JP2007226223A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】半透過または反射型液晶表示装置におけるレンズ部を簡単な方法で形成する。
【解決手段】本発明は液晶表示装置の製造方法に関し、絶縁基板上に第１液状樹脂を含む第１インクをジェッティングして第１サブレンズ部を形成する工程と；前記第１サブレンズ部を硬化する工程と；硬化した前記第１サブレンズ部の間に第２液状樹脂を含む第２インクをジェッティングして第２サブレンズ部を形成する工程と；前記第２サブレンズ部を硬化してレンズ部を形成する工程と；前記レンズ部上に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、より詳しくはレンズ部が形成されている反射領域を有する液晶表示装置の製造方法に関する。

液晶表示装置は液晶パネルを含み、液晶パネルは、薄膜トランジスタが形成されている薄膜トランジスタ基板、カラーフィルタが形成されているカラーフィルタ基板、及びこれらの間に位置する液晶層を含む。
液晶表示装置は、光源の形態によって透過型と反射型に分けることができる。透過型液晶表示装置は、液晶パネルの背面にバックライトユニットを配置し、バックライトユニットからの光が液晶パネルを透過するようにする。反射型液晶表示装置は、自然光を利用することによって消費全力の約７０％を占めるバックライトユニットの使用を制限することができるため、消費全力を節減することができる。一方、半透過型（transflective）液晶表示装置は、透過型及び反射型液晶表示装置の長所を生かしたものであって、自然光とバックライトユニットを利用することにより、周辺光度の変化に関わらず使用環境に合うように適切な輝度を確保することができる。

反射型または半透過型液晶表示装置は、外部からの光を反射させるために反射膜が備える。反射膜は適当な異方散乱性を有しなければならないが、このために有機膜によりレンズ部を形成し、反射膜をレンズ部上に形成する。
ところが、レンズ部の形成は、有機膜の塗布、露光、現像及びリフローなどを経なければならないため、工程が複雑で、時間が多く必要となるという問題がある。

そこで、本発明の目的は、レンズ部を簡単に形成することができる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。

前記目的は、本発明、つまり、絶縁基板上に第１液状樹脂を含む第１インクをジェッティングして第１サブレンズ部を形成する工程と；前記第１サブレンズ部を硬化する工程と；硬化した前記第１サブレンズ部の間に第２液状樹脂を含む第２インクをジェッティングして第２サブレンズ部を形成する工程と；前記第２サブレンズ部を硬化してレンズ部を形成する工程と；前記レンズ部上に反射膜を形成する工程とを含む液晶表示装置の製造方法によって達成される。

前記第１液状樹脂及び前記第２液状樹脂は、紫外線硬化樹脂を含み、前記第１サブレンズ部及び前記第２サブレンズ部の硬化は紫外線を照射して行うことが好ましい。
前記第１サブレンズ部の形成前に、前記絶縁基板上に撥水層（hydrophobic layer）を形成する工程をさらに含み、前記レンズ部は前記撥水層と接することが好ましい。
前記撥水層は、シリコン系化合物、フッ素系化合物のうちの少なくともいずれか一つを含むことが好ましい。

前記レンズ部は、ドット形状で配置されていることが好ましい。
前記レンズ部は、半球型であることが好ましい。
前記レンズ部は、複数の列に配置されることが好ましい。
前記レンズ部の隣接した一対の列のうちのいずれか一つは第１サブレンズ部であり、他の一つは前記第２サブレンズ部であることが好ましい。
前記第１サブレンズ部及び前記第２サブレンズ部は、互いに交差するように配置されていることが好ましい。
前記レンズ部は、ストライプ形状であることが好ましい。
前記レンズ部の横断面は、半円形であることが好ましい。
前記第１インクと前記第２インクとは、同一の組成であることが好ましい。

