JP2007297321A - アリール２−メチルグリシジルエーテル類の製造法 - Google Patents
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Abstract
【課題】大スケールでも安全に製造可能であり、出発物質が光学活性体の場合には光学純度が低下することのないアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法を提供する。
【解決手段】３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）をアリールオキシ化して３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）を得、これをスルホニル化し、３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）を得、これのエポキシ化によりアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造する。
【選択図】なし
【解決手段】３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）をアリールオキシ化して３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）を得、これをスルホニル化し、３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）を得、これのエポキシ化によりアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造する。
【選択図】なし
Description
本発明は、医薬、農薬の重要中間体となりうるアリール ２−メチルグリシジルエーテルの製造法に関し、またその光学活性体の製造法に関する。
従来、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法としては、ｉ）メタリルフェニルエーテルをジクロロメタン中、ｍ−クロロ過安息香酸でエポキシ化する方法，ｉｉ）２−メチルエピクロロヒドリンにフェノールを相間移動触媒の存在下、塩基性条件で付加させ、得られたクロロヒドリン体を閉環する方法、ｉｉｉ）メタリルフェニルエーテルをクロロパーオキシダーゼによりエナンチオ選択的にエポキシ化する方法などが知られている。
しかしながら、これらの製造方法には以下のような問題がある。即ち方法ｉ）ではメタリルフェニルエーテルを過酸化物を用いてエポキシ化するため、より大きなスケールでの製造は安全性の点で困難である。また医薬、農薬の中間体として使用する場合、一般に光学活性体が必要となりうるが、ｉｉ）およびｉｉｉ）のいずれの方法でもラセミ体のみしか製造できない。方法ｉｉｉ）では酵素により光学活性体が得られるが、Ｓ体のみしか得られないため、Ｒ体が必要である場合には適用できない。また、一般に光学活性な医薬品、およびその中間体には９８％ｅｅ以上の光学純度が求められるが、方法ｉｉｉ）では８９％ｅｅに留まっている。
Journal of Fluorine Chemistry, ７４, ２８３（１９９５）. ＷＯ ２００４−０２９１２６
Journal of American Chemical Society, １１７, ６４１２（１９９５）.
Journal of Fluorine Chemistry, ７４, ２８３（１９９５）.
上記のような背景技術に鑑み、本発明の目的は、大スケールでも安全な製造が可能であり、安価で操作性良くアリール ２−メチルグリシジルエーテル類を得ることができ、さらに出発物質が光学活性体の場合にはその光学純度を損なうことなく光学活性アリール ２−メチルグリシジルエーテル類を得ることができる方法を提供することである。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、下記の第１および第２の発明を完成するに至った。
すなわち、第１発明は、一般式（１）
［式中、Ａｒは置換もしくは無置換芳香族基を意味する。］
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（２）
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（２）
［式中、Ｘはハロゲン原子を意味する。］
で表される３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（３）
で表される３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（３）
［式中、Ａｒは上記と同義である。］
で表される水酸基含有アリール化合物と反応させ、アリールオキシ化により、一般式（４）
で表される水酸基含有アリール化合物と反応させ、アリールオキシ化により、一般式（４）
［式中、Ａｒは前記と同じ意味を表す。］
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を得、ついでこれに有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（５）
Ｒ１ＳＯ２Ｃｌ
（５）
［式中、Ｒ１は置換若しくは無置換アラルキル基、または置換若しくは無置換芳香族基を意味する。］
で表されるスルホニルハライド類を作用させ、１級水酸基のスルホニル化により、一般式（６）
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を得、ついでこれに有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（５）
Ｒ１ＳＯ２Ｃｌ
（５）
［式中、Ｒ１は置換若しくは無置換アラルキル基、または置換若しくは無置換芳香族基を意味する。］
で表されるスルホニルハライド類を作用させ、１級水酸基のスルホニル化により、一般式（６）
［式中、ＡｒおよびＲ１は上記と同義である。］
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類を得、ついでこれを一般式（７）
［Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、同一又は異なり、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基を意味し、Ｘ−は塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸水素イオンまたは水酸化物イオンを意味する。］
で表される第４級アンモニウム塩の存在下、非水溶性有機溶媒と塩基性水溶液の二相系でエポキシ化することにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法である。
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類を得、ついでこれを一般式（７）
で表される第４級アンモニウム塩の存在下、非水溶性有機溶媒と塩基性水溶液の二相系でエポキシ化することにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法である。
第１発明において、３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）として光学活性体を用いれば、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）が光学活性体として得られる。
第１発明は下記の反応式で示される。
第２発明は、一般式（８）
［式中、Arは置換もしくは無置換芳香族基を意味する。］
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（９）
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（９）
［式中、Xはハロゲン原子を意味する。］
で表される２−メチルエピハロヒドリン類を塩基、および一般式（１０）
で表される２−メチルエピハロヒドリン類を塩基、および一般式（１０）
［R1、R2、R3およびR4は、同一又は異なり、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基を意味し、X−は塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硫酸水素イオンまたは水酸化物イオンを意味する。］
で表される第四級アンモニウム塩の存在下、一般式（１１）
で表される第四級アンモニウム塩の存在下、一般式（１１）
［式中、Arは上記と同義である。］
で表される水酸基含有アリール化合物と、非水溶性有機溶媒と水溶液の二相系中で反応させることにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法である。
で表される水酸基含有アリール化合物と、非水溶性有機溶媒と水溶液の二相系中で反応させることにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法である。
第２発明において、２−メチルエピハロヒドリン類（９）として光学活性体を用いれば、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（８）が光学活性体として得られる。
第２発明は下記の反応式で示される。
本発明の製造法により、医薬、農薬の重要中間体となり得るアリール ２−メチルグリシジルエーテルを大スケールで安価で操作性良く得ることができる。また、第１発明の出発物質として光学活性３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）を用い、第２発明の出発物質として光学活性２−メチルエピハロヒドリン類（９）を用いる場合には、その光学純度を損なうことなく光学活性アリール ２−メチルグリシジルエーテル類を得ることができる。
また、第１発明の出発原料として用いる光学活性３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）として一方の光学活性体しか入手できなかった場合は、まず、後述する方法で光学活性３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）から光学活性２−メチルエピハロヒドリン類（９）を導き、ついでこれから第２発明の方法で、第１発明で得られるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類とは逆の立体のものを得ることができる。即ち、例えば（Ｓ）−３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を出発原料とした場合、第１発明のルートでは（Ｓ）−アリール ２−メチルグリシジルエーテル類が得られ、光学活性２−メチルエピハロヒドリン類（９）を経由する第２発明のルートでは逆の立体である（Ｒ）−アリール ２−メチルグリシジルエーテル類を得ることができる。
まず、第１発明について詳しく説明をする。
