JP2007266050A - Method of executing schedule of substrate processing apparatus and program thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール実行方法及びそのプログラムに関する。 The present invention relates to a schedule execution method for a substrate processing apparatus for performing a predetermined process on a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device (hereinafter simply referred to as a substrate) and a program therefor.
従来、この種の方法として、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、制御部が、複数の処理工程を含むレシピに基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定し、そのスケジュールに従って各ロットを搬送しつつ順次に処理を行うものが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, as a method of this type, when a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus provided with a plurality of processing units for processing a substrate, the control unit is configured based on a recipe including a plurality of processing steps. In order to process lots sequentially in each processing unit, a processing order of each lot is determined, and processing is performed sequentially while conveying each lot according to the schedule (see, for example, Patent Document 1).
このような基板処理装置のスケジュール実行方法は、実際にロットに対する処理を開始する前に、どのロットをどの処理部でどの時点において処理するか決めてゆくので、効率よくロットを配置することができ、基板処理装置の稼働率を向上させることができる。
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の方法は、ある処理工程で使用される処理部において異常が発生した場合には、その処理部を使用する予定となっているロットの全ての処理を停止させることになる。したがって、一つの処理部で異常が発生した場合に、基板処理装置の稼働率が低下するという問題がある。
However, the conventional example having such a configuration has the following problems.
That is, in the conventional method, when an abnormality occurs in a processing unit used in a certain processing step, all processing of a lot that is scheduled to use the processing unit is stopped. Therefore, there is a problem that the operating rate of the substrate processing apparatus decreases when an abnormality occurs in one processing unit.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、代替処理部へのロットの乗り換えを許容することにより、処理部に異常が発生した場合であっても稼働率の低下を防止することができる基板処理装置のスケジュール実行方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and by allowing the transfer of a lot to an alternative processing unit, even if an abnormality occurs in the processing unit, a reduction in operating rate is prevented. It is an object of the present invention to provide a schedule execution method for a substrate processing apparatus and a program thereof.
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を行うための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づき、制御部が各々のロットを各処理部で順次に処理するための各ロットの処理順序を決定してから処理を実行する基板処理装置のスケジュール実行方法において、一つの処理工程を処理するために優先的に使用される処理部を優先処理部とし、前記優先処理部と同じ処理が可能であって、前記優先処理部とは異なる処理部を代替処理部とした場合に、レシピの処理工程に優先処理部と代替処理部とが指定可能にされ、処理工程に指定されている優先処理部に異常が発生した場合であっても、異常が発生した優先処理部に対応する代替処理部が指定されているレシピで処理されるロットについては、前記代替処理部で処理を行うように前記制御部がスケジュールを変更するとともに、前記制御部がその変更したスケジュールでそのロットの処理を継続的に実行することを特徴とするものである。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, the invention according to
[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、異常が発生した優先処理部に代替処理部が指定されているレシピで処理されるロットについては、代替処理部に乗り換えてロットの処理を行うように制御部がスケジュールを変更するとともに、制御部がその変更したスケジュールでそのロットの処理を継続的に実行する。したがって、処理部に異常が発生しても全てのロットについて処理を停止させる必要がないので、稼働率が低下することを防止することができる。
[Operation / Effect] According to the invention described in
また、本発明において、一つの処理工程に指定されている優先処理部に異常が発生した場合、異常が発生した優先処理部だけが指定されているレシピで処理されるロットについては、前記制御部が前記ロットを待避させる処理を行うとともに、前記優先処理部が使用可能となった時点にて、そのロットについて再スケジュールを行ってから、そのロットの処理を再開することが好ましい(請求項2)。異常が発生した優先処理部だけが指定されているレシピで処理されるロットについては、制御部がそのロットを待避させるとともに、優先処理部の異常が解消された時点にて、そのロットについてスケジュールをした後に処理を再開させる。したがって、優先処理部しかレシピに指定されていないロットの処理に不都合が生じることを防止できる。 Further, in the present invention, when an abnormality occurs in the priority processing unit designated in one processing step, for the lot processed in the recipe in which only the priority processing unit in which the abnormality has occurred is designated, the control unit It is preferable to perform processing for saving the lot, and when the priority processing unit becomes usable, reschedule the lot and then restart the processing of the lot (claim 2). . For lots to be processed with recipes that specify only the priority processing unit in which an abnormality has occurred, the control unit saves the lot and schedules the lot when the priority processing unit is resolved. Then restart the process. Accordingly, it is possible to prevent inconvenience in processing of a lot in which only the priority processing unit is designated in the recipe.
