JP2007278314A - 積層皮膜を有するピストンリング - Google Patents
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Abstract
【解決手段】イオンプレーティング法により、Tiと炭素、窒素から構成される化合物層(TiCN)とCrと炭素、窒素から構成される化合物層(CrCN)とを交互に積層されて形成した積層皮膜を外周摺動面に有するピストンリングとする。尚、積層皮膜の炭素濃度を4〜8重量%とすること、該積層皮膜を3〜9nmの厚さの化合物層を交互に積層した皮膜とすると一層よい。
【選択図】図1
Description
尚、ここで云うTiCN層、CrCN層は化学量論的な組成を意味するものではない。
で皮膜の欠けが発生した。空孔率が2%以上のものは破壊靭性値が2.63 MPa・
以上あり、皮膜の欠けは認められなかったが、皮膜硬度がHv1008〜1530と比較的低硬度なためか摩耗量が空孔率ほぼ0%のものに比べ1.3〜2倍、と大きかった。このことから、本発明者等は破壊靭性値が約3 MPa・
以上あり、皮膜硬度がHv1700以上あれば、現在のディーゼルエンジンのTopリングに使用しても欠けを生じず、且つ、耐摩耗性にも優れた皮膜になるとの確信を得た。
以上とすることができるので、現在最も過酷であるディーゼルエンジンのTopリングに使用しても皮膜の欠けが生じない耐久性に優れたピストンリングを得ることが出来る。
以下となることが解った。従って、炭素濃度は4〜8重量%で有ることが必要である。
図1は本発明の実施形態である鋼製ピストンリングの縦断面図である。ピストンリング1の全周面にはビッカース硬さ700以上の白層を有しない窒化層2が形成されており、窒化層2の上には窒化クロム或いはその傾斜皮膜3及び積層皮膜4がアークイオンプレーティングによって成分の異なる皮膜が交互に被覆されている。尚、窒化層2は図2、図3のピストンリングの縦断面図にあるように、側面と内周のみに窒化層2があるもの、窒化層2がないものでもよい。窒化クロム或いはその傾斜皮膜3は炭素を固溶していないCrN等からなる応力緩和層である。皮膜の密着性に問題が生じない場合は窒化クロム或いはその傾斜皮膜3を省いてもよい。ピストンリング材としては鋼以外に鋳鉄も使用することが出来る。
次に、本発明に用いたアークイオンプレーティング装置及びアークイオンプレーティング方法による皮膜の形成方法について詳述する。
TiCN層層及びCrCN層層の各層の厚さは、アーク電流とテーブル回転速度により制御可能である。成膜速度をT(μm/min)、テーブル回転速度をR(rpm)とすると、各層の厚さH(nm/回転)は、H∝T / Rで表される。ここで成膜速度Tは、積層皮膜を形成する化合物単体をこのアークイオンプレーティング装置でイオンプレーティング処理したときの成膜速度であり、成膜中のアーク電流の大きさと比例関係にある。よってアーク電流を下げる、又はテーブル回転速度を上げると各層の厚さは小さくなる。そのため、積層皮膜の各層の厚さを制御するには、予め図5に示したような積層皮膜を形成する化合物単体のアーク電流値と成膜速度の関係を調べておけばよい。ただし、この関係は同じイオンプレーティング装置を用いても炉内構造や使用ターゲットの形状、ターゲットと被処理物本体との距離などにより変化する。
以上破壊靭性値が必要であるから、炭素濃度を先に決定しなければならない。尚、高いバイアス電圧はピストンリングの熱変形を招くことから0〜-100Vとすることが必要である。
以下に実施例を示して具体的に本発明を説明する。
矩形形状をした断面寸法2.5×4.3mm の17Crステンレス鋼ピストンリング線材をφ135mm のリング状に曲げ成形後、歪取り焼鈍処理し合口隙取り、側面研磨、外周面研磨を行った。その後、ピストンリング外周面に窒化処理を施しこれを超音波洗浄により脱脂した。又、ピストンリング母材と皮膜との密着性を向上させるため、母材表面をサンドブラスト処理し表面粗さを1.0〜4.5μm Rzjisに仕上げ、エアーブローで表面のゴミを除去した。又、ピンオンディスク摩耗試験用のテストピースは断面寸法が5×5mm、高さ20mmの17Crステンレス鋼ピストンリング線材を先端20Rに研磨し、イオンプレーティング皮膜を成膜後、表面粗さをRzjis=0.4μm以下に仕上げ加工したものを超音波洗浄により脱脂したものを用い、ディスク材はφ120×12mmのSUJ2鋼を表面粗さRzjis=0.8〜1.6μmに仕上げたものを用いた。
次に、得られた皮膜について、ピストンリングを用いて下記方法にて皮膜調査すると共に摩耗試験片を用いて摩耗試験を実施した。