３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）を有機溶媒中で塩基の存在下、水酸基含有アリール化合物（３）と反応させ、アリールオキシ化により、３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）を得るアリールオキシ化工程において、一般式（２）で表される３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類のハロゲン原子（Ｘ）としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、好ましくは塩素原子または臭素原子であり、特に好ましくは塩素原子である。３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（２）の具体例としては３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオール、３−ブロモ−２−メチル−１，２−プロパンジオールなどが挙げられ、特に３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオールが好んで用いられる。
３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオールは、メタリルクロライドを過酢酸などによる酸化でメチルエピクロルヒドリンとし、これを酸性条件下で水和開裂する方法といった常法により容易に調製することができる。また、３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１）の光学活性体も公知の方法、例えば特開昭６３−１５０２３４号公報記載の方法で調製することができる。これは特願２００５−０００１１６号明細書記載の方法で得ることもできる。
アリールオキシ化に使用する水酸基含有アリール化合物（３）としては、無置換のフェノールや置換基を有するフェノール類が好ましい。置換フェノールの置換基は、本反応に影響を与えない基である限り特に限定されず、例えば、メチル、エチルなどのアルキル基、アリルなどのアルケニル基、メトキシメチル、２−メトキシエチル、アリルオキシメチル、（２−メトキシエトキシ）メチル、（２−イソプロポキシエトキシ）メチルなどのエーテル結合を有するアルキル基、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨードなどのハロゲン原子、トリフルオロメチル、クロロメチルなどのハロゲン化アルキル基、メトキシ、アリルオキシ、メトキシメトキシなどのアルコキシ基、アセチルアミドなどのアミド基、カルバモイル基、アルデヒド基、アセチル、ベンゾイルなどのアシル基、ニトロ基などが挙げられる。またこの置換基は、テトラメチレン基やメチレンジオキシ基などのようにフェノールの隣接炭素原子と一緒に環を形成する基であってもよい。上記の置換基は同時に複数個存在していてもよい。水酸基含有アリール化合物（３）には、α−ナフトール、β−ナフトール、７−ヒドロキシインデンなどの水酸基を有する多環式芳香族化合物や、２−ピリジルアルコール、３−ヒドロキシフラン、４−ヒドロキシインドール、５−ヒドロキシキノリンなどの水酸基を有する複素環式芳香族化合物も含まれる。これらのうち、好ましくはフェノール、４−フルオロフェノール、２−メチルフェノール、４−メチルフェノール、４−メトキシフェノールおよび２−アリルオキシフェノールを挙げることができ、特に好ましくはフェノール、４−フルオロフェノール、２−メチルフェノール、４−メトキシフェノールである。
アリールオキシ化に使用する塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ土類金属の炭酸塩；炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属の炭酸水素塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウムなどの炭素数１〜４の低級アルキルアルコールのアルカリ金属塩；フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのアルカリ金属のフッ化物塩が挙げられる。これらの塩基は、単独で用いても、２種類以上の混合物で用いてもよい。好ましい塩基は水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、フッ化セシウムであり、特に好ましいのは水素化ナトリウムである。
アリールオキシ化に使用する塩基の使用量は、一般式（２）で表される３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類に対して１〜５当量、好ましくは１．５〜３当量の範囲である。また、アルカリ金属のフッ化物塩を使用する場合は、アルカリ金属の水素化物、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ金属の炭酸水素塩、炭素数１〜４の低級アルキルアルコールのアルカリ金属塩、炭素数１〜６の低級アルキル基を有する３級アミンなどの塩基を共存させると、フッ化物塩の使用量を少なくすることができる。この場合、フッ化物塩の使用量は、３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）に対して０．００１〜１当量、好ましくは０．０１〜０．５当量の範囲である。
アリールオキシ化の際に使用する溶媒としては、特に限定されるものではないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキド、スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミドなどの非プロトン性極性溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；アセトニトリルなどのニトリル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルジイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール系溶媒、水媒体などが挙げられる。好ましい溶媒はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキド、スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミドなどの非プロトン性極性溶媒である。
アリールオキシ化の溶媒の使用量は、特に限定するものではないが、３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）に対して好ましくは２〜１０倍量（ｖ／ｗ）、特に好ましくは３〜５倍量（ｖ／ｗ）である。
アリールオキシ化の反応温度は、−５０〜２００℃、好ましくは０〜１００℃である。反応温度が低すぎると反応速度が極めて遅く、実用的ではない。また、反応温度が高すぎると反応途中で生成するグリシドールが重合を起こすためか、収率が有意に低下する。
アリールオキシ化により得られた３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）に有機溶媒中で塩基の存在下、スルホニルハライド類（５）を作用させ、１級水酸基のスルホニル化により３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）を得るスルホニル化において、使用するスルホニルハライド類としては、ベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、α−トルエンスルホニルクロリド、２−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、３−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、４−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、２−ニトロ−α−トルエンスルホニルクロリド、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニルクロリド、４−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、４−クロロベンゼンスルホニルクロリド、４−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、４−ヨードベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−ナフタレンスルホニルクロリド、２，４−ジニトロベンゼンスルホニルクロリド、２，５−ジクロロベンゼンスルホニルクロリドおよび２−メシチレンスルホニルクロリドなどを挙げることができるが、好ましいスルホニルハライド類はベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、３−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、４−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、２−ニトロ−α−トルエンスルホニルクロリドであり、特に好ましいのはｐ−トルエンスルホニルクロリド、３−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、４−ニトロベンゼンスルホニルクロリドである。
スルホニルハライド類の使用量は、３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）に対して好ましくは1．０〜１．５当量の範囲、特に好ましくは１．０〜１．０５当量である。
スルホニル化反応に使用する塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類；トリフェニルアミンなどのトリアリールアミン類；ピリジン、および２，４，６−コリジン、２，６−ルチジンなどのピリジン誘導体が挙げられるが、好ましい塩基はトリアルキルアミン類である。
スルホニル化に使用される塩基の使用量は、特に限定されるものでは無いが、３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）に対して好ましくは１．０当量以上、特に好ましくは１．０〜１．５当量である。
スルホニル化に使用する溶媒は、特に限定するものではないが、一般的な溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド等の非プロトン性極性溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジグリム、トリグリム等のエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、酢酸エチル等のケトンないしはエステル系溶媒；ならびにこれらの混合溶媒が挙げられる。また、塩基として用いる上記ピリジン誘導体を反応溶媒として用いることもできる。好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒が用いられるか、または無溶媒であり、特に好ましくは１，２−ジクロロエタンが用いられる。