また、本発明において、前記優先処理部は第1の薬液処理部であり、前記代替処理部は第2の薬液処理部であることが好ましい(請求項3)。基板処理装置は、処理効率を高めるために、薬液による処理を行う第1の薬液処理部と、同じ構成の第2の薬液処理部のように同じ処理部をペアで備えていることがある。両薬液処理部は、それぞれ同じ処理を行うように液種や温度などの条件を設定することが可能であるので、同じ条件となるように設定しておけば、一方を優先的に使用する優先処理部とし、他方を代替処理部として設定することができる。 Moreover, in this invention, it is preferable that the said priority process part is a 1st chemical | medical solution process part, and the said alternative process part is a 2nd chemical | medical solution process part (Claim 3). In order to increase the processing efficiency, the substrate processing apparatus may include a pair of the same processing unit as a first chemical processing unit that performs processing using a chemical and a second chemical processing unit that has the same configuration. Both chemical solution processing units can set conditions such as liquid type and temperature so that the same processing is performed, so if they are set to be the same conditions, priority is given to using one preferentially. The other processing unit can be set as the processing unit.
また、本発明において、前記優先処理部は第1の純水洗浄処理部であり、前記代替処理部は第2の純水洗浄処理部であることが好ましい(請求項4)。基板処理装置は、処理効率を高めるために、純水による洗浄処理を行う第1の純水洗浄処理部と、同じ構成の第2の純水洗浄処理部のように同じ処理部をペアで備えていることがある。両純水処理部は、それぞれ同じ処理を行うように純水の温度や流量などの条件を設定することが可能であるので、同じ条件となるように設定しておけば、一方を優先的に使用する優先処理部とし、他方を代替処理部として設定することができる。 In the present invention, it is preferable that the priority processing unit is a first pure water cleaning processing unit, and the alternative processing unit is a second pure water cleaning processing unit. In order to increase the processing efficiency, the substrate processing apparatus includes a pair of the same processing units such as a first pure water cleaning processing unit that performs cleaning processing with pure water and a second pure water cleaning processing unit having the same configuration. There may be. Both pure water treatment units can set conditions such as the temperature and flow rate of pure water to perform the same treatment, so if they are set to be the same conditions, one of them will be given priority. The priority processing unit to be used can be set, and the other can be set as an alternative processing unit.
請求項5に記載の発明は、基板に処理を行うための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づき、制御部が各々のロットを各処理部で順次に処理するための各ロットの処理順序を決定してから処理を実行する基板処理装置のスケジュール実行プログラムにおいて、一つの処理工程を処理するために優先的に使用される処理部を優先処理部とし、前記優先処理部と同じ処理が可能であって、前記優先処理部とは異なる処理部を代替処理部とした場合に、レシピの処理工程に優先処理部と代替処理部とが指定可能にされ、処理工程に指定されている優先処理部に異常が発生した場合であっても、異常が発生した優先処理部に対応する代替処理部が指定されているレシピで処理されているロットについては、前記代替処理部で処理を行うように前記制御部がスケジュールを変更するとともに、前記制御部がその変更したスケジュールでそのロットの処理を継続的に実行するように制御する基板処理装置のスケジュール実行プログラムである。 According to the fifth aspect of the present invention, when a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus provided with a plurality of processing units for processing a substrate, the control unit is configured based on a recipe including a plurality of processing steps. It is preferentially used to process one processing step in a schedule execution program of a substrate processing apparatus that executes processing after determining the processing order of each lot for processing lots sequentially in each processing unit. When the processing unit is a priority processing unit and the same processing as the priority processing unit is possible and a processing unit different from the priority processing unit is used as an alternative processing unit, the priority processing unit and the alternative processing are included in the recipe processing process. Even if an error occurs in the priority processing unit specified in the processing step, processing is performed with a recipe in which an alternative processing unit corresponding to the priority processing unit in which the error has occurred is specified. For the lots that have been processed, the control unit changes the schedule so that processing is performed by the alternative processing unit, and the control unit performs control so that the processing of the lot is continuously executed according to the changed schedule. It is a schedule execution program of a substrate processing apparatus.
