JP2007235088A5 - - Google Patents

Claims (29)

1. 露光ビームを基板に照射する露光装置であって、
   前記露光ビームが照射され、露光ビームの射出面側の光路空間が液体で満たされる光学素子と、
   前記光学素子の有効領域外の表面の少なくとも一部に設けられた撥液機能膜とを備え、
   前記撥液機能膜は、前記光学素子の表面に形成された遮光膜と該遮光膜の表面に形成された撥液膜を備える露光装置。
2. 前記撥液機能膜は、撥水機能膜である請求項１記載の露光装置。
3. 前記光学素子は、前記感光性基板側の第１光学素子と前記マスク側の第２光学素子を含み、前記第１光学素子と前記第２光学素子との間に、液浸領域を備える請求項１に記載の露光装置。
4. 前記撥水膜は、フッ素樹脂である請求項１に記載の露光装置。
5. 前記遮光膜は、光学濃度（optical density）ＯＤ１以上である請求項１に記載の露光装置。
6. 前記遮光膜は、金属膜または金属酸化膜により形成されている請求項１に記載の露光装置。
7. 前記金属膜は、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｐｄ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｓｉ及びＣｒからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属により形成されている請求項６記載の露光装置。
8. 前記金属酸化膜は、ＺｒＯ_２，ＨｆＯ_２，ＴｉＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５，ＳｉＯ及びＣｒ_２Ｏ_３からなる群から選ばれた少なくとも１種の物質により形成されている請求項６記載の露光装置。
9. 請求項１に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
   前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
   を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
10. 液体を介して基板を露光する液浸露光装置に使用される光学素子であって、
    前記光学素子の基材と、
    前記基材の表面の少なくとも一部に設けられた撥液部材と、
    前記基材と撥液部材の間に設けられ、光を減光して光の照射から撥液部材を保護する減光部材とを備える光学素子。
11. 前記減光部材は、光学素子の有効領域の外に設けられている請求項１０に記載の光学素子。
12. 前記減光部材は、光学素子の側面に設けられている請求項１０に記載の光学素子。
13. 前記減光部材は、光学素子の光軸と交わらない領域に設けられている請求項１０に記載の光学素子。
14. 前記光学素子は、投影光学系に使用され、該投影光学系は、投影光学系の光射出側の光路空間を液体で満たし該液体を介して基板を投影する請求項１０に記載の光学素子。
15. 前記光学素子は、前記投影光学系の光射出側で液体に接するように投影光学系内に設けられている請求項１４に記載の光学素子。
16. 前記減光部材は薄膜により形成される減光膜であり、または前記撥液部材は薄膜により形成される撥液膜である請求項１０に記載の光学素子。
17. 前記減光部材は、遮光膜である請求項１０に記載の光学素子。
18. 前記遮光膜は、光学濃度ＯＤ１以上である請求項１７に記載の光学素子。
19. 前記減光部材は、金属膜または金属酸化膜により形成されている請求項１０に記載の光学素子。
20. 前記金属膜は、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｐｄ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｓｉ及びＣｒからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属により形成されていることを特徴とする請求項１９記載の光学素子。
21. 前記金属酸化膜は、ＺｒＯ_２，ＨｆＯ_２，ＴｉＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５，ＳｉＯ及びＣｒ_２Ｏ_３からなる群から選ばれた少なくとも１種により形成されている請求項１９記載の光学素子。
22. 前記撥液膜は、撥水膜である請求項１６記載の光学素子。
23. 前記撥水膜は、フッ素系樹脂である請求項２２記載の光学素子。
24. 前記光学素子の最表面に前記撥液膜が設けられている請求項１６記載の光学素子。
25. 液体を介して基板を露光する液浸露光装置であって、請求項１０〜２４の何れか一項に記載の光学素子を含む液浸露光装置。
26. 請求項１０〜２４の何れか一項に記載の光学素子を２以上含む液浸露光装置。
27. 請求項１０〜２４の何れか一項に記載の光学素子の光射出面が液体と接する液浸露光装置。
28. 液体を介して基板を露光する露光方法であって、請求項２５〜２７の何れか一項に記載の液浸露光装置を使用する露光方法。
29. 請求項２８に記載の露光方法により基板を露光することと、
    露光された基板を現像することと、
    現像した基板を加工することを含むデバイスの製造方法。