スルホニル化に使用する溶媒の使用量は、特に限定するものではないが、３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（４）に対して好ましくは２〜１０倍量（ｖ／ｗ）、特に好ましくは３〜５倍量（ｖ／ｗ）である。
スルホニル化の反応温度は、好ましくは−１０〜２５℃、より好ましくは０〜２０℃の範囲である。
スルホニル化により得られた３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）を第４級アンモニウム塩（７）の存在下、非水溶性有機溶媒と塩基性水溶液の二相系でエポキシ化してアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造するエポキシ化工程において、使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属の水酸化物が挙げられるが、好ましい塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物であり、特に好ましいのは水酸化ナトリウムである。
エポキシ化に使用する塩基の使用量は、３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）に対して好ましくは１．０〜２．０当量、特に好ましくは１．０５〜１．２当量である。
エポキシ化に使用する塩基性水溶液の濃度は、好ましくは１０〜６０重量％、特に好ましくは２０〜５０重量％である。
エポキシ化に使用する非水溶性有機溶媒は、塩基性水溶液と相溶せずかつ反応せず、３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）を溶解させるものであれば、特に限定されないが、ｎ−へキサン、ｎ−ヘプタンなどの炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルなどのエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルジイソブチルケトンなどのケトン系溶媒などが挙げられる。好ましい溶媒はトルエン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、１，２−ジクロロエタンであり、特に好ましいのはトルエンである。
エポキシ化に使用する溶媒の使用量は、３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）に対して好ましくは１〜２０倍量（ｖ／ｗ）、特に好ましくは３〜１０倍量（ｖ／ｗ）である。
エポキシ化に使用する第４級アンモニウム塩（７）の具体例としては、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ジアリルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、臭化ｎ−オクチルトリメチルアンモニウム、臭化ステアリルトリメチルアンモニウム、臭化セチルジメチルエチルアンモニウム、ヨウ化テトラｎ−ブチルアンモニウム、ヨウ化β−メチルコリン、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられるが、これらに限定されない。
第４級アンモニウム塩（７）の使用量は、３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類（６）に対して触媒量でよく、０．００５〜０．２当量の範囲で使用することが好ましい。特に好ましい量は０．０１〜０．１当量である。
エポキシ化の反応温度は、好ましくは０〜５０℃、特に好ましくは、０〜４０℃である。０℃未満では反応が抑制され、水が凍結することもあるので適当ではない。
エポキシ化の反応終了後は、塩基性水溶液を除去し、抽出液の中和、水洗、濃縮を経て、得られた粗生成物の減圧蒸留、晶析またはカラムクロマトグラフィー等の精製手段の適宜な組み合わせにより、目的とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）が得られる。
３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）として光学活性体を用いれば、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）が光学活性体として得られる。
つぎに、第２発明について詳細に説明をする。
２−メチルエピハロヒドリン類（９）を塩基と第四級アンモニウム塩（１０）の存在下、水酸基含有アリール化合物（１１）と、非水溶性有機溶媒と水溶液の二相系中で反応させることにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（８）を製造する第２発明において、出発物質である２−メチルエピハロヒドリン（９）のハロゲン原子（Ｘ）としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、好ましくは塩素原子、臭素原子である。２−メチルエピハロヒドリン（９）の具体例としては、２−メチルエピクロロヒドリン、２−メチルエピブロモヒドリン等が挙げられ、特に２−メチルエピクロロヒドリンが好んで用いられる。
２−メチルエピハロヒドリン（９）は公知の方法で得られたものであってもよい。２−メチルエピクロロヒドリンの光学活性体は、上述した特開昭６３−１５０２３４または特願２００５−０００１１６に記載の方法に従って製造した光学活性な３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオールの一級水酸基をピリジン等の有機塩基の存在下、ベンゼンスルホニルクロリド等のスルホニルハライドを用いてスルホニル化し、次いでこれを水酸化ナトリウム等の無機塩基で処理することにより取得することができる。
２−メチルエピハロヒドリン（９）の使用量は、水酸基含有アリール化合物（１１）に対して好ましくは１〜３当量、特に好ましくは１．５〜２当量である。１当量より少ない場合は、未反応の水酸基含有アリール化合物（１１）と生成したアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（８）がさらに反応し、２量体が副生し、純度、および収量の低下を招く恐れがある。
水酸基含有アリール化合物（１１）としては、無置換のフェノールや置換基を有するフェノール類が好ましい。置換フェノールの置換基は、本反応に影響を与えない基である限り特に限定されず、例えば、メチル、エチルなどのアルキル基、アリルなどのアルケニル基、メトキシメチル、２−メトキシエチル、アリルオキシメチル、（２−メトキシエトキシ）メチル、（２−イソプロポキシエトキシ）メチルなどのエーテル結合を有するアルキル基、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨードなどのハロゲン原子、トリフルオロメチル、クロロメチルなどのハロゲン化アルキル基、メトキシ、アリルオキシ、メトキシメトキシなどのアルコキシ基、アセチルアミドなどのアミド基、カルバモイル基、アルデヒド基、アセチル、ベンゾイルなどのアシル基、ニトロ基などが挙げられる。またこの置換基は、テトラメチレン基やメチレンジオキシ基などのようにフェノールの隣接炭素原子と一緒に環を形成する基であってもよい。上記の置換基は同時に複数個存在していてもよい。水酸基含有アリール化合物（１１）には、α−ナフトール、β−ナフトール、７−ヒドロキシインデンなどの水酸基を有する多環式芳香族化合物や、２−ピリジルアルコール、３−ヒドロキシフラン、４−ヒドロキシインドール、５−ヒドロキシキノリンなどの水酸基を有する複素環式芳香族化合物も含まれる。これらのうち、好ましくはフェノール、４−フルオロフェノール、２−メチルフェノール、４−メチルフェノール、４−メトキシフェノールおよび２−アリルオキシフェノールを挙げることができ、特に好ましくはフェノール、４−メトキシフェノール、４−フルオロフェノール、４−メチルフェノールである。
本反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ；ｔｅｒｔ−ブトキシカリウムなどの水溶性の塩基が挙げられる。これらの塩基は、単独で用いても、２種類以上の混合物で用いてもよいが、好ましくは水酸化アルカリであり、特に好ましくは水酸化ナトリウムや水酸化カリウムである。
本反応に用いられる塩基の使用量は、水酸基含有アリール化合物（１１）に対して好ましくは１当量以上、さらに好ましくは１〜２当量の範囲である。
本反応に用いられる第四級アンモニウム塩（１０）としては、特に限定されるものではないが、例えば、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ジアリルジメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム、臭化ｎ−オクチルトリメチルアンモニウム、臭化ステアリルトリメチルアンモニウム、臭化セチルジメチルエチルアンモニウム、ヨウ化テトラｎ−ブチルアンモニウム、ヨウ化β−メチルコリン、硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
本反応に用いられる第四級アンモニウム塩（１０）の使用量は、水酸基含有アリール化合物（１１）に対して触媒量でよく、好ましくは０．００５〜０．１当量である。
本反応に用いられる非水溶性有機溶媒は、塩基性水溶液と相溶せずかつ反応せず、２−メチルエピハロヒドリン（９）およびアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（８）が溶解するものであれば特に限定されず、ｎ−ヘキサンやｎ−ヘプタンなどのアルカン系；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルなどのエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系；クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒が挙げられるが、好ましい溶媒はトルエン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、および１，２−ジクロロエタンである。
本反応に用いられる非水溶性有機溶媒の使用量は、水酸基含有アリール化合物（１１）に対して好ましくは１〜１０倍量（ｖ／ｗ）、特に好ましくは２〜５倍量（ｖ／ｗ）である。
本反応に用いられる水の使用量は、水酸基含有アリール化合物（１１）に対して好ましくは１〜２０倍量（ｖ／ｗ）、特に好ましくは２〜５倍量（ｖ／ｗ）である。
本反応の反応温度は、好ましくは０〜５０℃、特に好ましくは０〜４０℃である。０℃未満では反応が抑制され、水が凍結することもあるので適当ではない。また、５０℃を超えると副反応が進行して収率低下の原因となったり、さらに光学活性な２−メチルエピハロヒドリンを用いた場合は、そのラセミ化が進行し、得られる光学活性アリール ２−メチルグリシジルエーテル類の光学純度が低下するなど、好ましくない。
