JP2007273593A - 半導体記憶装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る不揮発性メモリは、基板1と、基板1上に形成されたスプリットゲート型のメモリセルトランジスタMCと、基板1上に形成されたリファレンストランジスタRTとを備える。リファレンストランジスタRTは、メモリセルトランジスタMCに記憶されたデータのセンスに用いられる基準電流Irefを生成する。メモリセルトランジスタMCは、浮遊ゲート20と制御ゲート50を有する。一方、リファレンストランジスタRTは、単一のゲート電極150を有するMISトランジスタである。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施の形態に係る不揮発性メモリの構造を示す断面図である。図1には、不揮発性メモリセルとして用いられるメモリセルトランジスタMCと、リファレンストランジスタRTが示されている。リファレンストランジスタRTは、メモリセルトランジスタMCに記憶されたデータのセンスに用いられる基準電流Irefを生成するためのトランジスタである。
次に、本実施の形態に係る不揮発性メモリの動作例を説明する。図2は、プログラム動作を概念的に示している。プログラムは、チャネルホットエレクトロン(CHE:Channel Hot Electron)方式で行われる。この時、拡散層60bがソースとなり、拡散層60aがドレインとなる。例えば、制御ゲート50(CG)には+1.8Vの電圧が印加され、ソース60bには約0.25Vの電圧が印加され、ドレイン60aには+9.5Vの電圧が印加される。ソース60bから放出された電子は、チャネル領域の強電界により加速され、チャネルホットエレクトロンとなる。特に、ドレイン60aと浮遊ゲート20とのカップリングによって浮遊ゲート20の電位も高くなっており、制御ゲート50と浮遊ゲート20との間の狭いギャップには強電界が発生する。その強電界により生成された高エネルギーのチャネルホットエレクトロンが、ゲート絶縁膜2を通して浮遊ゲート20(FG)に注入される。そのような注入は、ソースサイドインジェクション(SSI: Source Side Injection)と呼ばれている。SSIによれば、電子注入効率が向上し、印加電圧を低く設定することが可能となる。浮遊ゲート20に電子が注入されることにより、メモリセルトランジスタMCの閾値電圧が上昇する。
3−1.メモリセルトランジスタ
図6A〜図6Oを参照して、本実施の形態に係るメモリセルトランジスタMCの製造工程の一例を説明する。まず、基板1としてシリコン基板が提供され、その基板1中にPウエル1aが形成される。そして、図6Aに示されるように、基板1(Pウエル1a)上に、ゲート絶縁膜2が成膜される。続いて、ゲート絶縁膜2上に、第1ゲートポリシリコン膜3が形成される。後に示されるように、第1ゲートポリシリコン膜3は、浮遊ゲート20となる。
図7A〜図7Cを参照して、リファレンストランジスタRTの製造工程の第1の実施形態を説明する。例えば、第1領域R1に上述のメモリセルトランジスタMCが形成された後、第2領域R2にリファレンストランジスタRTが形成される。
リファレンストランジスタRTは、上述のメモリセルトランジスタMCの製造工程の一部を利用して形成することもできる。つまり、メモリセルトランジスタMCの形成と同時に、リファレンストランジスタRTをも形成することが可能である。図8A〜図8Dを参照して、リファレンストランジスタRTの製造工程の第2の実施形態を説明する。
第2の実施の形態において、更に、論理回路で用いられるロジックトランジスタLTが製造されてもよい。そのロジックトランジスタLTは、上述のリファレンストランジスタRTと全く同一の工程により、同時に形成されてもよい。その場合、製造されるリファレンストランジスタRT及びロジックトランジスタLTは、ほぼ同じ特性を有するようになる。また、ロジックトランジスタLTに対してリファレンストランジスタよりも高い加工精度が要求される場合、ロジックトランジスタLTは、リファレンストランジスタRTと独立して製造されてもよい。その場合のプロセスの一例を以下に説明する。