各試料の各層の厚さは、粉末X線回折装置(リガク社製RINT2100)を用いてCuKα線を使用し、走査範囲2θ=35〜50°、印加電圧40kV、印加電流30mA 、スキャンステップ0.02°、スキャン速度2°/min、発散スリット1deg 、受光スリット0.3mmの条件でX線回折パターンを測定し、(111)回折ピーク付近に出現するサテライトピークのサテライト反射角度から以下の式を用いて各層の厚さを算出した(図6)。
皮膜中の炭素濃度は日本電子製電子線マイクロアナライザー, EPMA(JEOL JXA-8600S)にて加速電圧15kV、プローブ電流5×10-8Aの条件で定量分析を実施した。
(3)皮膜硬さの測定
皮膜硬さはアカシ社製マイクロビッカース硬度計を用いて荷重50gf、時間15secの条件で皮膜断面硬さを計測した。
前述のように、ビッカース圧子を積層皮膜断面中央部に押し込むことによって生じる圧痕及びクラック長さを測定し、押込荷重、圧痕の対角線長さ、クラック長さから破壊靱性値を求めた。ここで、試験荷重は200gfとし時間は15secとした。又、破壊靱性値の算出に用いる弾性率は240263MPaとした。
耐摩耗性はスス入りオイルを用いた摩耗試験により摩耗特性を評価した。以下にスス入りオイルを用いた摩耗試験の試験条件と摩耗特性の評価方法を示す。摩耗試験は図7に示したようなピンオンディスク試験である。
試験条件
試験荷重130.2N 摺動速度0.5m/sec
使用オイル: スス入りオイル (三菱化学株式会社製ダイアコンタミナント WEAR)
供給量:0.5cc/min
試験時間:4時間
評価方法
試験終了後ピン摺動面の画像を撮影し、画像から得られる摩耗痕の幅から以下に示す式により摩耗重量を算出した。尚、皮膜の密度は全て7.75×103Kg/m3とした。
以上有る皮膜は試料NO. 1-3〜NO.1-7で、炭素濃度が約4重量%〜約8重量%であった。皮膜硬さは何れの試料もHv1800以上有り、比較例であるCrN単層膜に比べ耐摩耗性も同等以上であった。CrN皮膜に炭素のような浸入型の固溶元素を導入されると結晶粒内を強化すると共に、積層皮膜各界面が強化されると考えら、その結果として、破壊靭性値が上昇すると考えられる。しかし、その量が一定量を超えると、皮膜の内部応力が強くなりすぎるため、脆くなり破壊靭性値が再び低下したものと思われる。実施例1の結果から、炭素濃度が4〜8重量%の皮膜は破壊靭性値が3MPa・
以上有り耐欠け性に優れると共に耐摩耗性も従来のCrN単層膜以上であることが認められた。
以上あり目標を達成していた。しかしながら、各層の厚さが2.7nm以下の皮膜及び各層の厚さが約10.2nm以上の皮膜は従来の皮膜である比較例1のCrN単層膜に比べ硬度が低く且つ耐摩耗性が同等以下であった。以上のことから、TiCN層層とCrCN層層とからなる積層皮膜における一層あたりの膜厚は3〜9nmが最適であることが確認できた。しかしながら、一層あたりの膜厚は2.7nm以下或いは約10.2nm以上であっても、従来の空孔のあるCrN皮膜(比較例2)よりも皮膜硬度が高いことや空孔がないことから耐摩耗性で優れており、ディーゼルエンジンのTopリングに使用できるものと思える。尚、積層皮膜に於いて転位は層内と層と層の境界に於いて運動することにより塑性変形を起こす。そのため、各層の厚さを小さくすることは、この転位の堆積(ホールペッチ型強化機構)や層の界面における格子ひずみを増大し、積層皮膜の硬さは上昇させる効果が有り、耐摩耗性を向上させる。しかしながら、層間隔を小さくしすぎると層間における境界すべりが生じてしまい急激な硬度低下をまねく結果耐摩耗性も劣化する物と考えられる。
12:ガス導入口
13:排気口
14:真空容器
15:アーク電源
16:第一ターゲット
17:アーク電源
18:第二ターゲット
19:バイアス電源
20:回転テーブル
21:ヒーター21
Claims (3)
- イオンプレーティング法による積層皮膜を少なくとも外周摺動面に有するピストンリングであって、前記積層皮膜がTiと炭素、窒素から構成される化合物層とCrと炭素、窒素から構成される化合物層とが交互に積層されて形成されていることを特徴とするピストンリング。
- 該積層皮膜の炭素濃度が4〜8重量%であることを特徴とする請求項1記載のピストンリング。
- 該積層皮膜が3〜9nmの該化合物層を交互に積層することで形成されていることを特徴とする請求項1及び2記載のピストンリング。
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