JP2007288036A - クラスター型真空成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】クラスター型真空成膜装置1は、クラスター型の中央搬送室2と、この中央搬送室の周囲に設けたロード室7および複数の成膜室3〜6を備える。複数の成膜室3〜6は、収納することができる基板トレイの個数を異にする成膜室を含み、中央搬送室2は、複数の成膜室に基板トレイを搬送する搬送機構8を有する。搬送機構8は、各成膜室に対し、成膜室が収納することができる基板トレイの個数に応じた基板トレイを選択的に搬送する。
【選択図】図1
Description
Claims (7)
- クラスター型の中央搬送室と、当該中央搬送室の周囲に設けたロード室および複数の成膜室を備え、
前記複数の成膜室は、収納することができる基板トレイの個数を異にする成膜室を含み、
前記中央搬送室は、前記複数の成膜室に基板トレイを搬送する搬送機構を有し、
当該搬送機構は、各成膜室に対し、当該成膜室が収納することができる基板トレイの個数に応じた基板トレイを選択的に搬送することを特徴とする、クラスター型真空成膜装置。 - 前記成膜室は、1つの基板トレイを収納することができる複数の第1の成膜室と、複数の基板トレイを収納することができる少なくとも1つの第2の成膜室を有し、
前記ロード室は、同一の搬送動作で複数枚の基板を中央搬送室に対して導入あるいは導出し、
前記搬送機構は、中央搬送室内に導入された複数個の基板トレイの内で、1つあるいは複数の基板トレイを選択的に搬送する複数の搬送系を有し、
前記複数の搬送機系から選択した一つの搬送系により、前記複数の基板トレイから選択した1つの基板トレイを第1の成膜室に搬送し、
前記複数の搬送機系から選択した複数の搬送系により、前記複数の基板トレイを第2の成膜室に搬送することを特徴とする、請求項1に記載のクラスター型真空成膜装置。 - 前記複数の搬送系は、前記中央搬送室内において一体で回転自在であり、各搬送系は回転中心から径方向に偏芯した位置に設置することを特徴とする、請求項2に記載のクラスター型真空成膜装置。
- 前記複数の第1の成膜室は、前記中央搬送室の周囲において、前記回転中心を通る径に対して偏芯した位置に配置され、
前記複数の搬送系は、当該搬送系の搬送位置において、搬送方向の延長上に第1の成膜室の配置位置があることを特徴とする、請求項3に記載のクラスター型真空成膜装置。 - 前記第1の成膜室が有する2つの成膜室は、前記中央搬送室を挟んで対向する位置に設置され、
前記当該搬送系の搬送位置において、前記複数の搬送系は、対向する位置に設置された第1の成膜室の2つの成膜室に対して、それぞれ逆方向に基板トレイを搬送することを特徴とする、請求項4に記載のクラスター型真空成膜装置。 - 前記第1の成膜室は、対向配置される2枚の電極を有し、
前記第2の成膜室は、両面に電極を有する中央電極と、当該中央電極と対向する1枚の電極を有する2つの外電極を含む4枚の電極を有し、
前記搬送機構は、第1の成膜室に対して1つの基板トレイを搬送し、
第2の成膜室に対して2つの基板トレイを搬送することを特徴とする、請求項1から請求項5の何れかに記載のクラスター型真空成膜装置。 - 前記1つの基板トレイは、1枚又は2枚の基板を載置することを特徴とする、請求項6に記載のクラスター型真空成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4761056B2 JP4761056B2 (ja) | 2011-08-31 |
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JP (1) | JP4761056B2 (ja) |
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