JP2007258298A - Ceramic circuit substrate and electronic component module using the same - Google Patents

Ceramic circuit substrate and electronic component module using the same Download PDF

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JP2007258298A JP2006078126A JP2006078126A JP2007258298A JP 2007258298 A JP2007258298 A JP 2007258298A JP 2006078126 A JP2006078126 A JP 2006078126A JP 2006078126 A JP2006078126 A JP 2006078126A JP 2007258298 A JP2007258298 A JP 2007258298A
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Norio Nakayama
憲隆 中山
Masanori Hoshino
政則 星野
Takao Shirai
隆雄 白井
Haruhiko Yamaguchi
山口  晴彦
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Toshiba Corp
Toshiba Materials Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Materials Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic circuit substrate that suppresses deterioration or the like in element characteristics and reliability due to a rise of an operating temperature and environmental temperature or the like and is used as a mounting substrate for a power semiconductor element or a thermoelectric element or the like. <P>SOLUTION: The ceramic circuit substrate 1 has a metallic circuit board 3 joined to the surface 2a of a ceramic substrate 2. A metal frame body 5 is joined to the surface 2a of the ceramic substrate 2 so as to surround the metallic circuit board 3. The metal frame body 5 is provided with a frame shape in which at least each corner part has a round shape. An electronic component such as the power semiconductor element or the thermoelectric element is mounted on the metallic circuit board 3 of the ceramic circuit substrate 1. The mounted component is hermetically sealed by joining a lid body onto the metal frame body 5. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、各種素子や部品の実装用基板等として用いられるセラミックス回路基板とそれを用いた電子部品モジュールに関する。   The present invention relates to a ceramic circuit board used as a substrate for mounting various elements and components, and an electronic component module using the ceramic circuit board.

従来から、半導体素子を始めとする各種素子や部品を実装するための基板として、絶縁性や放熱性等に優れるセラミックス回路基板が使用されている。特に、ペルチェ素子等の熱電素子やパワー半導体素子等を実装するセラミックス回路基板には、一般的にセラミックス基板と金属回路板との接合基板が適用されている。金属回路板の接合方法としては、セラミックス基板とCu板とを加熱処理により直接接合するDBC法、セラミックス基板とAl板とを加熱処理により直接接合するDBA法、また活性金属を含有するろう材を用いてセラミックス基板と金属板とを接合する方法(活性金属法)等が知られている。   Conventionally, as a substrate for mounting various elements and components including a semiconductor element, a ceramic circuit board having excellent insulation and heat dissipation has been used. In particular, a ceramic circuit board on which a thermoelectric element such as a Peltier element, a power semiconductor element, or the like is mounted generally employs a bonded substrate of a ceramic substrate and a metal circuit board. As a method for joining metal circuit boards, a DBC method in which a ceramic substrate and a Cu plate are directly joined by heat treatment, a DBA method in which a ceramic substrate and an Al plate are directly joined by heat treatment, or a brazing material containing an active metal is used. A method (active metal method) for bonding a ceramic substrate and a metal plate using the method is known.

電力用途等に使用される高出力のパワー半導体素子は、絶縁耐力等に優れるセラミックス回路基板の金属回路板上に実装された後に樹脂封止されている(例えば特許文献1参照)。また、熱電素子も例えば絶縁性や熱伝導性等に優れるセラミックス回路基板の金属回路板上に実装されるようになってきており(特許文献2,3等参照)、この場合にも信頼性の向上等を図る上で熱電素子を樹脂封止することが検討されている。しかしながら、パワー半導体素子や熱電素子等の高性能・高出力化等に伴って、樹脂封止では耐えかねる温度域まで動作温度(稼動温度)や環境温度等が上昇する可能性が生じており、このような高温域で使用した場合には素子の大気による劣化が問題となる。   High-power power semiconductor elements used for power applications and the like are resin-sealed after being mounted on a metal circuit board of a ceramic circuit board having excellent dielectric strength and the like (see, for example, Patent Document 1). Thermoelectric elements are also mounted on metal circuit boards of ceramic circuit boards that are excellent in insulation and thermal conductivity, for example (see Patent Documents 2 and 3, etc.). In order to improve and the like, it has been studied to seal the thermoelectric element with resin. However, with the high performance and high output of power semiconductor elements and thermoelectric elements, there is a possibility that the operating temperature (operating temperature), environmental temperature, etc. will rise to a temperature range that can not be tolerated by resin sealing, When used in such a high temperature range, deterioration of the element due to the atmosphere becomes a problem.

一方、パワー半導体素子等の高性能化、高機能化、高信頼性化等の潮流のなかで、セラミックス回路基板自体の信頼性もさることながら、半導体素子をセラミックス回路基板上に実装して構成した半導体モジュールとしての信頼性についても、より一層の向上が求められている。例えば、半導体素子を実装したセラミックス回路基板は金属製ベース基板に半田層を介して接合されるが、セラミックス回路基板の裏面側の金属板と金属製ベース基板との間の半田層を薄く、これらセラミックス回路基板と金属製ベース基板との間の緩衝効果を十分に得ることができない。これは半導体モジュールの熱サイクルに対する信頼性を低下させる要因となっている。
特開2005-285885号公報 特開2002-203993号公報 特開2003-174204号公報
On the other hand, with the trend toward higher performance, higher functionality, higher reliability, etc. of power semiconductor elements, etc., the structure of the semiconductor element mounted on the ceramic circuit board is achieved while the reliability of the ceramic circuit board itself is surpassed. Further improvement in reliability as a semiconductor module is also required. For example, a ceramic circuit board on which a semiconductor element is mounted is bonded to a metal base board via a solder layer, but the solder layer between the metal plate on the back side of the ceramic circuit board and the metal base board is thinned, The buffering effect between the ceramic circuit board and the metal base board cannot be sufficiently obtained. This is a factor that reduces the reliability of the semiconductor module with respect to the thermal cycle.
JP 2005-285885 JP JP 2002-203993 A JP2003-174204

本発明の目的は、パワー半導体素子や熱電素子の動作温度や環境温度等の上昇に伴う特性や信頼性の低下等を抑制することを可能性したセラミックス回路基板と、そのようなセラミックス回路基板を用いた電子部品モジュールを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a ceramic circuit board capable of suppressing a decrease in characteristics and reliability associated with an increase in operating temperature and environmental temperature of a power semiconductor element and a thermoelectric element, and such a ceramic circuit board. It is to provide an electronic component module used.

