JP2007299985A - レーザダイオード - Google Patents
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Abstract
【課題】垂直共振器型のレーザダイオードにおいて、出射前のレーザ光の進行方向をこのレーザダイオード内において変えるようにすると共に、電極の接触抵抗を低減すること。
【解決手段】第1電極2と、第1面M1と第1面M1の反対側にある第2面M2とを有しており第1面M1上に第1電極2が設けられた基板4と、第2面M2上に設けられた第1DBR層6と、第1DBR層6上に設けられた活性層12と、活性層12上に設けられた第2DBR層16と、第2DBR層16上に設けられた第2電極18とを備えた垂直共振器型のレーザダイオード1であって、基板4の第1面M1は、基板4内を進むレーザダイオード1内で生成されたレーザ光を受ける平面状の傾斜面Eを有しており、傾斜面Eは、レーザ光が傾斜面Eにおいて反射された後に基板4の端面に向かって進行するように、レーザ光の進行方向に対し傾いている。
【選択図】図1
【解決手段】第1電極2と、第1面M1と第1面M1の反対側にある第2面M2とを有しており第1面M1上に第1電極2が設けられた基板4と、第2面M2上に設けられた第1DBR層6と、第1DBR層6上に設けられた活性層12と、活性層12上に設けられた第2DBR層16と、第2DBR層16上に設けられた第2電極18とを備えた垂直共振器型のレーザダイオード1であって、基板4の第1面M1は、基板4内を進むレーザダイオード1内で生成されたレーザ光を受ける平面状の傾斜面Eを有しており、傾斜面Eは、レーザ光が傾斜面Eにおいて反射された後に基板4の端面に向かって進行するように、レーザ光の進行方向に対し傾いている。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザダイオードに関する。
従来より、垂直共振器型の面発光レーザダイオード(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)の開発が進められている。面発光レーザダイオードは、面発光レーザダイオードを構成する基板の表面に対して垂直な方向にレーザ光を出射する。このような従来の垂直共振器型のレーザダイオードは、レーザ光の取り出しのため、レーザ光の出射面に開口を有する電極が設けられており、この開口にレーザ光を通過させている。一方、FB(Fabry-Perot)レーザ等の端面発光レーザダイオードが光インターコネクトの光源として広く用いられている。端面発光レーザダイオードは、端面発光レーザダイオードを構成する基板表面に沿った方向にレーザ光を出射する。
このような面発光レーザダイオードを端面発光レーザダイオードに替えて用いる場合には、面発光レーザダイオードから出射されるレーザ光の進行方向を基板表面に沿った方向に変える必要がある。特許文献1及び2には、端面発光レーザダイオードに替えて面発光レーザダイオードを用いる場合に、面発光レーザダイオードから出射されるレーザ光の進行方向を基板表面に沿った方向に変えるための技術が開示されている。特許文献1及び2に記載の光モジュールは、上述の従来型の面発光レーザダイオードと、この面発光レーザダイオードから出射されるレーザ光を反射するミラーとを有する。このミラーは、面発光レーザダイオードから出射されるレーザ光の進行方向を基板表面に沿った方向に変える。
特開2003−215371号公報
特開2003−222765号公報
しかし、上述した従来の面発光レーザダイオードのように電極に開口が設けられている場合、電極と半導体領域(レーザ光の出射面)との接触面積は、電極に開口を設けない場合に比較して小さいので、電極と半導体領域との間の接触抵抗は、電極に開口を設けない場合に比較して大きい。従って、このような従来の面発光レーザダイオードを端面発光レーザダイオードに替えて用いる場合に上述のミラーを光モジュールに設けても、レーザダイオードの電極の接触抵抗は低減されないうえ、光モジュールの構成は複雑になる。
そこで本発明は、上記事情に鑑み、垂直共振器型のレーザダイオードにおいて、出射前のレーザ光の進行方向をこのレーザダイオード内において変えるようにすると共に、電極の接触抵抗を低減することを目的とする。
本発明は、垂直共振器型のレーザダイオードであって、1)第1領域と、該第1領域を挟む第2領域及び第3領域とを有する基板と、2)基板上に設けられた第1DBR層と、3)第1DBR層上に設けられた活性層と、4)活性層上に設けられた第2DBR層と、5)アノード及びカソードの一方である第1電極と、6)第2DBR層上に設けられておりアノード及びカソードの他方である第2電極とを備え、基板は、第1電極と第1DBR層との間に設けられており、基板の第1領域、第1DBR層、活性層及び第2DBR層は、所定の軸に沿って順次配置されており、第1電極は、第1領域上に設けられており、第1領域は、所定の軸に対して傾いており該軸上に設けられた傾斜面を有する主面を含む、ことを特徴とする。
