measurement in a curved optical medium with optical birefringence and anisotropic absorption
JP3544069B2 (ja) 光計測装置及びその製造方法
JP4565061B2 (ja) 光分岐回路及びセンサ
US9097682B2 (en) Optical probe for measuring physical and chemical characteristics of a medium during flow
JP2009180635A (ja) 光学複合部品及び光計測装置
Zhou et al. Fabrication of Optical Fiber Sensors Based on Femtosecond Laser Micro Machining
JP4455126B2 (ja) 光学センサおよび光学センサの組立方法
US9823417B2 (en) Waveguide polarizing optical device
JPS5919829A (ja) 光学的圧力センサ
JPH0843254A (ja) 光伝送媒体の等価屈折率ならびに屈折率測定装置および測定方法
JP4888780B2 (ja) 光ファイバ結合装置
KR20190117322A (ko) 편광 필름 검사 장치
Batubara et al. Effective index measurement of propagated modes in planar waveguide

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20090212

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111026

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20120110

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20120222

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20121002

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20121112

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130716

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130829

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Effective date: 20130917

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911