本発明に係る基板処理装置のスケジュール実行方法によれば、異常が発生した優先処理部に対応する代替処理部が指定されているレシピで処理されるロットについては、代替処理部に乗り換えてロットの処理を行うように制御部がスケジュールを変更するとともに、制御部がその変更したスケジュールでそのロットの処理を継続的に実行する。したがって、処理部に異常が発生しても全てのロットについて処理を停止させる必要がないので、稼働率が低下することを防止することができる。 According to the schedule execution method of the substrate processing apparatus according to the present invention, a lot processed by a recipe in which an alternative processing unit corresponding to a priority processing unit in which an abnormality has occurred is transferred to the alternative processing unit and the lot is processed. The control unit changes the schedule so as to perform processing, and the control unit continuously executes the processing of the lot with the changed schedule. Therefore, even if an abnormality occurs in the processing unit, it is not necessary to stop the processing for all the lots, so that the operating rate can be prevented from decreasing.
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図2は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment, and FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment.
この基板処理装置は、基板Wに対して薬液処理、純水洗浄処理及び乾燥処理を行うための装置である。基板Wは、複数枚(例えば25枚)がカセット1に対して積層して収納されている。未処理の基板Wを積層して収納したカセット1は、投入部3に載置される。投入部3は、カセット1が載置される載置台5を二つ備えている。基板処理装置のほぼ中央部を挟んだ投入部3の反対側には、払出部7が配設されている。払出部7は、処理済みの基板Wをカセット1に収納して装置外へカセット1ごと払い出す。払出部7は、投入部3と同様に、カセット1を載置するための二つの載置台9を備えている。
This substrate processing apparatus is an apparatus for performing chemical liquid processing, pure water cleaning processing, and drying processing on the substrate W. A plurality of (for example, 25) substrates W are stacked on the
投入部3と払出部7に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第1搬送機構11が配設されている。この第1搬送機構11は、投入部3に載置されたカセット1ごと複数枚の基板Wを第2搬送機構13に対して搬送する。
A
第2搬送機構13は、収納されている全ての基板Wをカセット1から取り出した後、第3搬送機構15に対して全ての基板Wを搬送する。また、第3搬送機構15から処理済みの基板Wを受け取った後、基板Wをカセット1に収容して第1搬送機構11に対して搬送する。
The
第3搬送機構15は、基板処理装置の長手方向に移動可能に構成され、その移動方向の最も手前側には、複数枚の基板Wをチャンバ内に収容して乾燥させるための乾燥処理部17が配置されている。
The
第3搬送機構15が移動する方向のうち、乾燥処理部17に隣接する位置には、第1処理部19が配置され、この第1処理部19に隣接する奥側の位置には第2処理部21が配置されている。
A
第1処理部19は、複数枚の基板Wに対して純水洗浄処理を行うための純水洗浄処理部19aを備えているとともに、複数枚の基板Wに対して薬液処理を行うための薬液処理部19bを備えている。純水洗浄処理部19aと薬液処理部19bを挟んだ第3搬送機構15の反対側の位置には、純水洗浄処理部19aと薬液処理部19bとの間でのみ複数枚の基板Wを受け渡すための副搬送機構19cを備えている。
The
第2処理部21は、上述した第1処理部19と同様の構成を備えている。つまり、純水洗浄処理部21aと、薬液処理部21bと、副搬送機構21cとを備えている。
The
上記の第2搬送機構13に隣接する位置には、カセット洗浄部23が配置されている。このカセット洗浄部23は、上述した第2搬送機構13が全ての基板Wを取り出した後、空になった状態のカセット1を洗浄する機能を備えている。
A
なお、上述した第1搬送機構11と、第2搬送機構13と、第3搬送機構15と、第1処理部19(純水洗浄処理部19aと薬液処理部19b)と、第2処理部21(純水洗浄処理部21aと薬液処理部21b)とが本発明における処理部に相当する。
The
上記構成の基板処理装置は、図2のブロック図に示すように制御部25によって統括的に制御される。
The substrate processing apparatus having the above configuration is comprehensively controlled by the