前記本発明の目的は、透過領域と反射領域を有する液晶表示装置の製造方法において、反射領域上に第１液状樹脂を含む第１インクをジェッティングして第１サブレンズ部を形成する工程と；前記第１サブレンズ部を硬化する工程と；前記第１サブレンズ部の間に第２液状樹脂を含む第２インクをジェッティングして第２サブレンズ部を形成する工程と；前記第２サブレンズ部を硬化してレンズ部を形成する工程と；前記レンズ部上に反射膜を形成する工程とを含むことによって達成することができる。

前記レンズ部の形成前に、撥水層を形成する工程をさらに含み、前記レンズ部は前記撥水層に接することが好ましい。
前記レンズ部の形成前に、スイッチング素子を形成する工程をさらに含み、前記撥水層は前記反射領域に形成されることが好ましい。
前記レンズ部の形成後に、スイッチング素子を形成する工程をさらに含み、前記撥水層は前記反射領域及び前記透過領域にかけて形成されることが好ましい。
前記スイッチング素子と接続される透明導電層を形成する工程をさらに含むことが好ましい。

前記レンズ部は複数の列に配置され、前記第１サブレンズ部と前記第２サブレンズ部とは交互に配置されていることが好ましい。
前記スイッチング素子は、ソース電極とドレイン電極とを含み、前記ソース電極及びドレイン電極は前記撥水層に接することが好ましい。
前記レンズ部の形成前に、窒化シリコン層を形成する工程をさらに含み、前記レンズ部は前記窒化シリコン層に接することが好ましい。

本発明によれば、レンズ部を簡単に形成することができる液晶表示装置の製造方法が提供される。特に、レンズ部が微細で高密度に配置される場合においても、さらに、どのような種類、粘度、性質の液状樹脂を用いた場合においても、レンズ部を、意図しない形状、レンズ同士の連結状態等にすることなく、所望の配置及び形状で、簡便に形成することが可能となる。

以下、添付された図面を参照しながら、本発明についてさらに詳細に説明する。以下において、ある膜（層）が他の膜（層）の‘上に’形成されて（位置して）いるということは、二つの膜（層）が接している場合だけでなく、膜（層）の間に他の膜（層）が存在する場合も含む。
色々な実施形態において、同一の構成要素について同一の参照番号を付けており、同一の構成要素については第１実施形態で代表的に説明し、他の実施形態では省略され得る。
以下の実施形態においては、半透過型液晶表示装置を例に挙げて説明するが、本発明は反射型液晶表示装置にも適用される。

図１〜図３を参照して、本発明の第１実施形態によって製造された液晶表示装置について説明する。図１は本発明の第１実施形態によって製造された液晶表示装置の配置図であり、図２は図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図であり、図３は本発明の第１実施形態によって製造された液晶表示装置におけるレンズ部を説明するための図面である。
液晶表示装置１は、薄膜トランジスタＴが形成されている第１基板１００、これに対面している第２基板２００、及びこれらの間に位置している液晶層３００を含む。

先に、第１基板１００について説明する。
第１絶縁基板１１０上にゲート配線１２１、１２２が形成されている。ゲート配線１２１、１２２は横方向に伸びているゲート線１２１、及びゲート線１２１に接続されているゲート電極１２２を含む。
第１絶縁基板１１０上には、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）などからなるゲート絶縁膜１３０がゲート配線１２１、１２２を覆っている。
ゲート電極１２２のゲート絶縁膜１３０の上部には非晶質シリコンなどの半導体からなる半導体層１４０が形成されており、半導体層１４０の上部にはシリサイドまたはｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ^＋水素化非晶質シリコンなどの物質で作られた抵抗接触層１４５が形成されている。ソース電極１５２とドレイン電極１５３との間のチャネル部では抵抗接触層１４５が除去されている。