1a、101a、201a ウエル
2 ゲート絶縁膜
3 第1ゲートポリシリコン膜
4 窒化膜
5 レジストマスク
6 第1酸化膜
7 第1スペーサ
8 第2酸化膜
9 第2スペーサ
10 コンタクト
20 浮遊ゲート
20a チップ部
30 トンネル酸化膜
40 第2ゲートポリシリコン膜
50 制御ゲート
60,160,260 拡散層(ソース/ドレイン)
71 レジストマスク
72 マスク
130,230 ゲート絶縁膜
140,240 ゲートポリシリコン膜
141,142,241,242 レジストマスク
150,250 ゲート電極
MC メモリセルトランジスタ
RT リファレンストランジスタ
LT ロジックトランジスタ
SA センスアンプ
Claims (15)
- 基板と、
前記基板上に形成されたスプリットゲート型のメモリセルトランジスタと、
前記基板上に形成され、前記メモリセルトランジスタに記憶されたデータのセンスに用いられる基準電流を生成するためのリファレンストランジスタと
を備え、
前記メモリセルトランジスタは、浮遊ゲートと制御ゲートを有し、
前記リファレンストランジスタは、単一のゲート電極を有するMISトランジスタである
半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置であって、
前記メモリセルトランジスタは、前記浮遊ゲートと前記制御ゲートが部分的にオーバラップした積層構造を有し、
前記リファレンストランジスタは、前記単一のゲート電極からなる単層構造を有する
半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置であって、
前記リファレンストランジスタのスイッチングは、前記単一のゲート電極だけで行われる
半導体記憶装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体記憶装置であって、
前記単一のゲート電極の材質は、前記制御ゲートの材質と同じである
半導体記憶装置。 - 請求項4に記載の半導体記憶装置であって、
前記メモリセルトランジスタは、前記基板と前記制御ゲートとの間に介在する第1ゲート絶縁膜を更に有し、
前記リファレンストランジスタは、前記基板と前記単一のゲート電極との間に介在する第2ゲート絶縁膜を更に有し、
前記第2ゲート絶縁膜の材質または膜厚は、前記第1ゲート絶縁膜のものと等しい
半導体記憶装置。 - 請求項5に記載の半導体記憶装置であって、
前記メモリセルトランジスタは、前記基板中に形成された第1拡散層を更に有し、
前記リファレンストランジスタは、前記基板中に形成された第2拡散層を更に有し、
前記第2拡散層における不純物濃度分布は、前記第1拡散層における不純物濃度分布と等しい
半導体記憶装置。 - 請求項6に記載の半導体記憶装置であって、
前記メモリセルトランジスタは、前記基板中の第1ウエルに設けられ、
前記リファレンストランジスタは、前記基板中の第2ウエルに設けられ、
前記第2ウエルにおける不純物濃度分布は、前記第1ウエルにおける不純物濃度分布と等しい
半導体記憶装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体記憶装置であって、
更に、論理回路に用いられるロジックトランジスタを備え、
前記リファレンストランジスタと前記ロジックトランジスタは、同一の構造を有する
半導体記憶装置。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体記憶装置であって、
前記メモリセルトランジスタは、ソース/ドレインにつながるコンタクトを更に有し、
前記浮遊ゲートは、前記コンタクトと前記制御ゲートの間に配置され、
前記浮遊ゲートは、前記制御ゲートとオーバラップする部分において前記浮遊ゲートから前記制御ゲート方向にとがった形状を有する
半導体記憶装置。 - 請求項9に記載の半導体記憶装置であって、
前記浮遊ゲートは、前記コンタクトの両側に設けられた第1浮遊ゲートと第2浮遊ゲートを含み、