制御部25は、CPU等から構成されており、スケジューリング部27と、バッチ停止状態管理部29と、処理実行指示部31とを備えている。制御部25に接続されている記憶部33は、本基板処理装置のユーザによって予め作成され、基板Wをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムと、異常発生時に停止させるべきロットを判断したり、停止させたロットについての処理再開を判断したりするプログラムなどが予め格納されている。また、作成されたスケジュールも格納される。
The
スケジューリング部27は、カセット1に収容されて投入部3に載置された複数枚の基板Wを一つのロットとして扱い、装置のオペレータにより指示された、記憶部33に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、ロット毎の処理工程を時系列的に効率よく配置できるようにスケジュールを作成する。また、詳細は後述するが、待避させたロットについて、待避させた理由が解消された場合に、再スケジューリングを行う機能も備えている。
The
なお、カセット1単位ではなく、複数のカセット1に収容されている複数枚の基板Wを一つのロットとしてもよい。
In addition, it is good also considering the several board | substrate W accommodated in the
バッチ停止状態管理部29は、スケジュールに基づき使用される処理部のいずれかに異常が発生した場合に、処理を停止させる必要があるロットとそうでないロットとを判別するとともに、そのロットを待避させるか代替処理部(詳細後述)で処理を継続するかを管理する。
When an abnormality occurs in any of the processing units used based on the schedule, the batch stop
処理実行指示部31は、スケジューリング部27が作成して記憶部33に記憶されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作指示を行う。
The process
ここで、表1を参照しつつ具体的なレシピについて説明する。なお、説明の理解を容易にするために、実際のレシピよりも簡略化した例を挙げて説明する。 Here, specific recipes will be described with reference to Table 1. In order to facilitate the understanding of the description, an example simplified from an actual recipe will be described.
上の表1では、符号A〜Fが処理部を表し、具体的には、処理部Aが第1搬送機構11、第2搬送機構13、第3搬送機構15を搬送に係る一つの処理部として扱ったものを表し、処理部Bが第1処理部19の薬液処理部19bを表し、処理部Cが第2処理部21の薬液処理部21bを表し、処理部Dが第1処理部19の純水洗浄処理部19aを表し、処理部Eが第2処理部21の純水洗浄処理部21bを表し、処理部Fが乾燥処理部17を表すものとする。第1処理部19の薬液処理部19bと第2処理部21の薬液処理部21bは、異なるレシピ用に異なる処理液や異なる液温、供給流量などに設定することも可能であるが、ここでは全く同じレシピ用に同じ設定にしてあるものとする。また、純水洗浄処理部19bと純水洗浄処理部21bについても、純水の温度や、供給流量などが同じに設定してあるものとする。なお、上記のレシピにおいては、副搬送機構19c、21cを省略してある。
In Table 1 above, reference signs A to F represent processing units, and specifically, the processing unit A is one processing unit related to transporting the
第1ロットL1のレシピは、第1処理工程〜第5処理工程の5つの処理工程からなり、第1処理工程が処理部Aによる搬入であり、第2処理工程が処理部Bまたは処理部Cによる薬液処理であり、第3処理工程が処理部Dまたは処理部Eによる純水洗浄処理であり、第4処理工程が処理部Fによる乾燥処理であり、第5処理工程が処理部Aによる搬出処理であるとする。また、第2ロットL2のレシピは、上述した第1ロットL2のレシピと同じである。 The recipe of the first lot L1 is composed of five processing steps of the first processing step to the fifth processing step, the first processing step is carry-in by the processing unit A, and the second processing step is the processing unit B or the processing unit C. The third processing step is a pure water cleaning process by the processing unit D or the processing unit E, the fourth processing step is a drying process by the processing unit F, and the fifth processing step is carried out by the processing unit A. Suppose that it is processing. The recipe for the second lot L2 is the same as the recipe for the first lot L2 described above.
