JP2007227499A - 基板支持装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】被露光基板の被支持面の平面度を高めながら異物による影響を低減することが可能な基板支持装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】基部101a上に、同一平面上に先端面102aを有する円環状の枠形状部102と、枠形状部102の先端面102aと同一平面上に先端面103aを有する凸部103とを形成し、先端面102aと平行なウェハ支持面110aと基部101aとの間に、軟質ウレタンフォームからなる軟質部110を充填するように配設する。軟質部110は通気性を有し、基部101aに形成された吸引孔105を介して真空ポンプ10により空気を吸引することでウェハ20が、ウェハ支持面110a上に吸引され支持される。
【選択図】図3
【解決手段】基部101a上に、同一平面上に先端面102aを有する円環状の枠形状部102と、枠形状部102の先端面102aと同一平面上に先端面103aを有する凸部103とを形成し、先端面102aと平行なウェハ支持面110aと基部101aとの間に、軟質ウレタンフォームからなる軟質部110を充填するように配設する。軟質部110は通気性を有し、基部101aに形成された吸引孔105を介して真空ポンプ10により空気を吸引することでウェハ20が、ウェハ支持面110a上に吸引され支持される。
【選択図】図3
Description
本発明は、基板支持装置及び露光装置に関し、基板を吸引し支持する基板支持装置及び露光装置に関する。
一般に、半導体の集積回路や液晶装置等の製造工程におけるリソグラフィ工程で用いられる露光装置では、露光されるウェハ等の基板は、支持台上に載置され、真空吸引等によって支持台上に固定される。このような露光装置において、被露光基板の支持台との間に異物(ゴミ等のパーティクル)が存在する場合、異物によって被露光基板の被露光面とは反対側の面である裏面が押圧されることで被露光基板が湾曲してしまうことにより、焦点(フォーカス)ずれが発生し正確な露光が行えなくなる。
このような、焦点ずれを低減する手段として、特開平8−83757号公報に、被露光基板(被露光ウェハ)の裏面の周辺部を支持し、被露光基板の周辺部より内側の裏面には接触しない支持台を具備することで、被露光基板と支持台との間に異物が挟み込まれる確立を低減する露光装置が開示されている。
特開平8−83757号公報
しかしながら、特開平8−83757号公報に開示の露光装置のように、被露光基板の周辺部のみを支持台により支持する場合においても、依然、被露光基板と支持台との間に異物が挟みこまれる可能性は存在するため、異物によって被露光基板が湾曲してしまうことにより、焦点ずれが発生してしまうと言う問題が解決されるわけではない。
また、被露光基板の被支持面である裏面の周辺部のみを支持する支持台を用いた場合、被露光基板の中央部が自重及び真空による吸引力によって湾曲してしまい、露光時に焦点ずれが生じてしまうと言う問題がある。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、被露光基板の被支持面の平面度を高めながら異物による影響を低減することが可能な基板支持装置及び露光装置を提供することを目的とする。
本発明に係る基板支持装置は、平板状の基板を支持する基板支持装置であって、前記平板状の基板を支持する支持面に対して離間した位置に配設された平面により構成される平面部と、該平面部に凹部を設けることにより該凹部の周囲に形成された枠形状部と、前記凹部の底面部から突設され先端部が前記平面部と同一平面上に位置する凸部と、前記凹部の底面部に形成された吸引孔と、を具備する支持部材と、前記支持面と前記支持部材との間に配設され、前記基板、前記枠形状部及び前記凸部を構成する材料よりも低い弾性率を有する材料で構成され、前記支持面側の表面部の少なくとも一部が前記支持面を構成する軟質部材とを有することを特徴とする。
本発明のこのような構成によれば、基板と基板支持装置の支持面との間に異物が介在する場合でも、軟質部材が変形し軟質部材内に異物が埋没するため、異物の存在が基板の平面度を悪化させることなく基板を支持することが可能となる。
また、本発明は、前記軟質部材は、前記支持面の法線方向から見て、前記枠形状部及び前記凸部を覆うように配設されることが好ましい。
このような構成によれば、枠形状部及び凸部と基板との間に異物が介在する場合においても、軟質部材が変形し軟質部材内に異物が埋没するため、異物の存在が基板の平面度を悪化させることがない。
また、本発明は、前記軟質部材は、前記支持部材の前記凹部内に充填されることが好ましい。