本発明の一態様に係るセラミックス回路基板は、セラミックス基板と、前記セラミックス基板の表面に接合された金属回路板と、前記金属回路板を囲うように前記セラミックス基板の前記表面に接合され、少なくとも角部がR形状を有する金属枠体とを具備することを特徴としている。   A ceramic circuit board according to an aspect of the present invention includes a ceramic board, a metal circuit board bonded to the surface of the ceramic board, and the surface of the ceramic board so as to surround the metal circuit board. The portion includes a metal frame having an R shape.

本発明の他の態様に係る電子部品モジュールは、上記した本発明の態様に係るセラミックス回路基板と、前記セラミックス回路基板の前記金属回路板上に実装された電子部品と、前記電子部品を封止するように前記金属枠体上に接合された蓋体とを具備することを特徴としている。   An electronic component module according to another aspect of the present invention includes a ceramic circuit board according to the above-described aspect of the present invention, an electronic component mounted on the metal circuit board of the ceramic circuit board, and sealing the electronic component. As described above, a lid joined to the metal frame is provided.

本発明のセラミックス回路基板は、金属回路板を囲うように接合された金属枠体を有しているため、金属回路板上に実装された電子部品を、金属枠体を利用して気密封止することによって、動作温度や環境温度等の上昇に伴う電子部品の特性や信頼性等の低下を抑制することができる。さらに、金属枠体の角部はR形状とされているため、温度上昇に伴う気密性の低下やセラミックス回路基板自体の信頼性の低下等を抑制することができる。これらによって、動作温度、稼動温度、環境温度等の高温化が進められている電子部品モジュールにおいても、その特性や信頼性等を高めることが可能となる。   Since the ceramic circuit board of the present invention has a metal frame joined so as to surround the metal circuit board, the electronic components mounted on the metal circuit board are hermetically sealed using the metal frame. By doing so, it is possible to suppress a decrease in the characteristics, reliability, etc. of the electronic component accompanying an increase in operating temperature, environmental temperature, or the like. Furthermore, since the corners of the metal frame have an R shape, it is possible to suppress a decrease in airtightness due to a temperature rise, a decrease in reliability of the ceramic circuit board itself, and the like. As a result, even in an electronic component module whose operating temperature, operating temperature, environmental temperature and the like are being increased, the characteristics, reliability, and the like can be improved.

以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。なお、以下では本発明の実施形態を図面に基づいて述べるが、それらの図面は図解のために提供されるものであり、本発明はそれらの図面に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, although embodiment of this invention is described below based on drawing, those drawings are provided for illustration and this invention is not limited to those drawings.

図1および図2は本発明の第1の実施形態によるセラミックス回路基板の構成を示す図であり、図1は断面図、図2は平面図である。これらの図に示すセラミックス回路基板1は、絶縁性基板としてセラミックス基板2を有している。セラミックス基板2には各種のセラミックス焼結体を適用することができ、特に構成材料に限定されるものではない。セラミックス基板2の構成材料としては、窒化アルミニウム基焼結体、窒化珪素基焼結体等の非酸化物系セラミックス焼結体や、アルミナ基焼結体、アルミナとジルコニアとの複合焼結体等の酸化物系セラミックス焼結体を使用することができる。   1 and 2 are views showing a configuration of a ceramic circuit board according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a sectional view and FIG. 2 is a plan view. A ceramic circuit board 1 shown in these drawings has a ceramic substrate 2 as an insulating substrate. Various ceramic sintered bodies can be applied to the ceramic substrate 2 and are not particularly limited to the constituent materials. Examples of the constituent material of the ceramic substrate 2 include non-oxide ceramic sintered bodies such as aluminum nitride-based sintered bodies and silicon nitride-based sintered bodies, alumina-based sintered bodies, and composite sintered bodies of alumina and zirconia. An oxide-based ceramic sintered body can be used.

上述した各種のセラミックス焼結体のうち、セラミックス回路基板1に高放熱性が要求される場合には、窒化アルミニウム基焼結体や窒化珪素基焼結体等の窒化物系セラミックス焼結体からなるセラミックス基板2を使用することが好ましい。特に、熱伝導率が100W/m K以上の窒化アルミニウム基焼結体はセラミックス回路基板1の高放熱化に対して有効である。また、窒化珪素基焼結体によればセラミックス回路基板1の放熱性を高めた上で、機械的強度を大幅に向上させることができる。セラミックス基板2の板厚は使用材料により異なるものの、例えば0.3〜1.5mmの範囲とすることが好ましい。   Of the various ceramic sintered bodies described above, when high heat dissipation is required for the ceramic circuit board 1, a nitride ceramic sintered body such as an aluminum nitride-based sintered body or a silicon nitride-based sintered body is used. The ceramic substrate 2 is preferably used. In particular, an aluminum nitride-based sintered body having a thermal conductivity of 100 W / m K or more is effective for increasing the heat dissipation of the ceramic circuit board 1. Further, according to the silicon nitride-based sintered body, the mechanical strength can be greatly improved while improving the heat dissipation of the ceramic circuit board 1. The thickness of the ceramic substrate 2 varies depending on the material used, but is preferably in the range of 0.3 to 1.5 mm, for example.

セラミックス基板2の表面2aには、所望の回路パターンを有する金属回路板3が接合されている。金属回路板3による回路パターンは特に限定されるものではなく、セラミックス回路基板1の使用用途に応じて適宜に設定されるものである。図1および図2は熱電素子をセラミックス回路基板1上に実装して熱電変換モジュールを作製する際に適用される回路パターンであって、p型熱電素子およびn型熱電素子のそれぞれの一方の端部が接合される電極パターンを示している。なお、図1および図2では図示を省略したが、セラミックス基板2の裏面2bには金属製ベース基板等への接合部や反り防止部材等となる金属板を接合することができる。   A metal circuit board 3 having a desired circuit pattern is bonded to the surface 2 a of the ceramic substrate 2. The circuit pattern by the metal circuit board 3 is not specifically limited, It sets suitably according to the use application of the ceramic circuit board 1. FIG. FIG. 1 and FIG. 2 are circuit patterns applied when a thermoelectric element is mounted on a ceramic circuit board 1 to produce a thermoelectric conversion module, and one end of each of a p-type thermoelectric element and an n-type thermoelectric element. The electrode pattern to which a part is joined is shown. Although not shown in FIGS. 1 and 2, a metal plate serving as a joining portion to a metal base substrate or a warp preventing member can be joined to the back surface 2 b of the ceramic substrate 2.