本発明によれば、垂直共振器型のレーザダイオード内で生成されたレーザ光は、軸に沿って傾斜面に向かって進み、傾斜面において反射される。このため、レーザ光は軸とは異なる方向に出射される。従って、レーザ光を反射するために外部にミラーを設けることなく、出射前のレーザ光の進行方向をレーザダイオード内において変えることが可能となる。また、レーザ光は軸とは異なる方向に出射されるため、軸上に設けられる第1電極に、レーザ光を通過させるための開口を設ける必要がない。このため、第1電極と第1領域との接触面積をより広くすることができるので、第1電極の接触抵抗が低減される。
更に、本発明では、第2領域は、該第2領域の表面の縁から傾斜面に向かう方向に延びる溝を有するのが好ましい。このため、溝に装着された光ファイバは傾斜面と光学的に接続される。
また、本発明では、第1電極は、第3領域上にも設けられているのが好ましい。第3領域上にも第1電極が設けられるため、第1電極の接触抵抗がより低減される。
本発明によれば、垂直共振器型のレーザダイオードにおいて、出射前のレーザ光の進行方向をこのレーザダイオード内において変わると共に、電極の接触抵抗が低減される。
以下、図面を参照して、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、可能な場合には、同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。まず、図1及び図2を参照してレーザダイオード1の構成を説明する。図1は、レーザダイオード1の外観を示す斜視図である。図2(a)は、図1(a)に示すI‐I線に沿ってとられた断面図であり、図2(b)は、レーザダイオード1の上面図である。
垂直共振器型のレーザダイオード1は、軸A1に沿って順に配置された第1電極2、基板4、第1DBR層6(Distributed Bragg Reflector)、スペーサ層8、電流狭窄層10、活性層12、スペーサ層14、第2DBR層16及び第2電極18を備える。
まず、第1電極2の説明からはじめる。第1電極2は、レーザ光の反射率が比較的高い金属から成る。基板4は、例えば、GaAsから成る。基板4は、n型不純物(例えばSi等)を例えば1.0×1022〜1.0×1023(cm−3)程度含有している。基板4の面方位は、例えば(100)である。基板4は、第1面M1と、この第1面M1の反対側にある第2面M2とを有している。基板4は、第1領域4a、第2領域4b及び第3領域4cを有する。第2領域4bと第3領域4cとは第1領域4aを挟む。第1電極2は、第1面M1のうち少なくとも第1領域4a上に設けられている。好ましくは、第1電極2は、第3領域4c上にも設けられている。
第1領域4aは、軸A1上に設けられている。第1領域4aは傾斜面Eを有する。この傾斜面Eは、第1領域4aの主面(表面に相当)に含まれる。そして、この傾斜面Eは、軸A1上に設けられており、軸A1に対して所定の角度θだけ傾いている。角度θは、レーザ光が入射される光ファイバのNAや角度にもよるが、レーザ光をファイバ内に伝送させるためには30度〜60度が好ましい。第2領域4bは、第1面M1(特に第2領域4bの表面)の縁Bに設けられた溝部Dを有する。溝部Dは、パッシブアラインメントにおいて光ファイバを支持するために設けられている(図2(a)及び(b)を参照)。溝部Dは、第1面M1から傾斜面Eに向かう方向に延びている。溝部Dは、光ファイバを支持する第1支持面M4及び第2支持面M5を有する。溝部Dに装着された光ファイバの端面は、溝部Dの端面S1に面する。端面S1は、傾斜面Eに面している。これにより、傾斜面Eにおいて反射された後のレーザ光が、溝部Dに装着された光ファイバ内に入射可能となる。
第1DBR層6は、基板4の第2面M2上に設けられている。第1DBR層6は、n型不純物(例えばSi等)が添加された複数のGaAs層とAlGaAs層とが交互に積み重ねられて成る。GaAs層とAlGaAs層とはレーザ光の発振波長の1/4程度の厚みを有している。第1DBR層6は、例えば、22層のGaAs層と、22層のAlGaAs層とを有する。
スペーサ層8は、第1DBR層6上に設けられている。スペーサ層8は、例えば、GaAsから成る。電流狭窄層10は、AlAsの酸化物から成る酸化物領域10aを有する。酸化物領域10aは、開口を有する。この開口には、電流の通過する電流通過領域10bが設けられている。電流通過領域10bは、AlAs(若しくはAlGaAs)層をリング状に外側から酸化させ、未酸化の残った円状の部分に相当する。このため、電流通過領域10bの材料は、AlAs(若しくはAlGaAs)である。酸化物領域10aは電流通過領域10bの周りを囲んでいる。軸A1は、この電流通過領域10bを通り、基板4の第2面M2に直交する。活性層12は、複数のGaInAs量子井戸層とGaAsバリア層とが交互に積み重ねられて成る多重量子井戸構造を有する。活性層12からは、例えば1020nm程度の発振波長の光が生成される。スペーサ層14は、活性層12上に設けられる。スペーサ層14は、例えばGaAsから成る。
第2DBR層16は、スペーサ層14上に設けられている。第2DBR層16は、p型不純物(例えばC等)が添加されたGaAs層とAlGaAs層とが交互に積み重ねられて成る。GaAs層とAlGaAs層とは、レーザ光の発振波長の1/4程度の厚みを有している。第2DBR層16は、例えば32層のGaAs層と、32層のAlGaAs層とを有する。第2電極18は、第2DBR層16上に設けられている。第2電極18は、オーミック電極である。
