JP2007258705A - プラズマディスプレイ装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】電磁波遮蔽層の接地領域の露出を容易にして低費用で製造が可能なプラズマディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層及び電磁波遮蔽層上に形成されるフィルタを含み、フィルタは電磁波遮蔽層上に形成される粘着層と粘着層上に形成されるベースフィルム層を含む。
【選択図】図１

Description

本発明はディスプレイ装置に関し、更に詳しくはプラズマディスプレイ装置及びその製造方法に関する。

一般的にディスプレイ装置の内でプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネルとプラズマディスプレイパネルを駆動するための駆動部を含む。

一般的にプラズマディスプレイパネルは前面パネルと後面パネルの間に形成された隔壁が一つの放電セルを成すことで、各放電セル内にはネオン（Ｎｅ）、ヘリウム（Ｈｅ）またはネオン及びヘリウムの混合気体（Ｎｅ＋Ｈｅ）のような主放電気体と少量のキセノン（Ｘｅ）を含む不活性ガスが充填されている。

このような放電セルが複数個集まって一つのピクセル（Ｐｉｘｅｌ）を成す。例えば赤色（Ｒｅｄ、Ｒ）放電セル、緑色（Ｇｒｅｅｎ、Ｇ）放電セル、青色（Ｂｌｕｅ、Ｂ）放電セルが集まって一つのピクセルを成すのである。

そしてこのようなプラズマディスプレイパネルは高周波電圧によって放電される時、不活性ガスは真空紫外線（Ｖａｃｕｕｍ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｒａｙｓ）を発生して隔壁の間に形成された蛍光体を発光させて画像が具現される。このようなプラズマディスプレイパネルは薄く軽い構成が可能なので次世代表示装置として脚光を浴びている。

一方、従来のプラズマディスプレイ装置は駆動過程で高電圧及び高周波を使うので、カラー陰極選管（ＣＲＴ）や液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤ）よりパネルのガラス前面で電磁波が非常に多く放出する問題点がある。

また、プラズマディスプレイパネルはＮｅ、Ｘｅのような不活性ガスから誘導される近赤外線（ＮＩＲ）を放出するが、このような近赤外線は家電製品のリモートコントローラーの波長と非常に近いので、製品の誤作動を起こす可能性があるという問題点があり、また、ＣＲＴやＬＣＤなどそのほかのディスプレイと同様にパネル前面ガラスが外部光を反射することによって、眩さやコントラスト低下などのような問題点が発生するようになる。

このような理由でＰＤＰ前面に所定の機能を持つガラスフィルタ（Ｇｌａｓｓ Ｆｉｌｔｅｒ）やフィルム型フィルタ（Ｆｉｌｍ Ｆｉｌｔｅｒ）を設置して上述した問題点を解決しようとした。

しかし、従来のフィルタは別途製作されたフィルム型フィルタを前面パネルに接着する方法を主に使っているが、別途フィルム型フィルタを製造するには費用がたくさんかかるだけでなく、これをＰＤＰパネルに接着する工程を通さなければならないし、接着後フィルタに形成された電磁波遮蔽層が前面パネルに完全に転写されると同時にバスバー（ｂｕｓ ｂａｒ）との電気的な連結のための接地領域の電磁波遮蔽層が完全に露出しなければならない。これによって複雑で精緻な工程が要求されるので、工程費用の増加が不可避であり、また製品の歩留まりが減少するしかない。

本発明の目的は、電磁波遮蔽層の接地領域の露出を容易にして低費用で製造が可能なプラズマディスプレイ装置及びその製造方法を提供することにある。

本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層及び電磁波遮蔽層上に形成されるフィルタを含み、前記フィルタは前記電磁波遮蔽層上に形成される粘着層と、前記粘着層上に形成されるベースフィルム層と、を含む。

前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることが好ましい。

前記フィルタは前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることが好ましい。

前記粘着層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことが好ましい。

前記フィルタは前記ベースフィルム層上に形成される無反射層を更に含むことが好ましい。

本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネル、前記プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層及び前記電磁波遮蔽層上に形成される樹脂層を含む。