このような構成によれば、凹部内にも軟質部材が充填されているため、基板の全面を支持することができ、基板の中央部が自重及び真空による吸引力によって湾曲してしまうことがなく、基板の被支持面の平面度を高めながら異物による影響を低減することが可能となる。
また、本発明は、前記軟質部材は、内部に空洞部を有することが好ましい。
このような構成によれば、軟質部材の厚さを局所的に変化させることで、軟質部材の弾性反発により基板に加わる応力を均一化させることが可能となる。
また、本発明は、前記軟質部材は、前記吸引孔と前記支持面とを連通する通気孔を有することが好ましい。
このような構成によれば、基板を吸引する空気流量を高めることができ、確実に基板を支持することが可能となる。
また、本発明は、前記軟質部材は、弾性または粘弾性を有する樹脂により構成されることが好ましい。
また、本発明は、前記樹脂は、ウレタン樹脂であることが好ましい。
このような構成によれば、軟質部材を容易に作成することが可能となる。
また、本発明の露光装置は、上記基板支持装置を具備することを特徴とする。
本発明のこのような構成によれば、露光時において基板が湾曲することに起因する焦点ずれが発生することが無く、正確な露光を行うことができる。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。まず、本実施形態の露光装置1の構成について説明する。図1は、露光装置1の構成を示す概略図である。本実施形態の露光装置1は、半導体集積回路や液晶装置等の製造工程におけるリソグラフィ工程で用いられるものであり、原版であるレチクル5に描かれた所定の形状を有するパターンを、基板であるウェハ20の被露光面である表面上に投影する装置である。
まず、本実施形態の露光装置1の構成について以下に説明する。露光装置1は、光源装置11と、照明光学系2と、レチクル5と、投影光学系6とを有している。光源装置11は、光源である水銀ランプ12と楕円集光鏡13を有し、水銀ランプ12から放射された光を楕円集光鏡13により集光し、照明光学系2へ照明光を出射する。照明光学系2は、複数のコンデンサレンズ及びインテグレータ等の各照明用光学素子群3により構成され、光源装置11から出射された照明光を略均一な光束に整形してレチクル5へ出射する。なお、本実施形態においては、照明光学系2は照明光の光軸上に複数のミラー4を有し、該ミラー4によって照明光の光軸は折り曲げられている。投影光学系6は、レチクル5と投影面とが共役な関係となるように配設されたレンズ群からなり、レチクル5を透過した照明光が、該投影光学系6を介して焦点面である投影面上に達することで、レチクル5のパターン像が投影面上に形成される。
また、露光装置1は、ウェハ20を載置し固定するための基板支持装置であるチャック100と、チャック100上でウェハ20を吸引するための真空ポンプ10と、チャック100を移動させるためのXYステージ8とを有している。チャック100は、チャック100のウェハ20が載置される箇所には真空ポンプ10に連通する吸引孔が形成されており、該吸引孔内を真空ポンプ10により減圧することにより、ウェハ20が、チャック100上に吸引され固定される。なお、真空ポンプ10は、露光装置1外に配設されるものであってもよい。
XYステージ8は、サーボモータ等により駆動される2軸の直動機構7を有し、チャック100を、光軸に略直交する平面上において所定の位置に位置決めする。XYステージ8が、ウェハ20が固定されたチャック100を移動させることにより、ウェハ20の表面を焦点面上において移動させることで、ウェハ20の表面の所定の位置にレチクル5のパターン像が投影される。
次に、本実施形態の基板支持装置であるチャック100について説明する。チャック100は、支持面であるウェハ支持面110a上に載置された略円形の平板状の基板であるウェハ20を、吸引し支持するものである。図2は、チャック100をウェハ支持面110aに直交する方向から見た平面図である。図3は、図2のIII−III断面図である。なお、本実施形態の説明に用いる各図においては、各部材及びその特徴部を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材及びその特徴部毎に縮尺を異ならしめてある。また、以下、本実施形態では、チャック100の、ウェハ支持面110aの法線に平行な外側方向を上方、またその反対側方向を下方とする。すなわち、図3を紙面に正対して見て上となる方向であり、投影光学系6が配設される方向が上方とする。また、図2に示すように、チャック100及びその構成部材を、ウェハ支持面110aに直交し、ウェハ支持面110a側から見る場合を、平面視と称する。