反応終了後は、有機層を取り出して、希塩酸などの希鉱酸で中和し、有機溶媒を留去するという、非常に簡便な操作で目的のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類（８）を得ることができる。
出発物質として光学活性２−メチルエピハロヒドリンを用いた場合は、光学純度を殆ど保ったまま光学活性アリール ２−メチルグリシジルエーテル類を得ることができる。
収率が低い場合は、反応終了後に食塩、塩化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウムを適量添加してから、有機層を取り出してもよい。必要であれば、有機溶媒の留去後に蒸留、晶析およびカラムクロマトグラフィーなどの精製を行ってもよい。
以下に実施例を示すが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
実施例１
（Ｓ）−３−フェノキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１２）の合成
水素化ナトリウム３．２ｇ（８０．３ｍｍｏｌ，６０％ｏｉｌ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）をｎ−へキサンで洗浄し、ジメチルホルムアミド（脱水）３０ｍＬを添加した。この懸濁液中にジメチルホルムアミド（脱水）６ｍＬに溶解したフェノール３．８ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を氷冷下、１５分かけて滴下した。発泡が治まったことを確認した後、ジメチルホルムアミド（脱水）６ｍＬに溶解した（Ｓ）−３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオール５．０ｇ（４０．１ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）を同温度で１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応温度を６０℃とし、混合物を１２時間撹拌した。反応終了後、水を添加し、全体を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｓ）−３−フェノキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１２）６．２ｇ（３４．２ｍｍｏｌ、収率８５．１％）を無色透明油状物質として得た。
（Ｓ）−３−フェノキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１２）の合成
水素化ナトリウム３．２ｇ（８０．３ｍｍｏｌ，６０％ｏｉｌ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）をｎ−へキサンで洗浄し、ジメチルホルムアミド（脱水）３０ｍＬを添加した。この懸濁液中にジメチルホルムアミド（脱水）６ｍＬに溶解したフェノール３．８ｇ（４０．１ｍｍｏｌ）を氷冷下、１５分かけて滴下した。発泡が治まったことを確認した後、ジメチルホルムアミド（脱水）６ｍＬに溶解した（Ｓ）−３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオール５．０ｇ（４０．１ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）を同温度で１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応温度を６０℃とし、混合物を１２時間撹拌した。反応終了後、水を添加し、全体を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｓ）−３−フェノキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１２）６．２ｇ（３４．２ｍｍｏｌ、収率８５．１％）を無色透明油状物質として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．２９（３Ｈ，ｓ）、３．２７（２Ｈ，ｂｒｓ）、３．６４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４０．２，１０．８Ｈｚ）、３．９０（２Ｈ，ｓ）、６．８８−７．２５（３Ｈ，ｍ）、７．２８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１．４Ｈｚ）．
実施例２
（Ｒ）−３−フェノキシ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１３）の合成
（Ｓ）−３−フェノキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１２）２．５３ｇ（１３．９ｍｍｏｌ、トリエチルアミン１．５５ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）および１，２−ジクロロエタン１０ｍＬの混合物に、１，２−ジクロロエタン１２ｍＬに溶解したｐ−トルエンスルホニルクロリド２．７ｇ（１４．２ｍｍｏｌ）を氷冷下滴下し、滴下終了後、全体を２５℃で１２時間撹拌した。反応終了後、水を加え、１，２−ジクロロエタン層を取出し、飽和食塩水で洗浄し、減圧下濃縮した。残った粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−３−フェノキシ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１３）３．８４ｇ（１１．４ｍｍｏｌ、収率８２．１％）を無色透明油状物質として得た。
実施例２
（Ｒ）−３−フェノキシ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１３）の合成
（Ｓ）−３−フェノキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１２）２．５３ｇ（１３．９ｍｍｏｌ、トリエチルアミン１．５５ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）および１，２−ジクロロエタン１０ｍＬの混合物に、１，２−ジクロロエタン１２ｍＬに溶解したｐ−トルエンスルホニルクロリド２．７ｇ（１４．２ｍｍｏｌ）を氷冷下滴下し、滴下終了後、全体を２５℃で１２時間撹拌した。反応終了後、水を加え、１，２−ジクロロエタン層を取出し、飽和食塩水で洗浄し、減圧下濃縮した。残った粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−３−フェノキシ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１３）３．８４ｇ（１１．４ｍｍｏｌ、収率８２．１％）を無色透明油状物質として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．３０（３Ｈ，ｓ）、２．３７（３Ｈ，ｓ）、３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、４．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）、４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）、６．７４−６．７８（２Ｈ，ｍ）、６．９４−７．００（２Ｈ，ｍ）、７．２２−７．３０（４Ｈ，ｍ），７．７０−７．７５（２Ｈ，ｍ）．
実施例３
（Ｓ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１４）の合成
（Ｒ）−３−フェノキシ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１３）１．４６ｇ（４．３７ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、臭化テトラブチルアンモニウム１７．６ｍｇ（０．０５５ｍｍｏｌ）およびトルエン７．３３ｍＬの混合物に、２４％水酸化ナトリウム水溶液０．８０ｇ（４．８０ｍｍｏｌ）を添加し、全体を２５℃で５時間撹拌した。反応終了後、水層を除去して，トルエン層を飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残った粗生成物を残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｓ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１４）０．６３ｇ（３．８３ｍｍｏｌ、収率８７．６％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
実施例３
（Ｓ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１４）の合成
（Ｒ）−３−フェノキシ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１３）１．４６ｇ（４．３７ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、臭化テトラブチルアンモニウム１７．６ｍｇ（０．０５５ｍｍｏｌ）およびトルエン７．３３ｍＬの混合物に、２４％水酸化ナトリウム水溶液０．８０ｇ（４．８０ｍｍｏｌ）を添加し、全体を２５℃で５時間撹拌した。反応終了後、水層を除去して，トルエン層を飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残った粗生成物を残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｓ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１４）０．６３ｇ（３．８３ｍｍｏｌ、収率８７．６％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．４９（３Ｈ，ｓ）、２．７３（２Ｈ，ｄ,Ｊ＝５．１Ｈｚ）、２．８７（２Ｈ，ｄ,Ｊ＝５．１Ｈｚ）、３．９４（２Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．０２（２Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、６．８９−７．２５（３Ｈ，ｍ）、７．２４−７．３１（２Ｈ，ｍ）．
実施例４
（Ｓ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１５）の合成
