JP2007294504A - 積層型電子部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 絶縁体層と導体パターンを印刷により積層し、積層体内に回路素子が形成される。導体パターンを形成するための導体ペーストとして沸点が200℃以上の溶剤を含有するものが用いられ、かつ、導体ペーストを印刷する際の印刷スクリーンマスクに60%以上の開口率を有するスクリーンメッシュが用いられる。また、導体パターンを形成するための導体ペーストと絶縁体層を形成するための絶縁体ペーストとが加温された状態で印刷される。
【選択図】 図1
Description
この種の積層型電子部品の製造方法に、印刷により絶縁体層と導体パターンを積層する印刷積層法がある(例えば、特許文献1、2を参照。)。この印刷積層法では、絶縁体層のひび割れを防止し、導体パターンの印刷制度を保つために、図3(A)に示す様に支持体30上に加温された状態でセラミックスを印刷して絶縁体層31Aを形成した後、図3(B)に示す様に冷却台C上でこの絶縁体31Aを冷却し、図3(C)に示す様にこの絶縁体層31A上に常温の状態で導体ペーストを印刷して導体パターン32が形成される。この導体パターン32が形成された絶縁体層31A上には、図3(D)に示す様に加温された状態でセラミックスを印刷して絶縁体層31Bが形成される。そして、図3(B)乃至図3(D)を所定の回数繰り返して積層体内にコイルが形成される。
図1は本発明の積層型電子部品の製造方法の実施例を示す断面図である。
まず、図1(A)に示す様に、支持体10上に加温された状態で絶縁体ペーストを印刷して絶縁体層11Aが形成される。絶縁体ペーストは、磁性体や誘電体等のセラミックスにαターピネオールや、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の溶剤を添加してペースト状にしたものが用いられ、60〜80℃に加温された状態で支持体10上に印刷される。
次に、図1(B)に示す様に、絶縁体層11Aの上面に導体パターン12が形成される。導体パターン12は、絶縁体層11Aにスクリーン印刷用マスク(図示を省略)を搭載し、60〜80℃に加温された状態でこのスクリーン印刷用マスク上の導体ペーストをスキージで捌いて絶縁体層の上面に導体パターンを印刷することにより形成される。導体ペーストは、銀等の導電材料にα−ターピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、2.2.4−トリメチル−1.3−ペンタンジオールモノイソブチレート等の200℃以上の沸点を有する溶剤を添加してペースト状にしたものが用いられる。また、スクリーン印刷マスクはそのメッシュが60%以上の開口率を有するものが用いられる。なお、図1では、複数個の積層型電子部品を一度に製造するために(いわゆる複数個取りするために)、絶縁体層の表面に複数個の導体パターンが形成されている。
続いて、図1(C)に示す様に、この導体パターン12が形成された絶縁体層11A上にスクリーン印刷用マスク(図示を省略)を搭載し、60〜80℃に加温された状態でこのスクリーン印刷用マスク上の絶縁体ペーストをスキージで捌いて絶縁体層11A上に絶縁体層11Bが印刷される。絶縁体ペーストは、絶縁体層11Aの場合と同様に磁性体や誘電体等のセラミックスにαターピネオールや、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の溶剤を添加してペースト状にしたものが用いられる。
そして、所定のターン数が得られるまで、図1(A)乃至図1(C)を繰り返して積層体内に螺旋状のコイルパターンが形成される。この積層体は、所定の形状に切断された後、端面に外部電極が設けられ、コイルパターンの端が外部電極に接続される。
11A、11B 絶縁体層
12 導体パターン
Claims (1)
- 絶縁体層と導体パターンを印刷により積層し、積層体内に回路素子が形成された積層型電子部品の製造方法において、
該導体パターンを形成するための導体ペーストとして沸点が200℃以上の溶剤を含有するものが用いられ、かつ、該導体ペーストを印刷する際の印刷スクリーンマスクに60%以上の開口率を有するスクリーンメッシュが用いられ、該導体パターンを形成するための導体ペーストと該絶縁体層を形成するための絶縁体ペーストとが加温された状態で印刷されたことを特徴とする積層型電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006117562A JP2007294504A (ja) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | 積層型電子部品の製造方法 |
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JP2006117562A JP2007294504A (ja) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | 積層型電子部品の製造方法 |
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JP2006117562A Pending JP2007294504A (ja) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | 積層型電子部品の製造方法 |
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JP (1) | JP2007294504A (ja) |
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- 2006-04-21 JP JP2006117562A patent/JP2007294504A/ja active Pending
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110318 |
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A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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