抵抗接触層１４５及びゲート絶縁膜１３０上にはデータ配線１５１、１５２、１５３が形成されている。データ配線１５１、１５２、１５３は、縦方向に形成され、ゲート線１２１と交差して画素を定義するデータ線１５１、データ線１５１の分岐でありながら抵抗接触層１４５の上部まで延長されているソース電極１５２、及びソース電極１５２と分離されていて、ソース電極１５２の反対側の抵抗接触層１４５の上部に形成されているドレイン電極１５３を含む。
データ配線１５１、１５２、１５３及びこれらが覆わない半導体層１４０の上部には、保護膜１６０が形成されている。保護膜１６０は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）などから形成されており、ドレイン電極１５３を露出する接触孔１６１が形成されている。

ゲート線１２１とデータ線１５１との交差によって定義される画素の略中央領域には、レンズ部１７０が形成されている。レンズ部１７０は保護膜１６０と接しており、その形成領域は後述する反射膜１８５の形成領域と大体一致する。
レンズ部１７０はドット形状で配置されており、複数の列を形成しながら規則的に配置されている。レンズ部１７０は、熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂または電子ビーム硬化樹脂を含んでいる。これら樹脂は、熱、紫外線または電子ビームが照射されれば、架橋反応などを経て硬化する樹脂である。
紫外線硬化樹脂としては、例えば、アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂などを用いることができる。

レンズ部１７０は、紫外線などによって活性化されて重合または架橋反応を開始させる光重合開始剤をさらに含むことができる。
レンズ部１７０は半球形状を有しているが、これはレンズ部１７０の上部に位置する反射膜１８５に適切な散乱異方性を付与するためである。各レンズ部１７０の直径は、特に限定されないが、例えば、約１０μｍ程度とすることができる。反射膜１８５における散乱があまりにも多ければ、カラーフィルタ２３０などにおける光吸収が増加して暗くなる。反面、反射膜１８５における散乱が少なければ、特定方向だけに光が集中して視野角に問題が生じる。また、液晶表示装置１は屈折率の互いに異なる多層から形成されているため、反射膜１８５から反射されて出る光の角度が限界角度以上になれば、液晶表示装置１を抜け出ることができない。

レンズ部１７０が半球形状であれば、反射膜１８５に適切な散乱異方性を付与して、輝度と視野角とも満足させることができる。
レンズ部１７０は、熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂または電子ビーム硬化樹脂を含むインクを保護膜１６０上にジェッティングして形成される。詳しい形成方法は後述する。
保護膜１６０及びレンズ部１７０上には画素電極１８０が形成されている。画素電極１８０は、通常、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなる。画素電極１８０は、接触孔１６１を通じてドレイン電極１５３と電気的に接続されている。

レンズ部１７０領域の画素電極１８０上には反射膜１８５が形成されている。反射膜１８５は、アルミニウム、銀またはアルミニウム−モリブデン合金のように反射率に優れた金属により形成することができる。反射膜１８５はレンズ部１７０上に形成されているため、レンズ部１７０の形状に沿って凹凸を形成している。反射膜１８５によって画素は、反射膜１８５が形成されている反射領域と、反射領域を取り囲んでいる透過領域に分かれる。

次に、第２基板２００について説明する。
第２絶縁基板２１０上にブラックマトリックス２２０が形成されている。ブラックマトリックス２２０は、一般に、カラーフィルタ２３０の間を区分し、第１基板１００に位置する薄膜トランジスタＴへの直接的な光照射を遮断する役割を果たす。ブラックマトリックス２２０は、通常、黒色顔料が添加された感光性有機物質からなっている。前記黒色顔料としては、カーボンブラックやチタンオキサイドなどを用いる。
カラーフィルタ２３０は、ブラックマトリックス２２０を境界として赤色フィルタ２３０ａ、緑色フィルタ２３０ｂ及び青色フィルタ２３０ｃが繰り返されて形成される。カラーフィルタ２３０は、バックライトユニット（図示せず）からの光または反射膜１８５から反射された光に色相を付与する役割を果たす。カラーフィルタ２３０は、通常、感光性有機物質からなっている。