４−メトシキフェノール３．６ｇ（２８．９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（脱水）２０ｍＬに溶解し、ここへ炭酸カリウム８．０ｇ（５７．８ｍｍｏｌ）を添加した。この懸濁液中にジメチルホルムアミド（脱水）１０ｍＬに溶解した（Ｓ）−３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオール５．０ｇ（４０．１ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）を２５℃で１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応温度を６５℃とし、混合物を１２時間撹拌した。反応終了後、水を添加し、全体を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣を酢酸エチル／ｎ−へキサン＝１／４で再結晶化し、目的物である（Ｓ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１５）３．６ｇ（１７．０ｍｍｏｌ、収率７０．４％）を微褐色粉末として得た。
実施例４
（Ｓ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１５）の合成
４−メトシキフェノール３．６ｇ（２８．９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（脱水）２０ｍＬに溶解し、ここへ炭酸カリウム８．０ｇ（５７．８ｍｍｏｌ）を添加した。この懸濁液中にジメチルホルムアミド（脱水）１０ｍＬに溶解した（Ｓ）−３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオール５．０ｇ（４０．１ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）を２５℃で１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応温度を６５℃とし、混合物を１２時間撹拌した。反応終了後、水を添加し、全体を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣を酢酸エチル／ｎ−へキサン＝１／４で再結晶化し、目的物である（Ｓ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１５）３．６ｇ（１７．０ｍｍｏｌ、収率７０．４％）を微褐色粉末として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．２８（３Ｈ，ｓ）、２．２８（１Ｈ，ｂｒｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、２．７７（１Ｈ，ｂｒｓ）、３．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．３、６．２Ｈｚ）、３．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１、５．１Ｈｚ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、６．７８−６．８８（４Ｈ，ｍ）．
実施例５
（Ｒ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１６）の合成
（Ｓ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１５）３．６（１７．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．８ｇ（１７．８ｍｍｏｌ）および１，２−ジクロロエタン３４ｍＬの混合物に、１，２−ジクロロエタン１０．８ｍＬに溶解した４−ニトロベンセンスルホン酸クロリド３．９ｇ（１７．８ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、滴下終了後、全体を４０時間撹拌した。反応終了後、１，２−ジクロロエタンを減圧留去し、残渣に酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル／ｎ−へキサン＝１／４で再結晶化し、目的物である（Ｒ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１６）５．６ｇ（１４．２ｍｍｏｌ、収率８３．６％）を黄白色粉末として得た。
実施例５
（Ｒ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１６）の合成
（Ｓ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１，２−プロパンジオール（１５）３．６（１７．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．８ｇ（１７．８ｍｍｏｌ）および１，２−ジクロロエタン３４ｍＬの混合物に、１，２−ジクロロエタン１０．８ｍＬに溶解した４−ニトロベンセンスルホン酸クロリド３．９ｇ（１７．８ｍｍｏｌ）を室温で滴下し、滴下終了後、全体を４０時間撹拌した。反応終了後、１，２−ジクロロエタンを減圧留去し、残渣に酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル／ｎ−へキサン＝１／４で再結晶化し、目的物である（Ｒ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１６）５．６ｇ（１４．２ｍｍｏｌ、収率８３．６％）を黄白色粉末として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．３２（３Ｈ，ｓ）、２．４３（１Ｈ，ｂｒｓ）、３．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、３．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、３．７８（１Ｈ，ｓ）、４．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）、４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）、６．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、６．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、８．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、８．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）．
実施例６
（Ｓ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（１７）の合成
（Ｒ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１６）２．１９ｇ（５．５２ｍｍｏｌ）、臭化テトラブチルアンモニウム２２．２ｍｇ（０．０６９ｍｍｏｌ）およびトルエン２２ｍＬの混合物に、２４％水酸化ナトリウム水溶液１．０１ｇ（４．８０ｍｍｏｌ）を添加し、全体を２５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水層を除去して，トルエン層を水、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残った粗生成物を残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｓ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（１７）０．９４ｇ（４．８４ｍｍｏｌ、収率８７．７％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
実施例６
（Ｓ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（１７）の合成
（Ｒ）−３−（４−メトキシフェノキシ）−２−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−プロパノール（１６）２．１９ｇ（５．５２ｍｍｏｌ）、臭化テトラブチルアンモニウム２２．２ｍｇ（０．０６９ｍｍｏｌ）およびトルエン２２ｍＬの混合物に、２４％水酸化ナトリウム水溶液１．０１ｇ（４．８０ｍｍｏｌ）を添加し、全体を２５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水層を除去して，トルエン層を水、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残った粗生成物を残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｓ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（１７）０．９４ｇ（４．８４ｍｍｏｌ、収率８７．７％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．４８（３Ｈ，ｓ）、２．７２（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．９Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．６Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．９０（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．３Ｈｚ）、６．７９−６．８８（４Ｈ，ｍ）．
参考例１（（S）−3−クロロ−2−メチル−１，２−プロパンジオールの合成）
実施例１における出発物質（S）−3−クロロ−2−メチル−１，２−プロパンジオールは、次の方法で調製した。
参考例１（（S）−3−クロロ−2−メチル−１，２−プロパンジオールの合成）
実施例１における出発物質（S）−3−クロロ−2−メチル−１，２−プロパンジオールは、次の方法で調製した。
オルトチタン酸テトライソプロピル７．９．ｍｌ（２６mmol）、水素化カルシウム１５０ｍｇ（２．５mmol）、シリカゲル１５０ｍｇ（２．５mmol）およびＬ−酒石酸ジブチル５ｍｌ（３０mmol）を塩化メチレン１５０ｍｌ中にて−１８℃で１０分間放置した。次にβ−メタリルアルコールＩ．６ｍｌ（２５mmol）およびクメンヒドロパーオキシド（クメン中６６％）７ｍｌ（５０mmol）を加え、混合物を−１８℃で１６時間放置した。次にジエチルエーテル３００ｍｌと水酸化ナトリウム溶液（２８％）５０ｍｌ（０．３５mmol）を加え、混合物を室温で１．５時間攪拌した。次に混合物をエーテルで抽出し、有機相を塩化マグネシウム２０．３ｇ（０．１モル）で処理し、室温で１６時間撹伴した。次に混合物を濾過し、濾液を蒸発させ、クメンおよびクメンアルコールを水蒸気蒸留した。残渣を濃縮し、［α］２０ Ｄ＝＋５．４°（ｅ＝３％、ＣＨＣｌ３｝及びガスクロマトグラフ法による光学純度９８％（ｅ．ｅ．）以上の無色の油として、（Ｓ）−3−クロロ−2−メチル−１，２−プロパンジオール２．４７ｇを得た。