チャック100は、セラミックや金属等からなる支持部材であるチャックプレート部101と、チャックプレート部101の上方に配設された弾性もしくは粘弾性を有する樹脂、ここでは軟質ウレタンフォームからなる軟質部材である軟質部110とを有して構成されている。
チャックプレート部101は、平面視において、ウェハ20の外周形状よりも大きい略円形の形状を有する略円盤状の部材である。チャックプレート部101は、円形の平板状の基部101aと、基部101aから上方へ突設された枠形状部102及び凸部103と、基部101aに穿設された吸引孔105とを有して構成されている。
枠形状部102は、基部101aの外周部の上面に形成され、平坦な先端面102aを有する円環状の凸条の形状を有する。枠形状部102の先端面102aは、基部101aと平行な平面に接し、かつ該平面において閉領域を形成するように連続して形成されている。すなわち、枠形状部102は、基部101aの外周部から上方へ、先端面102aが一定の高さとなるように円環状に連続的に形成されている。また、枠形状部102の先端面102aは、平面視でウェハ20の中心とチャックプレート部101の中心とを略一致させた場合において、先端面102の内周がウェハ20の外形よりも径方向内側となるように形成されている。
凸部103は、円形の平板状の基部101aの上面の中心に突設された平面視円形の凸状部であり、先端面103aが、前記枠形状部102の先端面102aと同一の平面上に位置するように形成されている。
枠形状部102の先端面102aに接する平面と、基部101aの上面とに挟まれ、枠形状部102と凸部103との間の領域である、厚さを有した平面視円環状の領域を、以下、溝部104と称する。チャックプレート部101は、言い換えれば、円形の平板の一表面である平面部に、ウェハ20の外径よりも小さい外径を有する円環状の凹部である溝部104を形成した形状を有する部材である。
溝部104の底面部には、基部101aを貫通して穿設された吸引孔105が形成されている。吸引孔105は、平面視でチャックプレート部101の中心から径方向に等しい距離を有し、かつ周方向に等間隔に8つ形成されている。
吸引孔105は、図3では簡略的に示した通気経路120を介して、真空発生源である真空ポンプ10に連通される。
一方、軟質部110は、ポリエーテル系もしくはポリエステル系のポリウレタン樹脂を発泡した軟質ウレタンフォームにより構成されており、チャックプレート部101の上方全面を覆い、かつ表面が枠形状部102の先端面102aに接する平面と平行な平面であるウェハ支持面110aを構成するように形成されている。すなわち、軟質部110は、平面視ではチャックプレート部101の外形と同一形状の円形状であり、かつウェハ支持面110aとチャックプレート部101の上面との間に充填される形状を有した軟質ウレタンフォームである。軟質部110の厚さは、本実施形態では枠形状部102の先端面102a上及び凸部103の先端面103a上において2ミリメートルである。軟質部110は、チャックプレート部101に接着剤により固定されている。
軟質部110は、軟質部110を構成する軟質ウレタンフォームが気泡が連続した構造を有するため、連続した気泡が通気孔の役割を果たし、等方的な通気性を有する。
また、軟質部110は、チャックプレート部101及びウェハ20の弾性率よりも低い弾性率を有する軟質ウレタンフォームにより構成されている。ここで、本実施形態では、軟質ウレタンフォームにより構成される軟質部110の性質の定義として弾性率を用いているが、これは、応力と変形時のひずみとの割合を示すものであり、チャックプレート部101及びウェハ20との比較としての変形のしやすさを表現するために用いているものである。弾性率は、弾性率の値が低い材料であるほど、変形しやすい材料であることを示す。本実施形態では、以下に述べるように、軟質部110を構成する軟質ウレタンフォームの弾性率を基準とした場合、チャックプレート部101及びウェハ20は、剛体とみなすことができる程度の弾性率を有する。
例えば、ウェハ支持面110aである軟質部110の上面にサブミクロンオーダから数ミクロンオーダのサイズである直径が0.5マイクロメートル程度の球形の物体が載置された状態で、さらにこの球形の物体及び軟質部110上にウェハ20が載置された場合に、ウェハ20による押圧により球形の物体は軟質部110内に埋没し、ウェハ20は変形することなく軟質部110の上面に接することができる。ただし、例えば直径が数十マイクロメートル以上の球形の物体のような寸法が数十ミクロンオーダから数ミリメートルオーダ程度の物体が軟質部110とウェハ20との間に介在する場合にはこの限りではない。
