JP2007280877A - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロ波プラズマを発生させる円筒状の真空室5と、真空室5内にマイクロ波エネルギーを導入するマイクロ波源2及び導波管3と、真空室5内に設置された被処理物用支持体7と、真空室5内に同軸状に設置された導体8とを含み、導体8は、一端面が被処理物支持体7の近傍に位置するように設置され、被処理物支持体7側に位置する導体8の端部用部材8bが交換可能である。
【選択図】図2
Description
電気学会・マイクロ波プラズマ調査専門委員会編、「マイクロ波プラズマの技術」、オーム社発行、151〜152頁
1.マイクロ波プラズマを発生させる円筒状の真空室と、
該真空室内にマイクロ波エネルギーを導入する手段と、
該真空室内に設置された被処理物用支持体と、
該真空室内に同軸状に設置された導体とを含み、
該導体は、一端面が被処理物支持体の近傍に位置するように設置され、該支持体側に位置する導体の端部用部材が交換可能であるマイクロ波プラズマ処理装置。
2.真空室内に同軸状に設置される導体において、端部用部材を除いた導体本体が円柱又は円錐台の形状を有する上記項1に記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
3.導体の交換可能な端部用部材が、円柱又は円錐台の形状を有する上記項1又は2に記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
4.導体の支持体側の端面が平面又は湾曲した凹面である上記項1〜3のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
5.被処理物用支持体と導体の該支持体側の端面との間隔が、マイクロ波の自由空間波長をλとした場合にλ/2以下である上記項1〜4のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
6.被処理物用支持体側の導体の端面の直径が、マイクロ波の自由空間波長以下である請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
3 マイクロ波を伝搬させる導波管、 4 マイクロ波導入石英窓
5 空洞共振器型の反応容器、 5a 原料ガス導入口
5b 排気口、 6 内部に冷却水Wが通っている冷却ステージ
6aステージ天面、 7 被処理物用支持体、 7a 支持体天面、
8 導体、 8a 導体の支持体側の端面、
8b 交換可能な端部用部材、 8c 導体本体
9 マイクロ波の通過路、
10 空間部分、 11 端部用部材の交換口
Claims (6)
- マイクロ波プラズマを発生させる円筒状の真空室と、
該真空室内にマイクロ波エネルギーを導入する手段と、
該真空室内に設置された被処理物用支持体と、
該真空室内に同軸状に設置された導体とを含み、
該導体は、一端面が被処理物支持体の近傍に位置するように設置され、該支持体側に位置する導体の端部用部材が交換可能であるマイクロ波プラズマ処理装置。 - 真空室内に同軸状に設置される導体において、端部用部材を除いた導体本体が円柱又は円錐台の形状を有する請求項1に記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
- 導体の交換可能な端部用部材が、円柱又は円錐台の形状を有する請求項1又は2に記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
- 導体の支持体側の端面が平面又は湾曲した凹面である請求項1〜3のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
- 被処理物用支持体と導体の該支持体側の端面との間隔が、マイクロ波の自由空間波長をλとした場合にλ/2以下である請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
- 被処理物用支持体側の導体の端面の直径が、マイクロ波の自由空間波長以下である請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
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