前記第1浮遊ゲート及び前記第2浮遊ゲートのそれぞれは、前記制御ゲートとオーバラップする部分において前記制御ゲート方向にとがった形状を有し、
前記制御ゲートは、前記コンタクトの両側に設けられた第1制御ゲートと第2制御ゲートを含む
半導体記憶装置。 - (A)基板上にスプリットゲート型のメモリセルトランジスタを形成する工程と、
(B)前記基板上に、前記メモリセルトランジスタに記憶されたデータのセンスに用いられる基準電流を生成するためのリファレンストランジスタを形成する工程と
を有し、
前記(B)工程は、
(B1)前記基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
(B2)前記ゲート絶縁膜上にポリシリコン膜を堆積する工程と、
(B3)所定のパターンを有するマスクを用いて前記ポリシリコン膜をエッチングし、単一のゲート電極を形成する工程と、
(B4)前記単一のゲート電極をマスクとして用い、イオン注入により前記基板中に第1拡散層を形成する工程と
を含む
半導体記憶装置の製造方法。 - 請求項11に記載の半導体記憶装置の製造方法であって、
前記(A)工程は、
(A0)前記基板上に、絶縁膜を介して浮遊ゲートを形成する工程と、
(A1)前記(B1)工程と同時に、全面に前記ゲート絶縁膜を形成する工程と、
(A2)前記(B2)工程と同時に、全面に前記ポリシリコン膜を形成する工程と、
(A3)前記(B3)工程と同時に、前記ポリシリコン膜をエッチバックし、制御ゲートを形成する工程と、
(A4)前記(B4)工程と同時に、前記浮遊ゲート及び前記制御ゲートをマスクとして用いて、前記イオン注入により前記基板中に第2拡散層を形成する工程と
を含む
半導体記憶装置の製造方法。 - 請求項12に記載の半導体記憶装置の製造方法であって、
前記(A0)工程は、
(a1)前記基板上に前記絶縁膜を介して第1ポリシリコン膜を形成する工程と、
(a2)前記第1ポリシリコン膜上に窒化膜を形成する工程と、
(a3)第1領域における前記窒化膜の全てと前記第1ポリシリコン膜の一部を、エッチングにより除去する工程と、
(a4)全面に第1酸化膜を堆積する工程と、
(a5)前記第1酸化膜をエッチバックすることにより、前記第1領域中の前記第1ポリシリコン膜の一部上に第1スペーサを自己整合的に形成する工程と、
(a6)前記第1スペーサをマスクとして用い、前記第1領域中の前記第1ポリシリコン膜をエッチングする工程と、
(a7)全面に第2酸化膜を堆積する工程と、
(a8)前記第2酸化膜をエッチバックすることにより、前記第1領域中の前記第1ポリシリコン膜に隣接する第2スペーサを自己整合的に形成する工程と、
(a9)前記第1領域外の前記窒化膜を除去する工程と、
(a10)前記第1スペーサをマスクとして用い、前記第1領域外の前記第1ポリシリコン膜をエッチングすることにより、前記浮遊ゲートを自己整合的に形成する工程と
を含む
半導体記憶装置の製造方法。 - 請求項11に記載の半導体記憶装置の製造方法であって、
前記(B)工程において、前記リファレンストランジスタと共に、論理回路で用いられるロジックトランジスタが同時に形成される
半導体記憶装置の製造方法。 - 請求項11に記載の半導体記憶装置の製造方法であって、
更に、(C)前記基板上に、論理回路で用いられるロジックトランジスタを形成する工程を有し、
前記(C)工程は、
(C1)前記(B1)、(B2)工程の後に、前記ロジックトランジスタが形成される領域において前記ポリシリコン膜及び前記ゲート絶縁膜を除去する工程と、
(C2)全面に第2ゲート絶縁膜及び第2ポリシリコン膜を順番に形成する工程と、
(C3)前記第2ポリシリコン膜をエッチングすることにより、前記ロジックトランジスタのゲート電極を形成する工程と
を有し、
前記(B3)工程において、前記ポリシリコン膜、前記第2ゲート絶縁膜、及び前記第2ポリシリコン膜がエッチングされ、前記単一のゲート電極が形成される
半導体記憶装置の製造方法。
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