金属回路板3はセラミックス回路基板1の使用用途や使用形態等に応じて各種の金属板で構成することができ、例えばCu板もしくはCu合金板、Al板もしくはAl合金板等が好ましく用いられる。ただし、金属回路板3の構成材料はこれらに限定されるものではなく、CuやAl以外の金属材料、例えばNiやNi合金、WやMoのような高融点金属やその合金、さらにはCu、Al、Ni等と高融点金属との合金やクラッド材を使用することもできる。金属回路板3の板厚は例えば0.1〜0.5mmの範囲とすることが好ましい。   The metal circuit board 3 can be composed of various metal plates in accordance with the use application or usage form of the ceramic circuit board 1, and for example, a Cu plate or a Cu alloy plate, an Al plate or an Al alloy plate is preferably used. However, the constituent material of the metal circuit board 3 is not limited to these, and metal materials other than Cu and Al, for example, Ni and Ni alloys, refractory metals such as W and Mo and alloys thereof, Cu, An alloy or clad material of Al, Ni or the like and a refractory metal can also be used. The thickness of the metal circuit board 3 is preferably in the range of 0.1 to 0.5 mm, for example.

セラミックス基板2と金属回路板3とは、例えばろう材層4を介して接合されている。ろう材層4はセラミックス基板2の種類等に応じて適宜選択されるものであるが、例えばTi、Zr、Hf、Nb、Al等から選ばれる少なくとも1種の活性金属(例えばろう材の全量に対して0.5〜10重量%の範囲で含有)を、Ag−Cuの共晶組成もしくはその近傍組成のAg−Cu系ろう材やCu系ろう材等のろう材成分に配合した活性金属ろう材を使用することが好ましい。活性金属ろう材は適量のSnやIn等を含んでいてもよい。また、上述したろう材成分にSnやIn(例えばろう材の全量に対して3〜20重量%)等を配合したろう材を適用することも可能である。   The ceramic substrate 2 and the metal circuit board 3 are joined together via a brazing material layer 4, for example. The brazing filler metal layer 4 is appropriately selected according to the type of the ceramic substrate 2 and the like. For example, at least one active metal selected from Ti, Zr, Hf, Nb, Al, etc. (for example, the total amount of the brazing filler metal) Active metal brazing material, which is contained in a brazing filler metal component such as an Ag-Cu brazing filler metal or a Cu brazing filler metal having an eutectic composition of Ag-Cu or in the vicinity thereof. It is preferable to use it. The active metal brazing material may contain an appropriate amount of Sn, In, or the like. It is also possible to apply a brazing material in which Sn or In (for example, 3 to 20% by weight with respect to the total amount of the brazing material) is blended with the brazing material component described above.

なお、この実施形態ではセラミックス基板2と金属回路板3とをろう材層4を介して接合したセラミックス回路基板1を示したが、セラミックス基板2と金属回路板3との接合方法はこれに限られるものではなく、Cu板を加熱処理により直接接合するDBC法やAl板を加熱処理により直接接合するDBA法等の直接接合法を適用することも可能である。ただし、ろう材層4を用いた接合法は各種の金属材料に対して使用可能であることから、金属回路板3の構成材料によらずに適用することができる。また、後述する金属枠体5についても同様であり、その構成材料によらずに金属回路板3と同時にセラミックス基板2に対して接合することも可能となる。   In this embodiment, the ceramic circuit board 1 in which the ceramic substrate 2 and the metal circuit board 3 are bonded via the brazing material layer 4 is shown. However, the bonding method between the ceramic substrate 2 and the metal circuit board 3 is not limited to this. However, it is also possible to apply a direct bonding method such as a DBC method in which a Cu plate is directly bonded by heat treatment or a DBA method in which an Al plate is directly bonded by heat treatment. However, since the joining method using the brazing filler metal layer 4 can be used for various metal materials, it can be applied regardless of the constituent material of the metal circuit board 3. The same applies to the metal frame 5 to be described later, and it is possible to join the ceramic circuit board 2 at the same time as the metal circuit board 3 regardless of the constituent material.

セラミックス基板2の金属回路板3が接合された表面2aには、さらに金属回路板3を囲うように金属枠体5が接合されている。金属枠体5は金属回路板3およびその上に実装される電子部品の封止枠を構成するものであり、このような金属枠体5上に後述する蓋体(2個のセラミックス回路基板を対向させて接合する場合には、他方のセラミックス回路基板を構成するセラミックス基板であってもよい)を接合することによって、金属回路板3や電子部品を気密封止することが可能されている。金属枠体5はセラミックス基板2に対して直接ろう材を用いて接合してもよいが、ここでは金属回路板3と同時に形成した枠体接合用金属板6上にろう材層7を介して金属枠体5を接合している。   A metal frame 5 is further bonded to the surface 2 a of the ceramic substrate 2 to which the metal circuit board 3 is bonded so as to surround the metal circuit board 3. The metal frame 5 constitutes a metal circuit board 3 and a sealing frame for electronic components mounted thereon, and a lid (two ceramic circuit boards) to be described later is formed on the metal frame 5. In the case of bonding in a facing manner, the metal circuit board 3 and the electronic component can be hermetically sealed by bonding a ceramic substrate constituting the other ceramic circuit substrate. The metal frame 5 may be joined directly to the ceramic substrate 2 using a brazing material, but here, the brazing material layer 7 is interposed on the metal plate 6 for frame joining formed simultaneously with the metal circuit board 3. The metal frame 5 is joined.

すなわち、セラミックス基板2の表面2aには金属回路板3を囲う形状を有する枠体接合用金属板6が接合されている。枠体接合用金属板6は金属回路板3と同様にろう材層4を介してセラミックス基板2に接合されている。このような枠体接合用金属板6は、例えばセラミックス基板2に接合した金属板にエッチング処理を施して金属回路板3のパターン形成を行う際に、同時に枠パターンを形成することで得ることができる。金属枠体5は枠体接合用金属板6上にろう材層7を介して接合されている。ろう材層7にはろう材層4と同様なろう材を適用することができる。また、ろう材層7は金属−金属接合に適用されることになるため、他の金属材料用ろう材を適用することも可能である。   That is, a frame joining metal plate 6 having a shape surrounding the metal circuit board 3 is joined to the surface 2 a of the ceramic substrate 2. The frame-joining metal plate 6 is joined to the ceramic substrate 2 via the brazing filler metal layer 4 in the same manner as the metal circuit board 3. Such a frame joining metal plate 6 can be obtained, for example, by forming a frame pattern at the same time when the metal plate joined to the ceramic substrate 2 is etched to form a pattern of the metal circuit board 3. it can. The metal frame 5 is bonded to the frame bonding metal plate 6 via a brazing material layer 7. A brazing material similar to the brazing material layer 4 can be applied to the brazing material layer 7. Further, since the brazing material layer 7 is applied to metal-metal bonding, other brazing materials for metal materials can be applied.