実施例７
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１８）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１２．０ｇ（０．１１３ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム２５３ｍｇ（０．７８４ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍＬおよび水２０ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．９ｇ（０．０６３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１５．７ｇ（０．０９４ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１８）８．８ｇ（０．０５４ｍｏｌ、収率８５．１％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１８）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１２．０ｇ（０．１１３ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム２５３ｍｇ（０．７８４ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍＬおよび水２０ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．９ｇ（０．０６３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１５．７ｇ（０．０９４ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１８）８．８ｇ（０．０５４ｍｏｌ、収率８５．１％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．４９（３Ｈ，ｓ）、２．７３（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝５．１Ｈｚ）、２．８７（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝５．１Ｈｚ）、３．９４（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、６．８９−６．９９（３Ｈ，ｍ）、７．２４−７．３１（２Ｈ，ｍ）．
実施例８
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１１．３ｇ（０．１０６ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム１２３ｍｇ（０．６６３ｍｍｏｌ）、トルエン１７ｍＬおよび水１７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．０ｇ（０．０５３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１７．７ｇ（０．１０６ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）７．６ｇ（０．０４６ｍｏｌ、収率８７．３％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。ＮＭＲのスペクトルデータは、実施例１と同様であった。
実施例８
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１１．３ｇ（０．１０６ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム１２３ｍｇ（０．６６３ｍｍｏｌ）、トルエン１７ｍＬおよび水１７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．０ｇ（０．０５３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１７．７ｇ（０．１０６ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）７．６ｇ（０．０４６ｍｏｌ、収率８７．３％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。ＮＭＲのスペクトルデータは、実施例１と同様であった。
実施例９
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピブロモヒドリン１６．０ｇ（０．１０６ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム１２３ｍｇ（０．６６３ｍｍｏｌ）、トルエン１７ｍＬおよび水１７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．０ｇ（０．０５３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１７．７ｇ（０．１０６ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）７．７ｇ（０．０４７ｍｏｌ、収率８８．２％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。ＮＭＲのスペクトルデータは、実施例１と同様であった。
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピブロモヒドリン１６．０ｇ（０．１０６ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム１２３ｍｇ（０．６６３ｍｍｏｌ）、トルエン１７ｍＬおよび水１７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．０ｇ（０．０５３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１７．７ｇ（０．１０６ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）７．７ｇ（０．０４７ｍｏｌ、収率８８．２％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。ＮＭＲのスペクトルデータは、実施例１と同様であった。
実施例１０
（Ｒ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２０）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１６．０ｇ（０．１５０ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム３４７ｍｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、トルエン４１．８ｍＬおよび水４１．８ｍＬの混合物を氷冷した。ここへ４−メトキシフェノール１２．４ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液３３．３ｇ（０．２００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２０）１６．１ｇ（０．０８３ｍｏｌ、収率８３．０％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
（Ｒ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２０）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１６．０ｇ（０．１５０ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム３４７ｍｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、トルエン４１．８ｍＬおよび水４１．８ｍＬの混合物を氷冷した。ここへ４−メトキシフェノール１２．４ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液３３．３ｇ（０．２００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−（４−メトキシフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２０）１６．１ｇ（０．０８３ｍｏｌ、収率８３．０％、光学純度９９％ｅｅ）を白色結晶として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．４８（３Ｈ，ｓ）、２．７２（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．９Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．６Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．９０（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．３Ｈｚ）、６．７９−６．８８（４Ｈ，ｍ）．
実施例１１
（Ｓ）−（４−フルオロフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２１）の合成
の合成
（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリン２１．３ｇ（０．２００ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム３４７ｍｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、トルエン３８．１ｍＬおよび水３８．１ｍＬの混合物を氷冷した。ここへ４−フルオロフェノール１１．２ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液３３．３ｇ（０．２００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮して目的物である（Ｓ）−（４−フルオロフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２１）を定量値１４．８ｇ（０．０８１ｍｏｌ、収率８１．５％、光学純度９９％ｅｅ）で得た。
実施例１１
（Ｓ）−（４−フルオロフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２１）の合成
の合成