第3ロットL3のレシピは、第1〜第5処理工程の5つの処理工程からなり、第1処理工程が処理部Aによる搬入処理であり、第2処理工程が処理部Bによる薬液処理であり、第3処理工程が処理部Dによる純水洗浄処理であり、第4処理工程が処理部Fによる乾燥処理であり、第5処理工程が処理部Aによる搬出処理であるものとする。 The recipe of the third lot L3 is composed of five processing steps of the first to fifth processing steps, the first processing step is a carry-in processing by the processing unit A, and the second processing step is a chemical solution processing by the processing unit B. The third processing step is pure water cleaning processing by the processing unit D, the fourth processing step is drying processing by the processing unit F, and the fifth processing step is transporting processing by the processing unit A.
なお、上述した第1ロットL1と第2ロットL2における第2処理工程では、処理部Bが、第2処理工程を実施するのに優先して使用される処理部であり、これを優先処理部と称する。また、優先処理部と同じ処理が可能な処理部であって、優先処理部とは相違する処理部を代替処理部と称する。この例では、第2処理工程における処理部Cが処理部Bの代替処理部であり、第3処理工程における処理部Eが処理部Dの代替処理部である。上述した第3ロットL2は、いずれの処理工程においても一つだけの処理部が指定されており、優先処理部と代替処理部とを規定されていないロットである。但し、この場合、その処理部を優先処理部と称することにする。 Note that, in the second processing step in the first lot L1 and the second lot L2 described above, the processing unit B is a processing unit that is used in preference to performing the second processing step, and this is used as the priority processing unit. Called. A processing unit that can perform the same processing as the priority processing unit and is different from the priority processing unit is referred to as an alternative processing unit. In this example, the processing unit C in the second processing step is an alternative processing unit for the processing unit B, and the processing unit E in the third processing step is an alternative processing unit for the processing unit D. The above-described third lot L2 is a lot in which only one processing unit is designated in any processing step, and the priority processing unit and the alternative processing unit are not defined. However, in this case, the processing unit is referred to as a priority processing unit.
次に、図3〜図5を参照して上述した構成の基板処理装置による動作について説明する。なお、図3は、基板処理装置の動作を示すフローチャートであり、図4は、スケジュールされた状態の一例を示すタイムチャートであり、図5は、スケジュールの変更例を示すタイムチャートである。また、図6は、再スケジュールの一例を示すタイムチャートである。 Next, the operation of the substrate processing apparatus having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the substrate processing apparatus, FIG. 4 is a time chart showing an example of a scheduled state, and FIG. 5 is a time chart showing an example of changing the schedule. FIG. 6 is a time chart showing an example of the reschedule.
ステップS1〜S3
装置のオペレータは、未処理の基板Wが収納されたカセット1を投入部3の載置台5に載置する(ステップS1)とともに、図示しない指示部からレシピを指示する(ステップS2)。すると、制御部25は、記憶部33に記憶されているレシピのデータを読み込み、さらに処理工程の時間計算を行う(ステップS3)。そして、スケジューリング部27は、処理工程に要する時間に基づきスケジュールを作成する。ここでは、第1ロットL1から第3ロットL3までが順次に載置台5に載置され、オペレータによって上記表1のようにレシピが指定されたものとする。
Steps S1-S3