金属枠体5の構成材料には各種の金属材料が適用可能であり、例えばFe、Fe−Ni系合金、Fe−Ni−Co系合金、Cu、Cu合金等が用いられる。金属枠体5は封止体を構成することから、セラミックス基板2や枠体接合用金属板6との接合面の気密性を保つことが重要となる。このような点から、セラミックス基板2との熱膨張係数の差が小さく、熱サイクルが印加された際の接合面の気密性や信頼性等を維持しやすいFe−Ni系合金やFe−Ni−Co系合金を、金属枠体5の構成材料として使用することが好ましい。また、CuやCu合金は延性に優れ、熱サイクルが印加された際の緩衝効果が大きいことから、接合面の気密性や信頼性等を維持することができる。   Various metal materials can be applied as the constituent material of the metal frame 5, and for example, Fe, Fe—Ni alloy, Fe—Ni—Co alloy, Cu, Cu alloy and the like are used. Since the metal frame 5 constitutes a sealing body, it is important to maintain the airtightness of the bonding surface with the ceramic substrate 2 and the frame bonding metal plate 6. From such a point, the difference in thermal expansion coefficient with the ceramic substrate 2 is small, and it is easy to maintain the airtightness and reliability of the joint surface when a thermal cycle is applied. It is preferable to use a Co-based alloy as a constituent material of the metal frame 5. Further, Cu and Cu alloys are excellent in ductility and have a large buffering effect when a heat cycle is applied, so that the airtightness and reliability of the joint surface can be maintained.

さらに、金属枠体5の各角部5aにはR形状(面取り形状)が付与されている。すなわち、金属枠体5は各角部5aがR形状を有する矩形の枠形状を備えている。矩形の枠体の場合、熱サイクルが印加された際の熱応力は特に角部に集中する。角部への応力集中は接合面の局所的な気密性の低下要因となる。機械的な接合力にはあまり影響しないような応力集中であったとしても、接合面の気密性に対して多大な影響を及ぼすおそれがある。金属封止体として用いられる金属枠体5の場合、接合面からの僅かなリークであっても特性や信頼性に悪影響を及ぼすおそれがある。そこで、熱サイクルが印加された際の応力集中を緩和するように、金属枠体5の各角部5aにはR形状が付与されている。   Further, each corner 5a of the metal frame 5 is provided with an R shape (chamfered shape). That is, the metal frame 5 has a rectangular frame shape in which each corner 5a has an R shape. In the case of a rectangular frame, the thermal stress when a thermal cycle is applied is particularly concentrated at the corners. Stress concentration at the corners causes a reduction in local airtightness of the joint surface. Even if the stress concentration does not significantly affect the mechanical bonding force, it may have a great influence on the airtightness of the bonding surface. In the case of the metal frame 5 used as the metal sealing body, even a slight leak from the joint surface may adversely affect the characteristics and reliability. Therefore, each corner 5a of the metal frame 5 is provided with an R shape so as to relieve stress concentration when a thermal cycle is applied.

各角部5aにR形状が付与された矩形の枠形状を備える金属枠体5によれば、その内部の気密性、特に高温雰囲気下(例えば300℃以上)における気密性を確実に維持することが可能となる。このような気密性の維持効果を得る上で、各角部5aは曲率半径が5mm以上のR形状を有していることが好ましい。曲率半径が5mm未満のR形状の場合には、角部への応力集中の緩和効果を十分に得ることができないおそれがある。各角部5aに付与するR形状の上限は特に規定されるものではなく、R形状の曲率半径を大きくすればするほど応力の分散効果を高めることができる。すなわち、金属枠体5には円形の枠形状を適用することも可能である。   According to the metal frame 5 having a rectangular frame shape in which each corner 5a is provided with an R shape, the internal airtightness thereof, in particular, the airtightness in a high-temperature atmosphere (for example, 300 ° C. or higher) is reliably maintained. Is possible. In order to obtain such an airtight maintenance effect, each corner 5a preferably has an R shape with a radius of curvature of 5 mm or more. In the case of an R shape with a radius of curvature of less than 5 mm, it may not be possible to obtain a sufficient stress relaxation effect at the corners. The upper limit of the R shape to be imparted to each corner 5a is not particularly specified, and the greater the radius of curvature of the R shape, the higher the stress dispersion effect. That is, a circular frame shape can be applied to the metal frame 5.

図3は円形の枠形状を有する金属枠体5を示している。セラミックス基板2との接合部は図1および図2と同様とされている。このような円形の金属枠体5によれば、特にその内部の気密性を高度に維持することが可能となる。ただし、円形の金属枠体5を適用した場合、金属回路板3(図3では図示を省略)の配置面積に対する制約が大きくなる。このため、金属枠体5の形状は要求される気密性の程度と金属回路板3の配置面積とを考慮して設定することが好ましい。いずれにしても、少なくとも角部がR形状を有する金属枠体5によれば、セラミックス基板2や枠体接合用金属板6との接合面の気密性、ひいては金属枠体5の内部の気密性を高めることができる。   FIG. 3 shows a metal frame 5 having a circular frame shape. The joint portion with the ceramic substrate 2 is the same as in FIGS. According to such a circular metal frame 5, it is possible to maintain a particularly high level of airtightness inside the metal frame 5. However, when the circular metal frame 5 is applied, the restriction on the arrangement area of the metal circuit board 3 (not shown in FIG. 3) becomes large. For this reason, it is preferable to set the shape of the metal frame 5 in consideration of the required degree of airtightness and the arrangement area of the metal circuit board 3. In any case, according to the metal frame 5 having at least the corners having the R shape, the air tightness of the joint surface with the ceramic substrate 2 and the metal plate 6 for frame joining, and consequently the air tightness inside the metal frame 5. Can be increased.