（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリン２１．３ｇ（０．２００ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム３４７ｍｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、トルエン３８．１ｍＬおよび水３８．１ｍＬの混合物を氷冷した。ここへ４−フルオロフェノール１１．２ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液３３．３ｇ（０．２００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮して目的物である（Ｓ）−（４−フルオロフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２１）を定量値１４．８ｇ（０．０８１ｍｏｌ、収率８１．５％、光学純度９９％ｅｅ）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．４８（３Ｈ，ｓ）、２．７３（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．９Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．７Ｈｚ）、３．９１（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、４．０１（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．２Ｈｚ）、６．７７−７．０２（４Ｈ，ｍ）．
実施例１２
（Ｓ）−（４−メチルフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２２）の合成
の合成
（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリン２１．３ｇ（０．２００ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム４０２ｍｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン３６．７ｍＬおよび水３６．７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへｐ−クレゾール１０．８ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液３３．３ｇ（０．２００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮して目的物である（Ｓ）−（４−メチルフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２２）を定量値１４．４ｇ（０．０８１ｍｏｌ、収率８１．０％、光学純度９９％ｅｅ）で得た。
実施例１２
（Ｓ）−（４−メチルフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２２）の合成
の合成
（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリン２１．３ｇ（０．２００ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム４０２ｍｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン３６．７ｍＬおよび水３６．７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへｐ−クレゾール１０．８ｇ（０．１００ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液３３．３ｇ（０．２００ｍｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で４８時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮して目的物である（Ｓ）−（４−メチルフェニル） ２−メチルグリシジルエーテル（２２）を定量値１４．４ｇ（０．０８１ｍｏｌ、収率８１．０％、光学純度９９％ｅｅ）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、２７０ＭＨｚ）：δ１．４８（３Ｈ，ｓ）、２．４５（３Ｈ，ｓ）、２．７２（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．９Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝４．７Ｈｚ）、３．９１（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、３．９９（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１０．１Ｈｚ）、６．５７−７．１２（４Ｈ，ｍ）．
比較例１
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１１．３ｇ（０．１０６ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、トルエン１７ｍＬおよび水１７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．０ｇ（０．０５３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１７．７ｇ（０．１０６ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で５０時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）５．９ｇ（０．０３６ｍｏｌ、収率６８％、光学純度９２％ｅｅ）を白色結晶として得た。ＮＭＲのスペクトルデータは、実施例１と同様であった。
比較例１
（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）の合成
（Ｓ）−２−メチルエピクロロヒドリン１１．３ｇ（０．１０６ｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、トルエン１７ｍＬおよび水１７ｍＬの混合物を氷冷した。ここへフェノール５．０ｇ（０．０５３ｍｏｌ）を加えた後に、混合物を攪拌しながら２４％水酸化ナトリウム水溶液１７．７ｇ（０．１０６ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。全体を氷冷したまま３０分間、さらに２５℃で５０時間撹拌した。反応終了後、水層を取り除き、トルエン層を５％塩酸で洗浄し、さらに水で洗浄した。トルエン層を減圧下濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−フェニール ２−メチルグリシジルエーテル（１９）５．９ｇ（０．０３６ｍｏｌ、収率６８％、光学純度９２％ｅｅ）を白色結晶として得た。ＮＭＲのスペクトルデータは、実施例１と同様であった。
参考例２（（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリンの合成）
実施例１１における出発物質（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリンは、次の方法で合成した。
実施例１１における出発物質（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリンは、次の方法で合成した。
（Ｒ）−３−クロロ−２−メチル−１，２−プロパンジオール７．０ｇ（５６．２ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）、２，６−ルチジン７．２ｇ（５６．２ｍｍｏｌ）、及び１，２−ジクロロエタン３５ｍＬの混合物に、氷冷下ｐ−トルエンスルホニルクロリド１０．７ｇ（５６．２ｍｍｏｌ）を加え、全体を２５℃で１２時間撹拌した。反応終了後、水を加え、有機層を取り出し、飽和食塩水で洗浄し、減圧下濃縮した。残った粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的物である（Ｒ）−３−クロロ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール１３．３ｇ（４７．９ｍｍｏｌ、収率８５．２％、光学純度９９％ｅｅ）を無色透明油状物質として得た。
次いで、得られた（Ｒ）−３−クロロ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール６．８０ｇ（２４．４ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）とジクロロメタン１３．６ｍＬの混合物に、２４％水酸化ナトリウム水溶液４．４７ｇ（２６．８ｍｍｏｌ）を滴下し、全体を２５℃で５時間撹拌した。反応終了後、ジクロロメタン層を取り出し、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残った粗生成物を減圧蒸留にて精製して目的物である（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリン２．１４ｇ（２０．１ｍｍｏｌ、収率８２．３％、光学純度９９％ｅｅ）を無色透明油状物質として得た。
次いで、得られた（Ｒ）−３−クロロ−２−メチル−１−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−プロパノール６．８０ｇ（２４．４ｍｍｏｌ、光学純度９９％ｅｅ）とジクロロメタン１３．６ｍＬの混合物に、２４％水酸化ナトリウム水溶液４．４７ｇ（２６．８ｍｍｏｌ）を滴下し、全体を２５℃で５時間撹拌した。反応終了後、ジクロロメタン層を取り出し、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下濃縮した。残った粗生成物を減圧蒸留にて精製して目的物である（Ｒ）−２−メチルエピクロロヒドリン２．１４ｇ（２０．１ｍｍｏｌ、収率８２．３％、光学純度９９％ｅｅ）を無色透明油状物質として得た。
本発明により得られるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類は、特にその光学活性体においては、医薬品の原料として使用することができる。
Claims (19)
- 一般式（１）
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（２）
で表される３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（３）
で表される水酸基含有アリール化合物と反応させ、アリールオキシ化により、一般式（４）
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類を得、ついでこれに有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（５）