上述のように構成された基板支持装置であるチャック100による作用を以下に説明する。
チャック100のウェハ支持面110a上に、ウェハ20が、ウェハ20の中心が平面視でチャックプレート部101の中心と略一致するように載置される。ウェハ20がチャック100のウェハ支持面110a上に載置された状態で、真空ポンプ10により、吸引孔105を介して空気が吸引される。このとき、ウェハ20と枠形状部102及び基部101aに囲まれた領域である溝部104内の気圧がチャック100の周囲の気圧よりも負圧となる。軟質部110は通気性を有するため、溝部104内とチャック100の周囲との気圧差により、ウェハ20が、ウェハ支持面110a上に吸引され固定される。ここで、軟質部110のウェハ20と枠形状部102の先端面102aとの間に介在する箇所も通気性を有するため、当該箇所において真空の漏れが発生してしまうが、当該箇所の厚さは2ミリメートル程度と薄く空気の流路抵抗が大きい。このため、真空ポンプ10の空気吸引流量が充分に大きければ、溝部104内はチャック100の周囲に対して負圧に保たれるため、ウェハ20はチャック100に吸引され固定される。
チャック100のウェハ支持面110a上に、ウェハ20が、ウェハ20の中心が平面視でチャックプレート部101の中心と略一致するように載置される。ウェハ20がチャック100のウェハ支持面110a上に載置された状態で、真空ポンプ10により、吸引孔105を介して空気が吸引される。このとき、ウェハ20と枠形状部102及び基部101aに囲まれた領域である溝部104内の気圧がチャック100の周囲の気圧よりも負圧となる。軟質部110は通気性を有するため、溝部104内とチャック100の周囲との気圧差により、ウェハ20が、ウェハ支持面110a上に吸引され固定される。ここで、軟質部110のウェハ20と枠形状部102の先端面102aとの間に介在する箇所も通気性を有するため、当該箇所において真空の漏れが発生してしまうが、当該箇所の厚さは2ミリメートル程度と薄く空気の流路抵抗が大きい。このため、真空ポンプ10の空気吸引流量が充分に大きければ、溝部104内はチャック100の周囲に対して負圧に保たれるため、ウェハ20はチャック100に吸引され固定される。
ウェハ20がチャック100に吸引された状態において、ウェハ20は、外周部が枠形状部102の先端面102aにより支持され、中央部が凸部103の先端面103aにより支持される。このため、ウェハ20の中央部が自重及び真空による吸引力によって下方へ湾曲してしまうことがない。
このとき、先端面102a及び103aとウェハ20との間には軟質部110が介在するものであるが、両者間において軟質部110の厚さは均一であるため、ウェハ20を支持する応力が偏在することはなく、軟質部110がウェハ20の平面度を悪化させることはない。
また、ウェハ20がチャック100に吸引された状態において、ウェハ20のウェハ支持面110aと接する被支持面は、全面が軟質部110により支持されている。溝部104が負圧に保たれることにより、ウェハ20の平面視で溝部104と重なる箇所にウェハ20を湾曲させる下向きの力が加わるが、当該箇所のウェハ20の被支持面は、溝部104に充填された軟質部110により支持されているため、軟質部110が配設されていない場合に比べて、ウェハ20の湾曲量は小さくなる。
また、図4に示すように、ウェハ20がチャック100に吸引された状態において、ウェハ20を主に支持する先端面102aもしくは103a上で、ウェハ20の被支持面とウェハ支持面110aとの間に、異物130が挟み込まれている場合、軟質部110の弾性率がウェハ20の弾性率よりも低いため、異物130はウェハ20からの押圧により軟質部110内に埋没する。このとき、異物130を軟質部110方向へ押圧することによる反力によりウェハ20が上方へ湾曲する量は、例えば従来のように金属で構成されたウェハ支持面に対し異物を押圧することにより発生する湾曲量に比べて極僅かである。特に、異物130の大きさが数ミクロンオーダ以下であれば、異物130は、ウェハ20を上方へ湾曲させることなく軟質部110に埋没してしまう。すなわち、異物130の存在が、ウェハ20の表面の平面度の変化に影響を及ぼすことがない。なお、平面視で溝部104が形成された領域に異物が挟み込まれる場合においても、同様に異物がウェハ20からの押圧により軟質部110に埋没することで、ウェハ20の湾曲量が抑えられることは言うまでもない。
上述した作用により、本実施形態の基板支持装置であるチャック100によれば、以下のような効果が得られる。