上述したような金属枠体5を有するセラミックス回路基板1によれば、金属枠体5内の気密性を高温環境下においても維持することができる。従って、金属回路板3上に実装される電子部品の高温環境下での酸化等による特性や信頼性等の低下を抑制することが可能となる。このようなセラミックス回路基板1は各種電子部品の実装基板に適用することができるが、特に熱電素子やパワー半導体素子等の動作温度、稼動温度、環境温度等の高温化が避けられない電子部品の実装用に好適である。   According to the ceramic circuit board 1 having the metal frame 5 as described above, the airtightness in the metal frame 5 can be maintained even in a high temperature environment. Accordingly, it is possible to suppress deterioration of characteristics and reliability due to oxidation or the like of the electronic component mounted on the metal circuit board 3 in a high temperature environment. Such a ceramic circuit board 1 can be applied to a mounting board for various electronic components. In particular, it is necessary to increase the operating temperature, operating temperature, environmental temperature, etc. of thermoelectric elements and power semiconductor elements. Suitable for mounting.

図4は第1の実施形態によるセラミックス回路基板1を用いた熱電変換モジュールの構成例を示している。図4に示す熱電変換モジュール10は、本発明の電子部品モジュールの一実施形態を示すものである。熱電変換モジュール10は、複数のp型熱電素子11と複数のn型熱電素子12とを有している。これらp型熱電素子11とn型熱電素子12は同一平面上に交互に配列されており、モジュール全体としてはマトリックス状に配置されている。1つのp型熱電素子11にはn型熱電素子12が隣接している。   FIG. 4 shows a configuration example of a thermoelectric conversion module using the ceramic circuit board 1 according to the first embodiment. The thermoelectric conversion module 10 shown in FIG. 4 shows one Embodiment of the electronic component module of this invention. The thermoelectric conversion module 10 includes a plurality of p-type thermoelectric elements 11 and a plurality of n-type thermoelectric elements 12. These p-type thermoelectric elements 11 and n-type thermoelectric elements 12 are alternately arranged on the same plane, and the entire module is arranged in a matrix. An n-type thermoelectric element 12 is adjacent to one p-type thermoelectric element 11.

p型熱電素子11とn型熱電素子12の下端面は、それぞれ第1の電極13に接合されている。第1の電極13は第1のセラミックス回路基板1Aの金属回路板3Aで構成されている。すなわち、各熱電素子11、12は第1のセラミックス回路基板1A上に配列されており、金属回路板3Aからなる第1の電極13にろう材層14を介して接合されている。p型熱電素子11とn型熱電素子12の上端面は、それぞれ第2の電極15に接合されている。第2の電極15は第2のセラミックス回路基板1Bの金属回路板3Bで構成されており、それぞれろう材層16を介して各熱電素子11、12と接合されている。   Lower end surfaces of the p-type thermoelectric element 11 and the n-type thermoelectric element 12 are joined to the first electrode 13, respectively. The first electrode 13 is composed of a metal circuit board 3A of the first ceramic circuit board 1A. That is, the thermoelectric elements 11 and 12 are arranged on the first ceramic circuit board 1A, and are joined to the first electrode 13 made of the metal circuit board 3A via the brazing material layer. The upper end surfaces of the p-type thermoelectric element 11 and the n-type thermoelectric element 12 are each joined to the second electrode 15. The second electrode 15 is composed of the metal circuit board 3B of the second ceramic circuit board 1B, and is joined to the thermoelectric elements 11 and 12 via the brazing material layer 16, respectively.

このように、各熱電素子11、12は第1のセラミックス回路基板1Aと第2のセラミックス回路基板1Bとの間に配置されており、その周囲には例えば第1のセラミックス回路基板1Aに設けられた金属枠体5が設置されている。さらに、金属枠体5は第2のセラミックス回路基板1Bの枠体接合用金属板6Bに対してろう材層7Bを介して接合されている。従って、各熱電素子11、12は第1のセラミックス回路基板1Aと第2のセラミックス回路基板1Bと金属枠体5とで構成された気密空間内に封止されている。   As described above, the thermoelectric elements 11 and 12 are arranged between the first ceramic circuit board 1A and the second ceramic circuit board 1B, and are provided, for example, on the first ceramic circuit board 1A. A metal frame 5 is installed. Further, the metal frame 5 is bonded to the frame bonding metal plate 6B of the second ceramic circuit board 1B via the brazing material layer 7B. Accordingly, each thermoelectric element 11, 12 is sealed in an airtight space constituted by the first ceramic circuit board 1 </ b> A, the second ceramic circuit board 1 </ b> B, and the metal frame 5.

なお、第2のセラミックス回路基板1Bにおけるセラミックス基板2Bは、第2の電極15(金属回路板3B)の支持基板としての機能と金属枠体5に対する蓋体としての機能を併せ持つものである。金属枠体5は第1および第2のセラミックス回路基板1A、1Bのいずれに設けられていてもよい。どちらにしても、他方のセラミックス回路基板を構成するセラミックス基板が金属枠体5の蓋体として機能する。   The ceramic substrate 2B in the second ceramic circuit substrate 1B has both a function as a support substrate for the second electrode 15 (metal circuit board 3B) and a function as a lid for the metal frame 5. The metal frame 5 may be provided on any of the first and second ceramic circuit boards 1A and 1B. In either case, the ceramic substrate constituting the other ceramic circuit substrate functions as a lid of the metal frame 5.

第1の電極13と第2の電極15は素子1個分だけずれた状態で設けられている。このようにして、複数のp型熱電素子11とn型熱電素子12とが電気的に直列に接続されている。すなわち、p型熱電素子11、n型熱電素子12、p型熱電素子11、n型熱電素子12…の順に直流電流が流れるように、第1および第2の電極13、15が配置されている。このような熱電変換モジュール10は、例えば第1のセラミックス回路基板1Aを低温側(L)に配置すると共に、第2のセラミックス回路基板1Bを高温側(H)に配置し、この温度差に基づいて第1の電極13と第2の電極15との間に電位差を生じさせることによって、例えば発電モジュールとして使用することができる。   The first electrode 13 and the second electrode 15 are provided in a state shifted by one element. In this way, the plurality of p-type thermoelectric elements 11 and n-type thermoelectric elements 12 are electrically connected in series. That is, the first and second electrodes 13 and 15 are arranged so that a direct current flows in the order of the p-type thermoelectric element 11, the n-type thermoelectric element 12, the p-type thermoelectric element 11, the n-type thermoelectric element 12. . In such a thermoelectric conversion module 10, for example, the first ceramic circuit board 1 </ b> A is disposed on the low temperature side (L), and the second ceramic circuit board 1 </ b> B is disposed on the high temperature side (H). Thus, by generating a potential difference between the first electrode 13 and the second electrode 15, it can be used as a power generation module, for example.

