JP2007243019A - 光半導体素子 - Google Patents
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Abstract
横高次モードの発生を抑制し、素子抵抗の増大を抑制できる、側壁上垂直溝回折格子を有する光半導体素子を提供する。
【解決手段】
光半導体素子は、半導体基板と、半導体基板上方に成長された積層をエッチングすることによって形成され、側壁によって幅が規定された導波路構造であって、導波方向に沿って幅の広い広幅部と、幅の狭い狭幅部と、広幅部と狭幅部とを接続する中間部とを有する導波路構造と、導波路構造の広幅部と狭幅部の少なくともいずれかの側壁上に形成され、垂直方向の溝が導波方向に沿って周期的に配置され、導波路構造の伝播光の波長を規定する回折格子と、を有し、狭幅部が高次横モードに対して50%以上の損失を与えるように形成される。
【選択図】 図1
Description
Oku et al.:IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, Vol.5, no.3, p.682, 1999
半導体基板と、
前記半導体基板上方に成長された積層をエッチングすることによって形成され、側壁によって幅が規定された導波路構造であって、導波方向に沿って幅の広い広幅部と、幅の狭い狭幅部と、広幅部と狭幅部とを接続する中間部とを有する導波路構造と、
前記導波路構造の広幅部と狭幅部の少なくともいずれかの側壁上に形成され、垂直方向の溝が導波方向に沿って周期的に配置され、前記導波路構造の伝播光の波長を規定する回折格子と、
を有し、前記狭幅部が高次横モードに対して損失を与えるように形成された光半導体素子
が提供される。
半導体基板と、
前記半導体基板上方に成長された積層をエッチングすることによって形成され、側壁によって幅が規定された導波路構造であって、導波方向に沿って幅の広い広幅部と、幅の狭い狭幅部と、広幅部と狭幅部とを接続する中間部とを有する導波路構造と、
前記導波路構造の広幅部と狭幅部の少なくともいずれかの側壁上に形成され、垂直方向の溝が導波方向に沿って周期的に配置され、前記導波路構造の伝播光の波長を規定する回折格子と、
を有し、前記狭幅部が高次横モードに対して50%以上の損失を与えるように形成された光半導体素子。
前記狭幅部の導波路幅は、前記広幅部の導波路幅の75%以下である付記1記載の光半導体素子。
前記導波路構造の両端はへき開され、キャビティを構成している付記1または2記載の光半導体素子。
前記キャビティ端面の少なくともいずれかの上に形成された反射膜をさらに有する付記3記載の光半導体素子。
前記回折格子は、前記導波路構造の広幅部、狭幅部いずれの側壁上にも形成されている付記1−4のいずれか1項記載の光半導体素子。
前記狭幅部の回折格子の周期は、前記広幅部の回折格子の周期より長い付記5記載の光半導体素子。
前記狭幅部の回折格子と前記広幅部の回折格子の各周期は、前記導波路構造の等価屈折率に基づいて決定され、同一の伝播波長を規定する付記6記載の光半導体素子。
前記狭幅部の回折格子の導波路幅方向格子長は、前記広幅部の回折格子の導波路幅方向格子長より長い付記5−7のいずれか1項記載の光半導体素子。
前記回折格子は、前記導波路構造の中間部側壁上にも形成され、前記中間部の回折格子の周期は、前記広幅部の周期から前記狭幅部の周期までの範囲内の値を有する付記5−8のいずれか1項記載の光半導体素子。
前記狭幅部の回折格子の導波路幅方向格子長は、前記広幅部の回折格子の導波路幅方向格子長より長く、前記中間部の回折格子の導波路幅方向格子長は前記狭幅部に向かって徐々に長くなる付記9記載の光半導体素子。
前記導波路構造は、リッジ導波路を構成する付記1−10のいずれか1項記載の光半導体素子。
(付記12)
前記積層が下側クラッド層、活性層、上側クラッド層を含み、前記導波路構造は、前記上側クラッド層までのエッチングで形成されている付記11記載の光半導体素子。
前記導波路構造は、ハイメサ導波路を構成する付記1−10のいずれか1項記載の光半導体素子。
(付記14)
前記積層が下側クラッド層、活性層、上側クラッド層を含み、前記導波路構造は、前記上側クラッド層、前記活性層を貫通するエッチングで形成されている付記13記載の光半導体素子。
(付記15)
前記半導体基板がGaAs基板である付記12または14記載の光半導体素子。
(付記16)
前記活性層がInAs量子ドットを含む付記15記載の光半導体素子。
(付記17)
前記半導体基板がInP基板である付記12または14記載の光半導体素子。
(付記18)
前記活性層がInAsSb量子ドットを含む付記17記載の光半導体素子。
2 下側クラッド層
3 活性層
4 上側クラッド層
5 コンタクト層
7,8 電極
9 反射膜
WG 導波路部
DG 回折格子部
Claims (11)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上方に成長された積層をエッチングすることによって形成され、側壁によって幅が規定された導波路構造であって、導波方向に沿って幅の広い広幅部と、幅の狭い狭幅部と、広幅部と狭幅部とを接続する中間部とを有する導波路構造と、
前記導波路構造の広幅部と狭幅部の少なくともいずれかの側壁上に形成され、垂直方向の溝が導波方向に沿って周期的に配置され、前記導波路構造の伝播光の波長を規定する回折格子と、
を有し、前記狭幅部が高次横モードに対して損失を与えるように形成された光半導体素子。 - 前記回折格子は、前記導波路構造の広幅部、狭幅部いずれの側壁上にも形成されている請求項1記載の光半導体素子。
- 前記狭幅部の回折格子の周期は、前記広幅部の回折格子の周期より長い請求項2記載の光半導体素子。
- 前記狭幅部の回折格子と前記広幅部の回折格子の各周期は、前記導波路構造の等価屈折率に基づいて決定され、同一の伝播波長を規定する請求項3記載の光半導体素子。
- 前記狭幅部の回折格子の導波路幅方向格子長は、前記広幅部の回折格子の導波路幅方向格子長より長い請求項2−4のいずれか1項記載の光半導体素子。
- 前記回折格子は、前記導波路構造の中間部側壁上にも形成され、前記中間部の回折格子の周期は、前記広幅部の周期から前記狭幅部の周期までの範囲内の値を有する請求項2−5のいずれか1項記載の光半導体素子。
- 前記狭幅部の回折格子の導波路幅方向格子長は、前記広幅部の回折格子の導波路幅方向格子長より長く、前記中間部の回折格子の導波路幅方向格子長は前記狭幅部に向かって徐々に長くなる請求項6記載の光半導体素子。
- 前記狭幅部は、高次横モードに対して50%以上の損失を与える請求項1−7のいずれか1項記載の光半導体素子。
- 前記前記狭幅部の導波路幅は、前記広幅部の導波路幅の75%以下である請求項1−8のいずれか1項記載の光半導体素子。
- 前記導波路構造は、リッジ導波路を構成する請求項1−9のいずれか1項記載の光半導体素子。
- 前記導波路構造は、ハイメサ導波路を構成する請求項1−9のいずれか1項記載の光半導体素子。
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