カラーフィルタ２３０とカラーフィルタ２３０が覆っていないブラックマトリックス２２０の上部には、オーバーコート層２４０が形成されている。オーバーコート層２４０は、カラーフィルタ２３０を平坦化しながらカラーフィルタ２３０を保護する役割を果たし、通常、アクリル系エポキシ材料が多く用いられる。
オーバーコート層２４０の上部には共通電極２５０が形成されている。共通電極２５０は、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなる。共通電極２５０は、第１基板１００の画素電極１８０と共に液晶層３００に直接電圧を印加する。

以上で説明した液晶表示装置１は、反射領域と透過領域とを有する半透過型であり、光の流れについて説明すれば次の通りである。
バックライトユニット（図示せず）から透過領域に進行された光は、第１基板１００、液晶層３００及び第２基板２００を経て外部に出射する。この過程で液晶層３００を通過しながら透過量が調節され、カラーフィルタ２３０を通過しながら色相が付与される。バックライトユニットから反射領域に進行された光は、反射膜１８５によって再びバックライトユニットに進行した後、リサイクリングされる。
外部から第２基板２００を経て反射領域に入射した光は、反射膜１８５によって反射されて再び第２基板２００を経て外部に出射する。この過程で液晶層３００を通過しながら透過量が調節され、カラーフィルタ２３０を通過しながら色相が付与される。

以上の第１実施形態による液晶表示装置１は多様に変形され得る。例えば、反射領域が透過領域を取り囲むように形成することができる。画素電極１８０は反射領域には形成されないこともあるが、但し、画素電極１８０と反射膜１８５は互いに接続されなければならない。

図４〜図７を参照して、本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法について説明する。
先に、図４に示すように、第１絶縁基板１１０上に薄膜トランジスタＴ、ゲート絶縁膜１３０、データ線１５１及び保護膜１６０を形成する。保護膜１６０にはドレイン電極１５３を露出する接触孔１６１が形成されている。この過程までの製造方法は通常の方法によって行うことができ、具体的な説明は省略する。

次に、図５に示すように、反射領域の保護膜１６０上にレンズ部１７０を形成する。レンズ部１７０の形成過程を図６ａ〜図６ｄを参照して説明する。
図６ａはインクジェットノズル１０を利用して第１インク１１をジェッティングして第１サブレンズ部１７０ａを形成することを示す。第１サブレンズ部１７０ａは一定の間隔を有して複数の列に形成される。第１インク１１は紫外線硬化樹脂である第１液状樹脂を含み、溶媒をさらに含むことができる。第１インク１１の固形分は約３０％程度、粘度は２０〜３０ｃＰとすることができ、各第１サブレンズ部１７０ａの体積は約２〜６ピコリットルとすることができる。
第１インク１１は、通常、極性を有しており、シリコン窒化物からなる保護膜１６０は疎水性を有している。したがって、第１サブレンズ部１７０aと保護膜１６０との間には表面エネルギーが低くてディウェッティング（dewetting）現象が発生する。ディウェッティング現象によって第１サブレンズ部１７０aは広がらず、半球形状を有するようになる。

次に、図６ｂに示すように、第１サブレンズ部１７０ａに紫外線を照射して第１サブレンズ部１７０ａを硬化する。硬化によって第１サブレンズ部１７０ａは保護膜１６０上に固定される。
次に、図６ｃに示すように、第１サブレンズ部１７０ａの間に第２インク１２をジェッティングして第２サブレンズ部１７０ｂを形成する。第２インク１２は紫外線硬化樹脂の第２液状樹脂を含み、溶媒をさらに含むことができる。第２インク１２の固形分は約３０％程度、粘度は２０〜３０ｃＰとすることができ、各第２サブレンズ部１７０ｂの体積は約２〜６ピコリットルとすることができる。第１実施形態においては、第１インク１１と第２インク１２とが同一の組成を有し、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとは同じ大きさに形成される。