本実施形態によれば、チャック100に吸引されるウェハ20は、外周部が枠形状部102の先端面102aにより支持され、中央部が凸部103の先端面103aにより支持される。枠形状部102の先端面102a及び凸部103の先端面103aは、同一平面上に位置しているため、ウェハ20の中央部が自重及び真空による吸引力によって湾曲してしまうことがない。
本実施形態によれば、チャック100に吸引されるウェハ20は、外周部が枠形状部102の先端面102aにより支持され、中央部が凸部103の先端面103aにより支持される。枠形状部102の先端面102a及び凸部103の先端面103aは、同一平面上に位置しているため、ウェハ20の中央部が自重及び真空による吸引力によって湾曲してしまうことがない。
また、ウェハ20は、ウェハ20を吸引するためにチャック100の周囲よりも低い気圧となる箇所である溝部104上においても、全面が軟質部110により支持されている。このため、ウェハ20の吸引される箇所が負圧方向に湾曲する量は、軟質部110が配設されていない場合に比べて、小さくなる。
また、ウェハ20の被支持面は、全面が軟質部110により支持されているため、ウェハ20の被支持面とウェハ支持面110aとの間に、異物が挟み込まれてしまう場合、異物はウェハ20からの押圧により軟質部110に埋没する。このため、ウェハ20が異物を押圧する方向とは反対の方向に湾曲する量は、従来のように金属やセラミック等で構成されたウェハ支持面とウェハとの間に異物が挟み込まれることにより発生する湾曲量に比べて、小さくすることが可能である。
したがって、本実施形態の基板支持装置であるチャック100によれば、ウェハの被支持面の平面度を高めながら、ウェハの被支持面とウェハ支持面との間に介在する異物による影響を低減することが可能となるのである。
そして、本実施形態の基板支持装置であるチャック100を備えた露光装置1によれば、露光時において焦点ずれが発生することが無く、正確な露光を行うことができる。
なお、上記に説明した本実施形態では、軟質部は、通気性を有する軟質ウレタンフォームにより構成されているが、軟質部は、フォーム内の気泡がそれぞれ独立し通気性を持たないウレタン樹脂であるウレタンフォーム等により構成されてもよい。図5は、チャックの変形例を示す平面図である。図6は、図5のVI−VI断面図である。この場合、図5及び図6に示すように、通気性を持たない軟質部220には、チャックプレート部101に形成された複数の吸引孔105のそれぞれが、ウェハ支持面110aに連通するように、複数の通気孔225が形成される。本実施形態の軟質部は、ウレタン樹脂に限らず、弾性または粘弾性を有するゴム等の樹脂であってもよい。
また、本実施形態では、チャックプレートの吸引孔を溝部にのみ形成しているが、図5に示すように、枠形状部102及び凸部103に吸引孔105を形成してもよい。
また、本実施形態に係る基板支持装置のチャックプレート部は、基板であるウェハの外周部を支持し、かつウェハと基部との間に負圧となる閉空間を形成するための枠形状部と、平面視で枠形状部内においてウェハを支持する凸部が形成されていればよい。その形態を、図7から図10を用いて説明する。図7及び図9は、チャックプレート部の変形例を示す平面図である。図8及び図10は、それぞれ図7及び図9の断面図である。
例えば、図7及び図8に示すように、チャックプレート部231の基部101aには、中心部の凸部103のみではなく、平面視で同心円状の複数の凸条の凸部234が形成されてもよい。図7においては、同心円状の複数の凸条の凸部234は、切り欠き部234aにより周方向に4等分されているが、これは枠形状部102に囲まれた領域を均一な気圧に保つためのものである。また、例えば、図9及び図10に示すように、平面視矩形状の複数の凸部243が、チャックプレート部241の基部101a上にマトリクス状に分布して配設されてもよい。
図7から図10に示したように、基板の外周部を支持する枠形状部の平面視内側に、複数の凸部を形成すれば、より基板を均等に支持することが可能となり、基板が自重及び真空による吸引力により湾曲してしまうことを防止することができるため、より大型、もしくはより薄い基板を平面度を悪化させることなく支持することができる。