Ｒ１ＳＯ２Ｃｌ
（５）
［式中、Ｒ１は置換若しくは無置換アラルキル基、または置換若しくは無置換芳香族基を意味する。］
で表されるスルホニルハライド類を作用させ、１級水酸基のスルホニル化により、一般式（６）
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類を得、ついでこれを一般式（７）
で表される第４級アンモニウム塩の存在下、非水溶性有機溶媒と塩基性水溶液の二相系でエポキシ化することにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。 - 一般式（２）におけるハロゲン原子（Ｘ）が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群より選択される原子である請求項１記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 水酸基含有アリール化合物（３）が、置換若しくは無置換フェノール、水酸基を有する多環式芳香族化合物、または水酸基を有する複素環式芳香族化合物である請求項１または２に記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 置換フェノールの置換基が、飽和もしくは不飽和アルキル基、エーテル結合を有するアルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、アミド基、カルバモイル基、アシル基、ニトロ基、または、フェノールの隣接炭素原子と一緒に環を形成するテトラメチレン基若しくはメチレンジオキシ基である請求項３に記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- アリールオキシ化に使用する塩基が、アルカリ金属の水素化物、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ金属の炭酸水素塩、炭素数１〜４の低級アルキルアルコールのアルカリ金属塩、およびアルカリ金属のフッ化物塩からなる群より選択される少なくとも１つ請求項１から４のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- アリールオキシ化に使用する塩基が、水素化ナトリウム、炭酸カリウムおよびフッ化セシウムからなる群より選択される化合物である請求項１から５のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- スルホニルハライド（５）が、置換若しくは無置換アラルキルスルホニルハライド、置換若しくは無置換芳香族スルホニルハライドである請求項１から６のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- スルホニル化に用いる塩基がトリアルキルアミン類、トリアリールアミン類、ピリジンおよびピリジン誘導体からなる群より選択される請求項１から７のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- エポキシ化に用いる塩基がアルカリ金属の水酸化物である請求項１から８のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- ３−ハロゲノ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類（２）として光学活性体を用い、光学活性アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造する請求項１から９のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 一般式（１）
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（４）
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１，２−プロパンジオール類に有機溶媒中で塩基の存在下、一般式（５）
Ｒ１ＳＯ２Ｃｌ
（５）
［式中、Ｒ１は置換若しくは無置換アラルキル基、または置換若しくは無置換芳香族基を意味する。］
で表されるスルホニルハライド類を作用させ、１級水酸基のスルホニル化により、一般式（６）
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類を得、ついでこれを一般式（７）
で表される第４級アンモニウム塩の存在下、非水溶性有機溶媒と塩基性水溶液の二相系でエポキシ化することにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。 - 一般式（１）
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（６）
で表される３−アリールオキシ−２−メチル−１−スルホニルオキシ−２−プロパノール類を一般式（７）
で表される第４級アンモニウム塩の存在下、非水溶性有機溶媒と塩基性水溶液の二相系でエポキシ化することにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。 - 一般式（８）
で表されるアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法において、一般式（９）
で表される２−メチルエピハロヒドリン類を塩基、および一般式（１０）
で表される第四級アンモニウム塩の存在下、一般式（１１）
で表される水酸基含有アリール化合物と、非水溶性有機溶媒と水溶液の二相系中で反応させることにより、アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（１）を製造することを特徴とするアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。 - 一般式（２）におけるハロゲン原子Ｘが、フッ素原子，塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群より選択される原子である請求項１３記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 水酸基含有アリール化合物が、置換若しくは無置換フェノール、水酸基を有する多環式芳香族化合物、または、水酸基を有する複素環式芳香族化合物である請求項１３または１４に記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 置換フェノールの置換基が、飽和もしくは不飽和アルキル基、エーテル結合を有するアルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、アミド基、カルバモイル基、アシル基、ニトロ基、または、隣接する炭素原子間で橋を形成しているテトラメチレン基若しくはメチレンジオキシ基である請求項１３から１５のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 塩基がアルカリ金属の水酸化物である請求項１３から１６のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- 非水溶性有機溶媒が、トルエン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルまたは１，２−ジクロロエタンである請求項１３から１７のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
- ２−メチルエピハロヒドリン類（９）として光学活性体を用い、光学活性アリール ２−メチルグリシジルエーテル類（８）を製造する請求項１３から１８のいずれかに記載のアリール ２−メチルグリシジルエーテル類の製造法。
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|---|---|---|---|---|
| EP2061101A2 (en) | 2007-11-15 | 2009-05-20 | Sony Corporation | Piezoelectric device, angular velocity sensor, and method of manufacturing a piezoelectric device |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60208973A (ja) * | 1984-03-31 | 1985-10-21 | Kowa Co | 循環系疾患治療剤 |
| JPH0532651A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フツ素不飽和グリシジルエーテル及びその製造方法 |
| JPH06306067A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-11-01 | Arco Chem Technol Lp | 光学活性エポキシアルコール誘導体の製造方法 |
| JP2003509432A (ja) * | 1999-09-14 | 2003-03-11 | アベンティス・ファーマスーティカルズ・インコーポレイテツド | Ｄ４拮抗剤として有用なチエノイソキサゾリル−およびチエニルピラゾリル−フェノキシ置換プロピル誘導体 |
-
2006
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60208973A (ja) * | 1984-03-31 | 1985-10-21 | Kowa Co | 循環系疾患治療剤 |
| JPH0532651A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フツ素不飽和グリシジルエーテル及びその製造方法 |
| JPH06306067A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-11-01 | Arco Chem Technol Lp | 光学活性エポキシアルコール誘導体の製造方法 |
| JP2003509432A (ja) * | 1999-09-14 | 2003-03-11 | アベンティス・ファーマスーティカルズ・インコーポレイテツド | Ｄ４拮抗剤として有用なチエノイソキサゾリル−およびチエニルピラゾリル−フェノキシ置換プロピル誘導体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2061101A2 (en) | 2007-11-15 | 2009-05-20 | Sony Corporation | Piezoelectric device, angular velocity sensor, and method of manufacturing a piezoelectric device |
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