The operator of the apparatus places the
ステップS4
スケジューリング部27は、記憶部33を参照し、上記表1に示す各レシピに基づいてスケジュールを作成する(ステップS4)。そのスケジューリング手法は様々であるが、例えば、図4に示すように、第1ロットL1と、第2ロットL2と、第3ロットL3のレシピに含まれている各処理工程(図中に第1処理工程P1と、第2処理工程P2と、第3処理工程P3と、第4処理工程P5と、第6処理工程P6と示す)が時系列的に配置されたものとする。なお、図4中における第1処理工程P1等は、その中央部が実質の処理を表し、その前が前作業(処理部を使用する前に行われる準備)であり、その後が後作業(処理部を使用した後に行われる片付け)として付加されている。本発明は、実際に処理を開始する前に予めスケジュールを作成する方式であるので、実際にロットが移動してくる前に次の処理部の前作業が開始され、次の処理部へロットが移動してから、そのロットが使用した処理部の後作業が行われる。
Step S4
The
ステップS5、S6
スケジューリング部27がスケジューリングを完了するとともに処理が開始され始め(ステップS5)、処理実行指示部31は、図4に示すスケジュールにしたがって、各処理部に対する動作指令を順次に指示してゆく(ステップS6)。これにより各処理部でロットL1〜L3が処理される。
Steps S5 and S6
When the
ステップS7、S8
バッチ停止状態管理部29は、各処理部に異常が発生しているかを判断して(ステップS7)、処理を分岐する。異常が発生していない場合には、処理実行指示部31により、他の指令があるか否かが判断され(ステップS8)、次なる指令があるとき、ステップS6に戻って次の動作指令を指示する。次なる指令がない場合には、処理を終了する。
Steps S7 and S8
The batch stop
ステップS9、S10
ステップS7においてバッチ停止状態管理部29がいずれかの処理部に異常が発生したことを検知した場合には、ステップS9に処理を移行して、異常が発生したことをオペレータに知らせるために報知を行う。そして、処理を停止すべきか否かを判断し(ステップS10)、停止する必要がない場合にはステップS6に戻って処理指令を指示する。これは、例えば、現在処理している第1ロットL1〜第3ロットL3に関連がない処理部における異常が発生した場合にあたる。
Steps S9 and S10
If the batch stop
ステップS11、S12
バッチ停止状態管理部29がいずれかの処理部に異常が発生したことを検知し、かつ処理を停止すべきであると判断した場合には、まず対象となるロットを判断してそのロットを待避させる(ステップS11)とともに、そのロットの処理が再開可能になった場合には再開指令を行って(ステップS12)、そのロットについてのみスケジューリング部27に再スケジューリングを行わせる。
Steps S11 and S12
When the batch stop
ここで、図5に示すように、現在時点が時刻t1であって、例えば、処理部B(第1処理部19の薬液処理部19b)に異常が発生し、その処理部Bを使用しての処理(第2の処理工程P2)が行えない状態になったものとする。この時刻t1においては、処理部Bによる第1ロットL1への処理は既に完了しているので、対象となるロットは第2ロットL2と第3ロットL3であると判断される。そこで、バッチ停止状態管理部29は、第2ロットL2のレシピを参照し、代替処理部の指定がされているか否かを判断し、代替処理部があれば、第2ロットL2のスケジュールを変更し、優先処理部である処理部Bによる処理を、代替処理部である処理部C(第2処理部21の薬液処理部21b)による処理に乗り換えさせる。そして、処理実行指示部31は、それを受けて処理部Cに乗り換えた場合のスケジュールで処理指令を発し、第2ロットL2については処理を停止させることなく継続的に処理が行われる。
Here, as shown in FIG. 5, the current time is time t1, for example, an abnormality occurs in the processing unit B (the
なお、処理を停止された第3ロットL3については、処理実行指示部31が、一旦、図示しない待避部に待避させるとともに、第3ロットL3を待避部に待避させていることをバッチ停止状態管理部29が管理する。処理部Bの異常が解消され、使用可能になった場合には、そのことがバッチ停止状態管理部29に伝えられ、これを受けたバッチ停止状態管理部29は、処理部Bを使用するスケジュールを再び行うようにスケジューリング部27に伝える。これを受けたスケジューリング部27は、再スケジューリングを行う。
For the third lot L3 for which processing has been stopped, the batch execution state management means that the processing
例えば、図6における時刻t2(第2ロットの処理部Fによる乾燥処理中)において、処理部Bの異常が解消されたとすると、当初、図中に点線で示す位置から処理が開始されるようにスケジュールされていた第3ロットL3は、第2ロットL2の搬送処理が終わった直後から処理が開始されるように再スケジュールが行われる。 For example, assuming that the abnormality of the processing unit B is resolved at time t2 (during the drying process by the processing unit F of the second lot) in FIG. 6, the processing is initially started from the position indicated by the dotted line in the drawing. The scheduled third lot L3 is rescheduled so that the process is started immediately after the transfer process of the second lot L2 is completed.