また、本実施形態においては、軟質部110は、ウェハ支持面110aと枠形状部102とに囲まれた領域内に隈なく充填されているものであるが、軟質部110の形状はこの形態に限るものではない。その変形例をチャックの断面図として図11及び図12に示し、以下に説明する。例えば、図11に示すように、軟質部110内に、空洞部111が形成されていてもよい。また例えば、図12に示すように、軟質部110の表面部である表面110bは、ウェハ支持面110aと一致する平面形状を持たずに、凹凸を有する曲面により構成されてもよい。すなわち、ウェハ支持面110aは、軟質部110の表面110bの少なくとも一部により構成されてもよい。図11及び図12に示したように、軟質部110の内部に空洞部111を設ける、もしくは、軟質部110の表面110bを曲面により構成することにより、軟質部110の上下方向(ウェハ支持面110aの法線方向)の厚さを、場所により異ならせることができる。このように、ウェハ20を直接支持する軟質部110のウェハ支持面110aの法線方向の厚さを局所的に異ならせることにより、ウェハ20を吸引し支持する場合の軟質部110が圧縮される量を場所により異ならせることができる。このため、ウェハ20を吸引し支持する場合に、ウェハ20に加えられる応力を均一化させることが可能となる。
なお、本実施形態では、被支持基板として略円形状のウェハ基板を例に説明しているが、被支持基板は円形に限らない。被支持基板は、例えば液晶装置を構成する矩形状のガラス基板であってもよく、この場合、チャックプレート部はガラス基板の外周形状に対応する平面視矩形状の凸条部である枠形状部と、該枠形状部の平面視内側に凸部を有する。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う基板支持装置及び露光装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
10 真空ポンプ、 20 ウェハ、 100 チャック、 101 チャックプレート部、101a 基部、 102 枠形状部、 102a 先端面、 103 凸部、 103a 先端面、 104 溝部、 105 吸引孔、 110 軟質部、 110a ウェハ支持面、120 通気経路
Claims (8)
- 平板状の基板を支持する基板支持装置であって、
前記平板状の基板を支持する支持面に対して離間した位置に配設された平面により構成される平面部と、該平面部に凹部を設けることにより該凹部の周囲に形成された枠形状部と、前記凹部の底面部から突設され先端部が前記平面部と同一平面上に位置する凸部と、前記凹部の底面部に形成された吸引孔と、を具備する支持部材と、
前記支持面と前記支持部材との間に配設され、前記基板、前記枠形状部及び前記凸部を構成する材料よりも低い弾性率を有する材料で構成され、前記支持面側の表面部の少なくとも一部が前記支持面を構成する軟質部材とを有することを特徴とする基板支持装置。 - 前記軟質部材は、前記支持面の法線方向から見て、前記枠形状部及び前記凸部を覆うように配設されることを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
- 前記軟質部材は、前記支持部材の前記凹部内に充填されることを特徴とする請求項2に記載の基板支持装置。
- 前記軟質部材は、内部に空洞部を有することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の基板支持装置。
- 前記軟質部材は、前記吸引孔と前記支持面とを連通する通気孔を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の基板支持装置。
- 前記軟質部材は、弾性または粘弾性を有する樹脂により構成されることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の基板支持装置。
- 前記樹脂は、ウレタン樹脂であることを特徴とする請求項6に記載の基板支持装置。
- 請求項1から7に記載の基板支持装置を具備した露光装置。
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JP2006044856A JP2007227499A (ja) | 2006-02-22 | 2006-02-22 | 基板支持装置及び露光装置 |
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JP2015088510A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 凸版印刷株式会社 | Euv露光装置、保護被膜およびeuvマスクの露光方法 |
CN111646170A (zh) * | 2020-06-03 | 2020-09-11 | 浙江德宝通讯科技股份有限公司 | 一种大幅面钢板液压翻板机 |
-
2006
- 2006-02-22 JP JP2006044856A patent/JP2007227499A/ja not_active Withdrawn
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