上述したように、熱電変換モジュール10を発電モジュールとして使用する場合、各熱電素子11、12は高温の駆動温度並びに環境温度に晒されることになるが、各熱電素子11、12は高温下においても気密性を維持することが可能な封止空間、すなわち従来の樹脂封止に比べて耐熱温度に優れる金属枠体5で構成した封止空間内に配置されているため、高温環境下での酸化等による特性や信頼性等の低下を抑制することができる。従って、高温環境下における熱電変換モジュール10の特性や信頼性等を高めることが可能となる。このような高温環境下での封止空間の気密性の維持は熱電変換モジュール10に限らず、各種の電子部品モジュールで有効に機能するものである。   As described above, when the thermoelectric conversion module 10 is used as a power generation module, the thermoelectric elements 11 and 12 are exposed to a high driving temperature and an environmental temperature. Since it is arranged in a sealed space that can maintain hermeticity, that is, in a sealed space constituted by the metal frame 5 that is superior in heat-resistant temperature as compared with conventional resin sealing, oxidation in a high temperature environment It is possible to suppress degradation of characteristics and reliability due to the above. Therefore, it is possible to improve the characteristics and reliability of the thermoelectric conversion module 10 in a high temperature environment. Maintenance of the hermeticity of the sealed space under such a high temperature environment is not limited to the thermoelectric conversion module 10 and functions effectively in various electronic component modules.

次に、本発明の第2の実施形態によるセラミックス回路基板について図5を参照して説明する。図5は本発明の第2の実施形態によるセラミックス回路基板の構成を示す断面図である。同図に示すセラミックス回路基板1において、セラミックス基板2の表面2a側は第1の実施形態と同様な構成を有している。なお、セラミックス回路基板1を構成する各部の材料や形状等は第1の実施形態と同様であり、同様な効果を示すものである。   Next, a ceramic circuit board according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of the ceramic circuit board according to the second embodiment of the present invention. In the ceramic circuit substrate 1 shown in the figure, the surface 2a side of the ceramic substrate 2 has the same configuration as that of the first embodiment. In addition, the material, shape, etc. of each part which comprises the ceramic circuit board 1 are the same as that of 1st Embodiment, and show the same effect.

セラミックス基板2の裏面2bには、後述する金属製ベース基板への接合部となる金属板8が接合されている。裏面2b側の金属板8も表面2a側の金属回路板3と同様に、ろう材層4を介してセラミックス基板2に接合されている。なお、金属板8はDBC法やDBA法等の直接接合法を適用して接合してもよい。   A metal plate 8 is bonded to the back surface 2b of the ceramic substrate 2 as a bonding portion to a metal base substrate described later. Similarly to the metal circuit board 3 on the front surface 2a side, the metal plate 8 on the back surface 2b side is also joined to the ceramic substrate 2 via the brazing material layer 4. The metal plate 8 may be bonded by applying a direct bonding method such as the DBC method or the DBA method.

図6は本発明の実施形態としての半導体モジュール20およびそれを金属製ベース基板21に接合した状態を示している。半導体モジュール20は半田層22を介して金属製ベース基板21と接合されている。半田層22はセラミックス基板2の裏面2b側の金属板8と金属製ベース基板21とを接合している。セラミックス回路基板1の金属回路基板3上には、パワー半導体素子のような高出力の半導体素子23や他の電子部品24等が実装されている。さらに、金属枠体5上には金属蓋体25がろう材層26を介して接合されており、これらによって半導体モジュール20が構成されている。   FIG. 6 shows a semiconductor module 20 as an embodiment of the present invention and a state in which it is bonded to a metal base substrate 21. The semiconductor module 20 is bonded to the metal base substrate 21 via the solder layer 22. The solder layer 22 joins the metal plate 8 on the back surface 2 b side of the ceramic substrate 2 and the metal base substrate 21. On the metal circuit board 3 of the ceramic circuit board 1, a high-power semiconductor element 23 such as a power semiconductor element, another electronic component 24, and the like are mounted. Furthermore, a metal lid 25 is joined to the metal frame 5 via a brazing material layer 26, and the semiconductor module 20 is constituted by these.

半導体モジュール20を構成するパワー半導体素子23や他の電子部品24等は、金属枠体5と金属蓋体25とで構成された気密空間内に封止されている。この封止空間は高温下においても気密性が維持されることから、動作温度が高温化するパワー半導体素子23等であっても、高温環境による特性劣化や信頼性の低下を抑制することができる。すなわち、半導体モジュール20の特性や信頼性を高めることが可能となる。   The power semiconductor element 23 and other electronic components 24 constituting the semiconductor module 20 are sealed in an airtight space constituted by the metal frame 5 and the metal lid 25. Since this sealed space maintains hermeticity even at high temperatures, even in the power semiconductor element 23 and the like whose operating temperature is increased, it is possible to suppress deterioration in characteristics and reliability due to a high temperature environment. . That is, the characteristics and reliability of the semiconductor module 20 can be improved.

次に、本発明の具体的な実施例およびその評価結果について述べる。   Next, specific examples of the present invention and evaluation results thereof will be described.

実施例1
まず、厚さ0.635mmの窒化珪素(Si34)基板の表面に、幅0.2mmの回路パターン状にろう材ペーストをスクリーン印刷法で塗布した。ろう材ペーストにはAg/Cu/Sn系ろう材組成を適用した。さらに、ろう材ペーストが印刷された窒化珪素基板上に、厚さ0.3mmのCu板を載置した後、0.01Pa以下の真空雰囲気中にて800℃×15分の条件で熱処理して、窒化珪素基板とCu板とを接合した。
Example 1
First, a brazing paste was applied to a surface of a silicon nitride (Si 3 N 4 ) substrate having a thickness of 0.635 mm in a circuit pattern shape having a width of 0.2 mm by a screen printing method. An Ag / Cu / Sn-based brazing material composition was applied to the brazing material paste. Furthermore, after placing a 0.3 mm thick Cu plate on the silicon nitride substrate on which the brazing paste is printed, heat treatment is performed under conditions of 800 ° C. for 15 minutes in a vacuum atmosphere of 0.01 Pa or less to perform nitriding. A silicon substrate and a Cu plate were joined.