上述したように、異常が発生した優先処理部Bに代替処理部Cが指定されているレシピで処理される第2ロットL2については、代替処理部Cに乗り換えて第2ロットL2の処理を行うように制御部25がスケジュールを変更するとともに、制御部25がその変更したスケジュールで第2ロットL2の処理を継続的に実行する。したがって、優先処理部Bに異常が発生しても第1ロットL1から第3ロットL3の全てのロットについて処理を停止させる必要がないので、基板処理装置の稼働率が低下することを防止することができる。
As described above, for the second lot L2 to be processed by the recipe in which the alternative processing unit C is designated as the priority processing unit B in which an abnormality has occurred, the second lot L2 is processed by switching to the alternative processing unit C. As described above, the
また、異常が発生した優先処理部Bだけが指定されているレシピで処理される第3ロットL3については、制御部25が第3ロットL3を待避させるとともに、優先処理部Bの異常が解消された時点にて、第3ロットL3についてスケジュールをした後に処理を再開させる。したがって、優先処理部Bしかレシピに指定されていない第3ロットL3の処理に不都合が生じることを防止できる。
For the third lot L3 processed by the recipe in which only the priority processing unit B in which an abnormality has occurred is specified, the
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.
(1)上述した実施例では、3つのロットを同時に処理してゆく場合を例示して説明したが、1〜2ロットまたは4ロット以上を同時に処理する場合であっても本発明を適用することが可能である。 (1) In the above-described embodiment, the case where three lots are processed simultaneously has been described as an example. However, the present invention can be applied even when one or two lots or four or more lots are processed simultaneously. Is possible.
(2)上述した実施例では、レシピ内において、一つの優先処理部に一つの代替処理部を規定している。しかし、基板処理装置において、上述した第1処理部19と、第2処理部21に加え、さらに第3処理部と、第4処理部とのように、同じ処理が可能な処理部が3台以上備えられている場合には、一つの優先処理部に複数の代替処理部を規定するようにしてもよい。その場合には、代替処理部の指定順にしたがって優先的に使用するようにスケジュールを行い、さらにその代替処理部に異常が発生している場合には、その次の代替処理部を使用するようにすればよい。
(2) In the embodiment described above, one alternative processing unit is defined for one priority processing unit in the recipe. However, in the substrate processing apparatus, in addition to the
(3)実施例で例に採った基板処理装置は、基板に対して薬液処理と、純水洗浄処理と、乾燥処理とを順に行う装置であるが、これ以外の処理を行う基板処理装置であっても本発明を適用することができる。例えば、基板にフォトレジスト液を塗布し、回転処理によって薄膜化し、ベーク処理によって被膜を形成するような装置であってもよい。 (3) The substrate processing apparatus taken as an example in the embodiment is an apparatus that sequentially performs a chemical treatment, a pure water cleaning process, and a drying process on a substrate, but is a substrate processing apparatus that performs other processes. Even if it exists, this invention is applicable. For example, an apparatus may be used in which a photoresist solution is applied to a substrate, thinned by a rotation process, and a film is formed by a baking process.
(4)上述した実施例では、代替処理部を規定されたレシピで処理されているロットについては乗り換えを行わせ、そうでないロットについては待避させ、処理部の不具合が解消された時点で再スケジューリングさせている。しかし、代替処理部を規定されていないレシピで処理されているロットについては、全て待避させるだけとし、再度そのロットをオペレータが投入し直すように構成してもよい。 (4) In the above-described embodiment, a change is made to a lot that is processed by the prescribed recipe in the alternative processing unit, and a lot that is not saved is saved, and rescheduling is performed when the defect of the processing unit is resolved. I am letting. However, it may be configured such that all the lots processed by the recipe for which the alternative processing unit is not defined are only saved, and the lot is again input by the operator.
W … 基板
1 … カセット
17 … 乾燥処理部
19 … 第1処理部
21 … 第2処理部
19a … 純水洗浄処理部
19b … 薬液処理部
19c … 副搬送機構
21a … 純水洗浄処理部
21b … 薬液処理部
21c … 副搬送機構
25 … 制御部
27 … スケジューリング部
29 … バッチ停止状態管理部
31 … 処理実行指示部
33 … 記憶部
W ...
