JP2007248986A - 液晶収差補正素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1、第2の透明導電膜が形成された第1と第2の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子において、第1の透明導電膜が、外部から給電を行うための複数個の引出電極と、当該引出電極の一部の表面をオーバーラップして、かつ引出電極と同じ材料で、引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための第1の収差補正用分割電極とを有する構成とした。
【選択図】図1(a)
Description
ここで、nは光記録媒体の透明基板の屈折率、dは透明基板の厚み、NAは対物レンズの開口数、λは光源の波長、θは光記録媒体のチルト量を意味する。この式から、短波長、高NAほど収差が大きくなることがわかる。
DiscやHD−DVDにおいて使用される青紫色波長領域の光ビームは、CDやDVDなどで使用される赤色波長領域のレーザーに比べて透明電極に吸収されやすく、また光学材料の屈折率波長分散を増加させ、波面収差を増大させる傾向にあるからである。
本発明の液晶収差補正素子は、第1、第2の透明導電膜がそれぞれ形成された第1と第2の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子において、第1の透明導電膜が、外部から給電を行うための複数個の引出電極と、当該引出電極の一部の表面をオーバーラップして、引出電極と同じ材料で、かつ引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための第1の収差補正用分割電極とを有することを特徴とするものである。
を特徴とするものである。
引出電極は、給電先から第1の収差補正用分割電極に至るまでの間に抵抗損失が生じない低抵抗の膜で形成とするのが望ましい。それに対して、第1の収差補正用分割電極は、Blu−ray対応とするために、使用する波長(405nm)の光ビームを十分透過するだけの薄膜とする必要がある。また、引出電極と第1の収差補正用分割電極は、異なるパターン形状となっており、かつ上述した様に、膜厚がそれぞれ異なっているので、2回のフォトリソ工程を経てそれぞれのパターンを形成しなくてはならない。ここで、1回目のフォトリソ工程で、薄膜透明導電膜で形成しなくてはならない第1の収差補正用分割電極とともに位置合わせマークを形成すると、1回目のフォトリソ工程にて薄膜透明導電膜で形成された位置合わせマークを用いて、2回目のフォトリソ工程にてこの引出電極のパターンと、先のパターン(第1の収差補正用分割電極)とを精度良く位置合わせをすることができなくなる。
る。
程を経て、厚膜透明導電膜からなる、位置合わせマーク6A〜6D、引出電極9A〜9E、接続配線10A〜10Dのパターンを形成する。
まず、この引出電極9A〜9Eおよび接続配線10A〜10D上に薄膜透明導電膜を、先と同様にしてCVD法等の手段によって形成する。
は、本実施の形態に係る液晶収差補正素子の一構成例として示す球面収差補正用電極パターンを示す平面図である。
ンのみが異なるものである。
Disc、HD−DVDなどの青紫色波長領域での収差補正に必要な透明電極膜の薄膜化を、問題なく行うことが可能となる。
2 第2の透明基板
3 液晶
4、5 シール剤
6A〜6D 位置合わせマーク
7A〜7E 第1の収差補正用分割電極
8A〜8E 第2の収差補正用分割電極
9A〜9E 引出電極
10A〜10D 接続配線
11、12 透明導電膜
15 導電性ビーズ
13、14 配向膜
100、200、300 液晶収差補正素子
Claims (5)
- 第1、第2の透明導電膜がそれぞれ形成された第1と第2の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子において、
前記第1の透明導電膜は、外部から給電を行うための複数個の引出電極と、当該引出電極の一部の表面をオーバーラップして、前記引出電極と同じ材料で、かつ前記引出電極よりも薄い膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための第1の収差補正用分割電極とを有する
ことを特徴とする液晶収差補正素子。 - 前記第1の収差補正用分割電極には、前記引出電極と同じ材料で、かつ同じ膜厚で形成された接続配線により、前記第1の収差補正用分割電極と同じ膜厚で形成された第2の収差補正用分割電極が接続されている
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶収差補正素子。 - 内側に透明導電膜が形成された2枚の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子の製造方法において、
前記透明基板の表面に厚膜透明導電膜を形成した後に、外部から給電を行うための複数個の引出電極と位置合わせマークのパターンを形成する厚膜電極形成工程と、
前記引出電極と同じ材料で、前記引出電極を被覆する薄膜透明導電膜を形成した後に、前記引出電極の一部の表面をオーバーラップして、かつ前記引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための収差補正用分割電極のパターンを、前記位置合わせマークを用いて形成する薄膜電極形成工程と、を有する
ことを特徴とする液晶収差補正素子の製造方法。 - 前記厚膜電極形成工程で形成された前記位置合わせマークを用いて、前記2枚の透明基板を貼り合わせ後に液晶を注入する液晶収差補正素子形成工程を、さらに有する
ことを特徴とする請求項3に記載の液晶収差補正素子の製造方法。 - 前記厚膜透明導電膜と前記薄膜透明導電膜を、同じ成膜手段により形成することを特徴とする請求項3または4に記載の液晶収差補正素子の製造方法。
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JP2006074574A JP2007248986A (ja) | 2006-03-17 | 2006-03-17 | 液晶収差補正素子およびその製造方法 |
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JP2017083615A (ja) * | 2015-10-27 | 2017-05-18 | シチズン時計株式会社 | 液晶光学素子 |
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JP2003123304A (ja) * | 2001-10-12 | 2003-04-25 | Asahi Glass Co Ltd | 光ヘッド装置 |
JP2005100567A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-14 | Asahi Glass Co Ltd | 光ヘッド装置 |
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- 2006-03-17 JP JP2006074574A patent/JP2007248986A/ja active Pending
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