次に、窒化珪素基板と接合したCu板上に紫外線硬化型のレジストを塗布し、これに回路パターンに応じて紫外線を照射して部分的に硬化させた。この樹脂層をレジストとして使用して、Cu板を回路パターンに応じてエッチング処理してCu回路板(金属回路板3)を形成した。このCu板への回路パターンの形成と同時に、枠体接合用の枠パターン(枠体接合用金属板6)をCu板で形成した。   Next, an ultraviolet curable resist was applied on the Cu plate bonded to the silicon nitride substrate, and this was partially cured by irradiating ultraviolet rays according to the circuit pattern. Using this resin layer as a resist, the Cu board was etched according to the circuit pattern to form a Cu circuit board (metal circuit board 3). Simultaneously with the formation of the circuit pattern on the Cu plate, a frame pattern for joining the frame (metal plate 6 for joining the frame) was formed with the Cu plate.

上述した枠体接合用のCuパターン上に、Ag/Cu/Sn系ろう材箔を介してFe−Ni−Co系合金(コバール)製枠体(金属枠体5)を載置した。コバール製枠体の形状は円形とした。これを還元雰囲気中にて750℃×30分の条件で熱処理して、コバール製枠体を窒化珪素基板に枠体接合用Cuパターンを介して接合した。このようにして、目的とするセラミックス回路基板、すなわち金属枠体を有するセラミックス回路基板を作製した。このセラミックス回路基板を後述する特性評価に供した。   An Fe—Ni—Co-based alloy (Kovar) frame (metal frame 5) was placed on the above-described Cu pattern for bonding the frame via an Ag / Cu / Sn-based brazing material foil. The shape of the Kovar frame was circular. This was heat-treated in a reducing atmosphere under the conditions of 750 ° C. × 30 minutes, and the Kovar frame was bonded to the silicon nitride substrate via the frame bonding Cu pattern. In this way, a target ceramic circuit board, that is, a ceramic circuit board having a metal frame was produced. This ceramic circuit board was subjected to the characteristic evaluation described later.

実施例2
上記した実施例1のコバール製枠体の形状を、各角部に曲率半径が5mmのR形状を付与した矩形の枠形状とする以外は実施例1と同様にして、金属枠体を有するセラミックス回路基板を作製した。このセラミックス回路基板を後述する特性評価に供した。
Example 2
The ceramic having a metal frame in the same manner as in Example 1 except that the shape of the Kovar frame of Example 1 described above is a rectangular frame shape with a radius of curvature of 5 mm at each corner. A circuit board was produced. This ceramic circuit board was subjected to the characteristic evaluation described later.

比較例1
上記した実施例1のコバール製枠体の形状を矩形の枠形状(各角部の面取りはなし)とする以外は実施例1と同様にして、金属枠体を有するセラミックス回路基板を作製した。このセラミックス回路基板を後述する特性評価に供した。
Comparative Example 1
A ceramic circuit board having a metal frame was produced in the same manner as in Example 1 except that the shape of the Kovar frame of Example 1 described above was changed to a rectangular frame (no chamfering at each corner). This ceramic circuit board was subjected to the characteristic evaluation described later.

上述した実施例1、2および比較例1によるセラミックス回路基板について、金属枠体の接合面のリーク検査を500℃に加熱した後に実施した。その結果、比較例1のセラミックス回路基板では接合面にリークが発生したが、実施例1、2のセラミックス回路基板ではリークは認められなかった。さらに、実施例1、2のセラミックス回路基板を用いて図4に示した熱電変換モジュール10を作製したところ、高温環境下においても素子劣化が抑制され、その結果として特性並びに信頼性の向上が図れることが確認された。   For the ceramic circuit boards according to Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 described above, the leak inspection of the joint surface of the metal frame was performed after heating to 500 ° C. As a result, a leak occurred on the joint surface in the ceramic circuit board of Comparative Example 1, but no leak was observed in the ceramic circuit boards of Examples 1 and 2. Furthermore, when the thermoelectric conversion module 10 shown in FIG. 4 was produced using the ceramic circuit boards of Examples 1 and 2, element degradation was suppressed even in a high temperature environment, and as a result, characteristics and reliability could be improved. It was confirmed.

実施例3
厚さ0.635mmの窒化アルミニウム(AlN)基板の表面に、回路パターン状にろう材ペーストをスクリーン印刷法で塗布した。窒化アルミニウム基板の裏面にも同様にしてろう材ペーストを塗布した。ろう材ペーストにはAg−Cu系ろう材組成を適用した。さらに、ろう材ペーストが印刷された窒化アルミニウム基板の両面に、厚さ0.4mmのCu板を配置した後、0.01Pa以下の真空雰囲気中にて800℃×15分の条件で熱処理して、窒化アルミニウム基板と表裏両面のCu板とを接合した。
Example 3
A brazing paste was applied in a circuit pattern to the surface of an aluminum nitride (AlN) substrate having a thickness of 0.635 mm by a screen printing method. The brazing material paste was similarly applied to the back surface of the aluminum nitride substrate. An Ag—Cu-based brazing material composition was applied to the brazing material paste. Furthermore, after arranging a 0.4 mm thick Cu plate on both sides of the aluminum nitride substrate on which the brazing paste was printed, heat treatment was performed under conditions of 800 ° C. × 15 minutes in a vacuum atmosphere of 0.01 Pa or less, and nitriding The aluminum substrate and the Cu plates on both sides were joined.

次に、表裏両面のCu板上に紫外線硬化型のレジストを塗布し、これらに回路パターンに応じて紫外線を照射して部分的に硬化させた。この樹脂層をレジストとして使用して、Cu板を回路パターンに応じてエッチング処理してCu回路板(金属回路板3)を形成した。このCu板への回路パターンの形成と同時に、表面側については枠体接合用の枠パターン(枠体接合用金属板6)をCu板で形成した。   Next, an ultraviolet curable resist was applied onto the front and back Cu plates, and these were partially cured by irradiating with ultraviolet rays according to the circuit pattern. Using this resin layer as a resist, the Cu board was etched according to the circuit pattern to form a Cu circuit board (metal circuit board 3). Simultaneously with the formation of the circuit pattern on the Cu plate, a frame pattern for joining the frame (frame joining metal plate 6) was formed of the Cu plate on the surface side.