前記樹脂層上に形成される無反射層を更に含むことが好ましい。

前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることが好ましい。

前記樹脂層は熱硬化性樹脂層であることが好ましい。

前記樹脂層は前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることが好ましい。

前記樹脂層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことが好ましい。

本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の製造方法は、プラズマディスプレイパネル上に電磁波遮蔽層を形成する段階及び前記電磁波遮蔽層上に樹脂層を形成する段階を含む。

前記樹脂層上に無反射層を形成する段階を更に含むことが好ましい。

前記樹脂層を形成する段階は、前記電磁波遮蔽層の遮蔽層の接地部を除いた領域に近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含んだ樹脂ペーストを塗布する段階及び前記樹脂ペーストを硬化する段階を含むことが好ましい。

前記樹脂ペーストの塗布段階は、前記電磁波遮蔽層の接地領域をマスキングする段階を更に含むことが好ましい。

本発明によるプラズマディスプレイ装置は電磁波遮蔽層を含む低価格型ＰＤＰ前面フィルタを製造することができる。また、電磁波遮蔽層の接地領域の露出を非常に容易に行うことができる。

以下では本発明の一つの実施形態による具体的な実施形態を添付された図面を参照して説明する。

図１は本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を説明するための図である。

図１に示すように、本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネルの前面パネル１００、電磁波遮蔽層１３０、フィルタ２００を含み、フィルタ２００はベースフィルム層２１０、無反射層２２０、粘着層２３０を含む。

電磁波遮蔽層１３０はディスプレイ装置駆動時に発生する電磁波がディスプレイ装置の表示面を通じて外部に放出されることを遮蔽する。

また、電磁波遮蔽層１２０はメッシュタイプを成す。メッシュタイプの電磁波遮蔽層１２０は導電性を持つ金属層をメッシュパターンで形成したことで、メッシュパターンの金属層を接地するためにその末端に接地部を持つ。

ベースフィルム層２１０はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）や三酢酸セルロース（ＴＡＣ）のような通常の透明材質のフィルムが使われる。

無反射層２２０はパネル外部に放射される紫外線を遮断して外部反射光を減少させる機能を遂行する反射防止層（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）または閃光防止層（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ ｌａｙｅｒ）が使用される。もちろん無反射層２２０で反射防止及び閃光防止機能を同時に遂行することができる混合物に形成された薄膜層を使用してもよい。

粘着層２３０はアクリル系、ゴム系、ポリビニルエーテル系及びシリコン系などが使われる。

図２Ａ〜図２Ｄは本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示した断面図である。

図２Ａを参照すれば、先ずプラズマディスプレイ装置の前面パネル１００が用意される。

前面パネル１００は後続工程で形成される電磁波遮蔽層１３０の露出可否を基準に画面有効領域（Ａ）及び接地領域（Ｂ）に分類される。

画面有効領域（Ａ）の前面基板１１０には後面パネル（図示せず）との間に形成される複数のピクセルを駆動するための複数の維持電極対（１１０Ａ、１１０Ｂ）が提供される。

維持電極対（１１０Ａ、１１０Ｂ）はＩＴＯのような透明酸化物電極材質で形成されて、透明酸化物電極の伝導性を補うために維持電極対（１１０Ａ、１１０Ｂ）上には金属バス電極（１１２Ａ、１１２Ｂ）が形成される。維持電極対（１１０Ａ、１１０Ｂ）上には酸化マグネシウム材質の保護膜１２０が形成される。

以下説明する実施形態は維持電極対（１１０Ａ、１１０Ｂ）及び保護膜などの構造物が前面フィルタの製造過程の前段階で既に形成されているものとして扱うが、本発明でこのような構造物は前面フィルタが製造された後、パネルの裏面に提供されてもよいことは本発明が属する技術分野の当業者であれば容易に理解可能である。

図２Ｂを参照すれば、前面基板１１０に維持電極対が形成された背面には電磁波遮蔽層１３０が形成される。電磁波遮蔽層１３０はメッシュ（ｍｅｓｈ）タイプや導電膜タイプの導電性物質で構成される。

