JP2007281508A - ドライ・エッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ドライ・エッチング装置は凸型の凸部を有する下部電極46と下部電極を絶縁させるための4個の″L″字形状のセラミック片50a〜50dからなる下部セラミック50とから構成される。4個のセラミック片は階段状で段差になるように形成されて相互に契合し、さらに下部電極の凸部の側面に密着する。この構造により、下部電極のプラズマの異常放電またはアーキングを防止することができるので高周波信号の電力の漏洩を防止してチャンバー内のプラズマ密度を向上させることでエッチングを安定させることができる。
【選択図】図4
Description
高周波信号電力(RFパワー) 2500W
Cl2ガス流量 150sccm
SF5ガス流量 200sccm
チャンバ内の圧力 100Mt
20:ゲート電極
22:ゲート絶縁膜
26:オーミック接触層
28:ソース電極
30:ドレーン電極
32:保護膜
34:画素電極
40:上部電極
42:ホール
44:側壁セラミック
46:下部電極
47、51:ギャップ
48、50:下部セラミック
50a乃至50d:セラミック片
Claims (2)
- 下部電極と前記下部電極を絶縁させるための下部セラミックとを具備するドライエッチング装置において、前記下部電極は凸型の凸部を有し、かつ前記下部セラミックは、上下方向と左右方向に移動することができるように4分割され、階段状で段差になるように形成されて相互に契合し、さらに前記下部電極の凸部の側面に密着する4個の″L″字の形状のセラミック片からなり、前記4個の″L″字の形状のセラミック片のそれぞれの末端は前記下部電極の一側の中央部に位置することを特徴とするドライ・エッチング装置。
- 前記″L″字の形状のセラミック片の上部面は前記下部電極の凸型で突出された凸部と実質的に同一な水平面上に位置することを特徴とする請求項1記載のドライ・エッチング装置。
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