JP2007227296A - ワーク処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ発生ノズル31は、プラズマ化されたガスを放出してワークWの上の塵埃を吹き飛ばすものであり、プラズマ発生ノズル31から放出されるプラズマ化されたガスが吹き飛ばした塵埃を収集する集塵装置120をさらに備えている。
【選択図】図1
Description
S ワーク処理装置
P プルーム
W ワーク
10 導波管
20 マイクロ波発生装置(マイクロ波発生手段)
31 プラズマ発生ノズル
110 ガス供給手段
120 集塵装置
130 姿勢調整手段(プルーム照射角度調整手段、プラズマ距離調整手段)
Claims (9)
- マイクロ波のエネルギーに基づいてガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズルと、このプラズマ発生ノズルにブラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給手段とを備え、このプラズマ発生ノズルから処理対象とされるワークにプラズマ化されたガスであるプルームを照射して所定の処理を施与するワーク処理装置であって、
前記プラズマ発生ノズルから放出されるプラズマ化されたガスにより吹き飛ばされた塵埃を収集する集塵装置をさらに備えていることを特徴とするワーク処理装置。 - マイクロ波を発生するマイクロ波発生手段と、前記マイクロ波を伝搬する導波管とを備え、
前記プラズマ発生ノズルは、前記導波管に設けられ、前記マイクロ波を受信しそのマイクロ波のエネルギーに基づいて処理ガスをプラズマ化するものであることを特徴とする請求項1に記載のワーク処理装置。 - 前記プラズマ発生ノズルからワークに対して放出されるプラズマ化されたガスの方向が、ワークが配置され、プルームが照射される基準となる基準照射面に対して傾斜するように構成され、
前記集塵装置は、前記プラズマ発生ノズルの傾斜前方側に配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のワーク処理装置。 - 前記導波管は、断面概ね矩形に形成され、
この断面矩形の導波管のワークに対する対向面が水平面に対して傾斜するように設けられることにより、プラズマ化されたガスの方向が、プルームが照射される基準となる基準照射面に対して傾斜するように構成されていることを特徴とする請求項3に記載のワーク処理装置。 - 前記被照射面に対するプルーム照射方向の傾斜角度を変更可能なプルーム照射角度調整手段を備えたことを特徴とする請求項3または4に記載のワーク処理装置。
- 前記プルーム照射角度調整手段は、プラズマ発生ノズルが設けられた導波管の長手方向中心軸の周りに導波管を回動させることにより、前記被照射面に対するプルーム照射方向の傾斜角度を変更可能に構成されていることを特徴とする請求項5に記載のワーク処理装置。
- 前記プラズマ発生ノズルとワークとの距離を変更可能なプラズマ距離調整手段を備えたことを特徴とする請求項1ないし6に記載のワーク処理装置。
- 前記プラズマ距離調整手段は、プラズマ発生ノズルが設けられた導波管を変位させることにより、前記プラズマ発生ノズルとワークとの距離を変更可能に構成されていることを特徴とする請求項7に記載のワーク処理装置。
- プラズマ発生ノズルの配置部を経由して、ワークを搬送するワーク搬送手段を備え、
前記集塵装置は、前記プラズマ発生ノズルのワーク搬送方向の下流側近傍に配置されていることを特徴とする請求項1ないし8に記載のワーク処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006049979A JP4619966B2 (ja) | 2006-02-27 | 2006-02-27 | ワーク処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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JP2007227296A true JP2007227296A (ja) | 2007-09-06 |
JP4619966B2 JP4619966B2 (ja) | 2011-01-26 |
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Family Applications (1)
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JP2006049979A Expired - Fee Related JP4619966B2 (ja) | 2006-02-27 | 2006-02-27 | ワーク処理装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP4619966B2 (ja) |
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A521 | Written amendment |
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