上記のレーザダイオード1の内部で生成されたレーザ光は、軸A1に沿って第1DBR層6から基板4の内部へ進行する。そして、このレーザ光は、傾斜面Eにおいて反射され、基板4の第2面M2に対し略平行な軸A2に沿って進行する。
次に、図3を参照して、レーザダイオード1の製造工程を説明する。まず、図3(a)に示すように、基板4の第2面M2上に第1DBR層61、スペーサ層81、電流狭窄層101(酸化物領域10a)、電流通過領域10b、活性層121、スペーサ層141及び第2DBR層161を、軸A1に沿って順次形成する。基板41は、第1領域4a、第2領域4b及び第3領域4cを有する。次に、図3(b)に示すように、第1領域4aに傾斜面Eを形成する。傾斜面Eは軸A1上に形成される。このように、傾斜面Eは、レーザダイオード1内で生成されるレーザ光を受けることが可能な位置に形成される。また、傾斜面Eは、軸A1に対して角度θだけ傾くように形成される。傾斜面Eは、異方性エッチング、FIB(Focused Ion Beam)、RIB(Reactive Ion Etching)又はイオンミリング等のエッチング処理によって形成される。
次に、図3(c)に示すように、ダイシングカッターを用いて基板41に溝部Dを形成する。溝部Dは、第2領域4bの面の縁Bから傾斜面Eに向かって延びる。次に、図3(d)に示すように、第1領域4a及び第3領域4c上に第1電極21を形成し、第2DBR層161の第3面M3上に第2電極181を形成する。この後、図中符号A3に示す軸に沿ってダイシングされることによってレーザダイオード1が製造される。
以上説明したように、垂直共振器型のレーザダイオード1では、レーザダイオード1内で生成されたレーザ光が、傾斜面Eに向かって軸A1に沿って進み、傾斜面Eにおいて反射される。反射後のレーザ光は、基板4の第2面M2に沿って(軸A2に沿って)進む。このように、レーザ光は軸A1と異なる向きの軸A2に沿って出射される。従って、出射前のレーザ光の進行方向をレーザダイオード1内において変えることが可能となる。
また、レーザ光は軸A1と異なる向きの軸A2に沿って出射されるため、軸A1上に設けられる第1電極2にレーザ光を通過させるための開口を設ける必要がない。このため、第1電極2と第1領域4aとの接触面積をより広くすることができるので、第1電極2の接触抵抗が低減される。
以上、好適な実施の形態において本発明の原理を図示し説明してきたが、本発明は、そのような原理から逸脱することなく配置および詳細において変更され得ることは、当業者によって認識される。本発明は、本実施の形態に開示された特定の構成に限定されるものではない。したがって、特許請求の範囲およびその精神の範囲から来る全ての修正および変更に権利を請求する。
例えば、レーザダイオード1の溝部Dに替えて、導波路20を設けてもよい。図4は、導波路20が設けられたレーザダイオード1aの斜視図である。導波路20は、基板4の端面S2から内側に向けて設けられている。導波路20は、傾斜面Eにおいて反射された反射後のレーザ光の光路L2に沿って、基板4の端面に至るまで延びる直方体形状を有する。このようなレーザダイオード1aは、垂直共振器型のレーザダイオードであるが、従来の端面発光レーザダイオードのようにレーザダイオード1aの端面からレーザ光が出射される。このため、レーザ光を反射するために外部にミラーを設けることなく、端面発光型レーザダイオードに替えて垂直共振器型のレーザダイオード1aが利用できる。
1…レーザダイオード、2…第1電極、4…基板、6…第1DBR層、8…スペーサ層、10…電流狭窄層、12…活性層、14…スペーサ層、16…第2DBR層、18…第2電極、20…導波路、S1…端面、M1…第1面、M2…第2面、M3…第3面、M4…第1支持面、M5…第2支持面、D…溝部、E…傾斜面。
Claims (3)
- 垂直共振器型のレーザダイオードであって、
第1領域と、該第1領域を挟む第2領域及び第3領域とを有する基板と、
前記基板上に設けられた第1DBR層と、
前記第1DBR層上に設けられた活性層と、
前記活性層上に設けられた第2DBR層と、
アノード及びカソードの一方である第1電極と、
前記第2DBR層上に設けられておりアノード及びカソードの他方である第2電極と
を備え、
前記基板は、前記第1電極と前記第1DBR層との間に設けられており、
前記基板の前記第1領域、前記第1DBR層、前記活性層及び前記第2DBR層は、所定の軸に沿って順次配置されており、
前記第1電極は、前記第1領域上に設けられており、
前記第1領域は、前記所定の軸に対して傾いており該軸上に設けられた傾斜面を有する主面を含む、ことを特徴とするレーザダイオード。 - 前記第2領域は、該第2領域の表面の縁から前記傾斜面に向かう方向に延びる溝を有する、ことを特徴とする請求項1に記載のレーザダイオード。
- 前記第1電極は、前記第3領域上にも設けられている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザダイオード。
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