メッシュタイプの電磁波遮蔽層は写真蝕刻法、印刷法またはメッキ法によって形成される。写真蝕刻法はベースフィルム上に銅箔を形成した後、露光、現象及びエッチングを経ってメッシュ形態のパターンを得る方法であり、印刷法はベースフィルム層状に銅箔ペーストをスクリーンプリンティングした後乾燥してメッシュ型のパターンを得る方法で、メッキ法はベースフィルム上にシード層を形成した後電気メッキを利用して願うパターンを得る方法を言う。

導電膜タイプの電磁波遮蔽層はＡｇとＩＴＯをスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法によって繰り返し積層して形成される。

図２Ｃを参照すれば、前面パネル１００とは別に前面パネル上に形成された電磁波遮蔽層１３０を保護するためのフィルタ２００を製作する。前記フィルタ２００はベースフィルム層２１０と、ベースフィルム層２１０上に形成される少なくとも１種類の無反射層２２０を含むことができる。

また図２Ｃを参照すれば、無反射層が形成されたベースフィルム層２１０の裏面には粘着層２３０が形成されている。

粘着層２３０は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断及び色相補正のための選択的吸光物質を更に含む。選択的吸光物質としては、例えばテトラアザポルフィリン系、シアニン系、スクアリリウム系色素などを一つまたは二つ以上混合して使う。

また、ベースフィルム層２１０と無反射層２２０の間、電磁波遮蔽層１３０と粘着層２３０の間、または粘着層２３０内部には要求される他の機能を遂行するためのフィルムまたは物質が介在または追加されることができる。

例えば、フィルタ２００には透明性を損傷させることがなく良好な近赤外線遮断性能(例えば、８００−１２００ｎｍ近赤外線波長領域において近赤外線を吸収する性能)を持つ物質として、ニッケル錯体系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン、シアニン系、デ−イモニュム系の混合色素などの近赤外線遮断物質を含む近赤外線遮断フィルムが介在されてもよく、これら物質が粘着層に追加されてもよい。

図２Ｄを参照すれば、このように製作されたフィルタ２００が前面パネル１００の電磁波遮蔽層１３０上に接着される。フィルタ２００は粘着層２３０が前面パネル１００の電磁波遮蔽層１３０形成面と接触するように前面パネル１００上に供給されて、ロールのような加圧手段によって前面パネル１００に附着する。

この時、フィルタ２００は前面パネル１００の電磁波遮蔽層１３０の一部、すなわち画面有効領域（Ａ）のみをカバーして、接地領域（Ｂ）は外部に露出するようにする。

これはフィルタ２００を画面有効領域（Ａ）の大きさに合わせてあらかじめ裁断して附着させる方法で遂行されてもよいが、パネル全体をカバーするようにフィルタ２００を附着させた後、切断手段によって接地領域（Ｂ）部位を切断して取り除くことで遂行されてもよい。

このように、電磁波遮蔽層１３０は前面パネル上に直接形成されており、従来のようにフィルム形態で提供されて前面パネルに接着されるのではない。

したがって本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、フィルタ２００と電磁波遮蔽層１３０が分離しているので、フィルタ２００の切断時に電磁波遮蔽層の損傷のような問題が発生する余地がない。

図３は本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を示す図である。

図３に示すように、本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルの前面パネル１００、電磁波遮蔽層１３０、樹脂層３１０、無反射層３２０を含む。

ここで、本発明の他の実施形態によるプラズマディスプレイ装置に関する特徴の内で図１で記述された本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置に関する特徴と実質的に等しい特徴はその説明を略するようにする。

樹脂層３１０は透明硬化性樹脂から製造される。例えば、樹脂層３１０は熱硬化性アクリル系共重合体及び硬化剤を含むペースト組成物を塗布して得られる。ペースト組成物は表面を平坦にための点も調節剤または流動性調節剤を更に含んでもよい。

図４Ａ〜図４Ｄは本発明の他の実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示した断面図である。

先ず、図４Ａ及び図４Ｂに示す過程は、前面パネル１００の裏面に電磁波遮蔽層１３０を形成する過程として、図２Ａ及び図２Ｂを参照して説明した内容と同じであるから、ここでは説明を略する。