Claims (5)
一つの処理工程を処理するために優先的に使用される処理部を優先処理部とし、前記優先処理部と同じ処理が可能であって、前記優先処理部とは異なる処理部を代替処理部とした場合に、レシピの処理工程に優先処理部と代替処理部とが指定可能にされ、
処理工程に指定されている優先処理部に異常が発生した場合であっても、異常が発生した優先処理部に対応する代替処理部が指定されているレシピで処理されるロットについては、前記代替処理部で処理を行うように前記制御部がスケジュールを変更するとともに、前記制御部がその変更したスケジュールでそのロットの処理を継続的に実行することを特徴とする基板処理装置のスケジュール実行方法。 When processing a plurality of lots by a substrate processing apparatus having a plurality of processing units for processing a substrate, the control unit sequentially processes each lot in each processing unit based on a recipe including a plurality of processing steps. In the schedule execution method of the substrate processing apparatus for executing the processing after determining the processing order of each lot for
A processing unit preferentially used for processing one processing step is a priority processing unit, and the same processing as the priority processing unit is possible, and a processing unit different from the priority processing unit is an alternative processing unit. In this case, the priority processing unit and the alternative processing unit can be specified for the recipe processing process.
Even if an abnormality has occurred in the priority processing unit specified in the processing step, the above-mentioned alternative for the lot processed in the recipe in which the alternative processing unit corresponding to the priority processing unit in which the abnormality has occurred is specified A schedule execution method for a substrate processing apparatus, wherein the control unit changes the schedule so that the processing unit performs processing, and the control unit continuously executes the processing of the lot with the changed schedule.
一つの処理工程に指定されている優先処理部に異常が発生した場合、異常が発生した優先処理部だけが指定されているレシピで処理されるロットについては、前記制御部が前記ロットを待避させる処理を行うとともに、前記優先処理部が使用可能となった時点にて、そのロットについて再スケジュールを行ってから、そのロットの処理を再開することを特徴とする基板処理装置のスケジュール実行方法。 In the schedule execution method of the substrate processing apparatus of Claim 1,
When an abnormality occurs in the priority processing unit specified for one processing step, the control unit saves the lot for a lot processed by a recipe in which only the priority processing unit in which the abnormality has occurred is specified. A schedule execution method for a substrate processing apparatus, comprising: performing a process and re-scheduling the lot when the priority processing unit becomes usable, and then restarting the process of the lot.
前記優先処理部は第1の薬液処理部であり、前記代替処理部は第2の薬液処理部であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール実行方法。 In the schedule execution method of the substrate processing apparatus of Claim 1 or 2,
The priority processing unit is a first chemical processing unit, and the alternative processing unit is a second chemical processing unit.
前記優先処理部は第1の純水洗浄処理部であり、前記代替処理部は第2の純水洗浄処理部であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 In the schedule execution method of the substrate processing apparatus of Claim 1 or 2,
The substrate processing apparatus schedule creation method, wherein the priority processing unit is a first pure water cleaning processing unit, and the alternative processing unit is a second pure water cleaning processing unit.
一つの処理工程を処理するために優先的に使用される処理部を優先処理部とし、前記優先処理部と同じ処理が可能であって、前記優先処理部とは異なる処理部を代替処理部とした場合に、レシピの処理工程に優先処理部と代替処理部とが指定可能にされ、
処理工程に指定されている優先処理部に異常が発生した場合であっても、異常が発生した優先処理部に対応する代替処理部が指定されているレシピで処理されているロットについては、前記代替処理部で処理を行うように前記制御部がスケジュールを変更するとともに、前記制御部がその変更したスケジュールでそのロットの処理を継続的に実行するように制御する基板処理装置のスケジュール実行プログラム。
When processing a plurality of lots by a substrate processing apparatus having a plurality of processing units for processing a substrate, the control unit sequentially processes each lot in each processing unit based on a recipe including a plurality of processing steps. In the schedule execution program of the substrate processing apparatus for executing the processing after determining the processing order of each lot for
A processing unit preferentially used for processing one processing step is a priority processing unit, and the same processing as the priority processing unit is possible, and a processing unit different from the priority processing unit is an alternative processing unit. In this case, the priority processing unit and the alternative processing unit can be specified for the recipe processing process.
Even when an abnormality occurs in the priority processing unit specified in the processing step, for the lot processed in the recipe in which the alternative processing unit corresponding to the priority processing unit in which the abnormality has occurred is specified, A schedule execution program for a substrate processing apparatus, wherein the control unit changes a schedule so that processing is performed by an alternative processing unit, and the control unit performs control so that processing of the lot is continuously executed according to the changed schedule.
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