表面側の枠体接合用のCuパターン上にFe−Ni−Co系合金(コバール)製枠体(金属枠体5/形状は実施例2と同)を接合して、目的とするセラミックス回路基板を作製した。このセラミックス回路基板を、裏面側のCu板を介してCu製ベース基板に半田接合した。このようにして得たセラミックス回路基板とCu製ベース基板との接合体の熱サイクル特性を測定、評価した。   A target ceramic circuit board is formed by bonding a frame made of Fe-Ni-Co alloy (Kovar) (metal frame 5 / shape is the same as in Example 2) on a Cu pattern for bonding a frame on the surface side. Was made. This ceramic circuit board was soldered to a Cu base board via a Cu plate on the back side. The thermal cycle characteristics of the joined body of the ceramic circuit board and the Cu base substrate thus obtained were measured and evaluated.

熱サイクル特性については、-40℃×30分+室温(RT)×10分+125℃×30分+RT×10分を1サイクルとする熱サイクル試験(TCT)を250サイクル繰返した後に、セラミックス回路基板側のヘキ開発生量を測定した。ヘキ開発生量は全パターンのエッジ部におけるヘキ開発生部分の割合として求めた。その結果、実施例3におけるヘキ開発生量は約15%と少なかった。また、実施例3のセラミックス回路基板にパワー半導体素子を実装してパワー半導体モジュールを作製したところ、パワー半導体素子の特性並びに信頼性を高めることが可能であることが確認された。   Thermal cycle characteristics: -40 ℃ × 30 minutes + room temperature (RT) × 10 minutes + 125 ° C × 30 minutes + RT × 10 minutes after one cycle of thermal cycle test (TCT) 250 cycles, ceramic circuit board Side hex development was measured. The hex development amount was determined as the ratio of the hex development portion at the edge of all patterns. As a result, the amount of hex development in Example 3 was as low as about 15%. Further, when a power semiconductor module was fabricated by mounting a power semiconductor element on the ceramic circuit board of Example 3, it was confirmed that the characteristics and reliability of the power semiconductor element could be improved.

本発明の第1の実施形態によるセラミックス回路基板の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the ceramic circuit board by the 1st Embodiment of this invention. 図1に示すセラミックス回路基板の平面図である。It is a top view of the ceramic circuit board shown in FIG. 図1および図2に示すセラミックス回路基板の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the ceramic circuit board shown in FIG. 1 and FIG. 図1に示すセラミックス回路基板を適用した電子部品モジュール(熱電変換モジュール)の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of the electronic component module (thermoelectric conversion module) to which the ceramic circuit board shown in FIG. 1 is applied. 本発明の第2の実施形態によるセラミックス回路基板の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the ceramic circuit board by the 2nd Embodiment of this invention. 図5に示すセラミックス回路基板を適用した電子部品モジュール(パワー半導体モジュール)の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of the electronic component module (power semiconductor module) to which the ceramic circuit board shown in FIG. 5 is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1…セラミックス回路基板、2…セラミックス基板、3…金属回路板、4,7…ろう材層、5…金属枠体、6…枠体接合用金属板、8…裏面側金属板、10…熱電変換モジュール、11,12…熱電素子、13,15…電極、20…パワー半導体モジュール、21…金属製ベース基板、23…パワー半導体素子、25…金属蓋体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ceramic circuit board, 2 ... Ceramic substrate, 3 ... Metal circuit board, 4, 7 ... Brazing material layer, 5 ... Metal frame, 6 ... Metal plate for frame body joining, 8 ... Back side metal plate, 10 ... Thermoelectric Conversion module 11, 12, ... Thermoelectric element, 13, 15 ... Electrode, 20 ... Power semiconductor module, 21 ... Metal base substrate, 23 ... Power semiconductor element, 25 ... Metal lid.

Claims (8)

セラミックス基板と、
前記セラミックス基板の表面に接合された金属回路板と、
前記金属回路板を囲うように前記セラミックス基板の前記表面に接合され、少なくとも角部がR形状を有する金属枠体と
を具備することを特徴とするセラミックス回路基板。
A ceramic substrate;
A metal circuit board bonded to the surface of the ceramic substrate;
A ceramic circuit board comprising: a metal frame which is bonded to the surface of the ceramic board so as to surround the metal circuit board and has at least corners having an R shape.
請求項1記載のセラミックス回路基板において、
前記金属枠体は各角部がR形状を有する矩形の枠形状を備えることを特徴とするセラミックス回路基板。
The ceramic circuit board according to claim 1,
A ceramic circuit board characterized in that the metal frame has a rectangular frame shape with each corner having an R shape.
請求項1記載のセラミックス回路基板において、
前記金属枠体は円形の枠形状を備えることを特徴とするセラミックス回路基板。
The ceramic circuit board according to claim 1,
The ceramic circuit board, wherein the metal frame has a circular frame shape.
請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載のセラミックス回路基板において、
前記金属枠体はFe、Fe−Ni系合金、Fe−Ni−Co系合金、CuおよびCu合金から選ばれる1種からなることを特徴とするセラミックス回路基板。
In the ceramic circuit board according to any one of claims 1 to 3,
2. The ceramic circuit board according to claim 1, wherein the metal frame is made of one selected from Fe, Fe—Ni alloy, Fe—Ni—Co alloy, Cu and Cu alloy.
請求項1ないし請求項4のいずれか1項記載のセラミックス回路基板において、
前記金属回路板および前記金属枠体は前記セラミックス基板に対してろう材層を介して接合されていることを特徴とするセラミックス回路基板。
In the ceramic circuit board according to any one of claims 1 to 4,
The ceramic circuit board, wherein the metal circuit board and the metal frame are bonded to the ceramic board via a brazing material layer.
請求項1ないし請求項5のいずれか1項記載のセラミックス回路基板において、
さらに、前記セラミックス基板の裏面に接合された金属板を具備することを特徴とするセラミックス回路基板。
The ceramic circuit board according to any one of claims 1 to 5,
Furthermore, the ceramic circuit board characterized by comprising the metal plate joined to the back surface of the said ceramic substrate.
請求項1ないし請求項6のいずれか1項記載のセラミックス回路基板と、
前記セラミックス回路基板の前記金属回路板上に実装された電子部品と、
前記電子部品を封止するように、前記金属枠体上に接合された蓋体と
を具備することを特徴とする電子部品モジュール。
The ceramic circuit board according to any one of claims 1 to 6,
An electronic component mounted on the metal circuit board of the ceramic circuit board;
An electronic component module comprising: a lid joined to the metal frame so as to seal the electronic component.
請求項7記載の電子部品モジュールにおいて、
前記電子部品モジュールは熱電変換モジュールまたはパワー半導体モジュールであることを特徴とする電子部品モジュール。
The electronic component module according to claim 7,
The electronic component module is a thermoelectric conversion module or a power semiconductor module.
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