引き続き図４Ｃに示すように、前面パネル１００の一部領域、すなわち画面有効領域（Ａ）に樹脂層３１０を形成する。樹脂層３１０は画面有効領域（Ａ）の電磁波遮蔽層１３０を覆って保護する。

ペースト組成物の塗布方法として多様な方法を使用してもよい。塗布方法としては例えばロール塗布、噴霧塗布またはスクリーンプリンティングを適用してもよい。

塗布時に前面パネル１００の接地領域（Ｂ）には樹脂ペーストが塗布されることを防止するためのマスク層（図示せず）を提供してもよい。マスク層は粘着性テープなどを使用してもよい。

塗布されたペーストは乾燥及び硬化を経て、樹脂層３１０を形成する。樹脂層３１０が形成された後、使われたマスク層は除去される。

必要な場合、前述のペースト組成物は硬化後にフィルタの諸般の機能を遂行するための他の組成物を含んでもよい。例えば、ペースト組成物は近赤外線遮断、ネオン波長遮断または色相補正機能を遂行することができる組成物を含んでもよい。

本発明が属する技術分野の当業者ならペースト組成物に添加される組成物の種類は場合によって異なって設計される可能性があることを理解することができる。例えば、電磁波遮蔽層１３０が導電膜タイプの場合、導電膜が近赤外線遮断機能を遂行するので、近赤外線遮断のための組成物が追加される必要はない。

このように、本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置では樹脂層３１０がペースト形態に塗布されるから、ペーストに追加の機能性混合物を添加することで多様な機能を持つフィルタを具現することができる。

引き続き図４Ｄを参照すれば、樹脂層３１０表面に乾式または湿式法によって追加の無反射層３２０がコーティングされる。例えば無反射層３２０は反射防止層または閃光防止層であってもよい。

本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を説明するための図。 本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置を示す図。 本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。 本発明の他の一つの実施形態によるプラズマディスプレイ装置の前面フィルタ製造過程を順に示す図。

Claims (15)

1. プラズマディスプレイパネルと、
   前記プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層と、
   前記電磁波遮蔽層上に形成されるフィルタと、を含み、
   前記フィルタは、
   前記電磁波遮蔽層上に形成される粘着層と、
   前記粘着層上に形成されるベースフィルム層と、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
2. 前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイ装置。
3. 前記フィルタは前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイ装置。
4. 前記粘着層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイ装置。
5. 前記フィルタは前記ベースフィルム層上に形成される無反射層を更に含むことを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイ装置。
6. プラズマディスプレイパネルと、
   前記プラズマディスプレイパネル上に形成される電磁波遮蔽層と、
   前記電磁波遮蔽層上に形成される樹脂層と、
   を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
7. 前記樹脂層上に形成される無反射層を更に含むことを特徴とする、請求項６記載のプラズマディスプレイ装置。
8. 前記電磁波遮蔽層はメッシュタイプまたは導電膜タイプの内の何れか一つのタイプであることを特徴とする、請求項６記載のプラズマディスプレイ装置。
9. 前記樹脂層は熱硬化性樹脂層であることを特徴とする、請求項６記載のプラズマディスプレイ装置。
10. 前記樹脂層は前記電磁波遮蔽層の接地部を除いた領域に形成されることを特徴とする、請求項６記載のプラズマディスプレイ装置。
11. 前記樹脂層は近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項６記載のプラズマディスプレイ装置。
12. プラズマディスプレイパネル上に電磁波遮蔽層を形成する段階と、
    前記電磁波遮蔽層上に樹脂層を形成する段階と、
    を含むプラズマディスプレイ装置の製造方法。
13. 前記樹脂層上に無反射層を形成する段階を更に含むことを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
14. 前記樹脂層を形成する段階は、
    前記電磁波遮蔽層の遮蔽層の接地部を除いた領域に近赤外線遮蔽物質、ネオン波長遮断物質または選択的吸光物質の内の少なくとも一つを含んだ樹脂ペーストを塗布する段階と、
    前記樹脂ペーストを硬化する段階と、
    を含むことを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。
15. 前記樹脂ペーストの塗布段階は、
    前記電磁波遮蔽層の接地領域をマスキングする段階を更に含むことを特徴とする、請求項１４記載のプラズマディスプレイ装置の製造方法。