実施形態とは異なって、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとが同時に硬化する場合、硬化の前に第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとが流動して互いに混じることで半球形状を維持し難いという問題がある。
反面、本実施形態において、第２サブレンズ部１７０ｂは既に硬化して固定している第１サブレンズ部１７０ａの間に形成されるので、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとが流動によって互いに混じる問題が減少する。

次に、図６ｄに示すように、第２サブレンズ部１７０ｂに紫外線を照射して第２サブレンズ部１７０ｂを硬化する。硬化によって第２サブレンズ部１７０ｂは保護膜１６０上に固定され、レンズ部１７０が完成される。
以上のような製造方法によれば、レンズ部１７０を露光、現像せずに形成することができるので、製造過程が簡単になる。また、インク１１、１２の大部分がレンズ部１７０を形成することに用いられるので、材料の使用が節減される。
一方、本実施形態においては、レンズ部１７０を第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとに分けてジェッティングと硬化を進行させたが、必要に応じてジェッティングと硬化を３回以上に分けて進行させることも可能である。
また、図６Ａ〜Ｄでは、第２サブレンズ部１７０ｂを、一方向において、第１サブレンズ部１７０ａと交互になるように形成することを示しているが、一方向のみならず、他方向（例えば、一方向に直交する方向）にも、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとが交互に配置するように形成してもよい。これによって、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとが流動によって互いに混じることを確実に防止することができる。

図７に示すように、保護膜１６０及びレンズ部１７０上に画素電極１８０を形成する。画素電極１８０は接触孔１６１を通じてドレイン電極１５３と接続されている。
反射金属層を蒸着してパターニングし、レンズ部１７０上に反射膜１８５を形成すれば、図２に示すような第１基板１００が備えられる。

公知の方法によって、第２絶縁基板２１０上にブラックマットリックス２２０、カラーフィルタ２３０、オーバーコート層２４０、及び共通電極２５０を形成して第２基板２００を完成する。このように備えられた第１基板１００と第２基板２００とを対向接着させて液晶を注入すれば、液晶表示装置１が完成される。
第１実施形態に示すレンズ部１７０は多様に変形でき、これについて第２実施形態及び第３実施形態を通じて説明する。

図８及び図９は、それぞれ本発明の第２実施形態及び第３実施形態によって製造された液晶表示装置におけるレンズ部を説明するための図面である。
図８に示す第２実施形態によれば、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとは互いに交差するように配置されている。このような配置方式を採用すればレンズ部１７０をさらに緻密に形成することができる。
図９に示す第３実施形態によれば、レンズ部１７０はストライプ状に配置されている。レンズ部１７０はプリズム形状で一定の間隔で互いに平行して配置されており、横断面は半円形である。
第１実施形態〜第３実施形態においては、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとが同一の形状と組成を有している。必要に応じて、第１サブレンズ部１７０ａと第２サブレンズ部１７０ｂとは形状、そして／または組成が互いに異なることがある。

以上の第１実施形態〜第３実施形態におけるレンズ部１７０は保護膜１６０上に形成された。レンズ部１７０は別途の撥水層上に形成することができ、これを第４実施形態〜第６実施形態によって説明する。
図１０は、本発明の第４実施形態によって製造された液晶表示装置の断面図であり、図１１及び図１２は本発明の第４実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。

図１０に示すように、反射領域の保護膜１６０上に撥水層１９０が形成されており、レンズ部１７０は撥水層１９０上に形成されている。撥水層１９０は疎水性を有しており、アルキル鎖を含む炭化水素、シリコン系化合物またはフッ素系化合物からなることができる。
製造過程を示す図１１を見れば、保護膜１６０上に撥水層１９０を形成する。撥水層１９０は、ＣＦ_４またはシラン系化合物をプラズマを通じて保護膜１６０上に蒸着した後、パターニングして形成することができる。これとは異なって、撥水層１９０はプリンティング法などの方法によって反射領域にだけ形成され、別途のパターニングを経ないこともある。

次に、図１２に示すように、レンズ部１７０を撥水層１９０上に形成するが、レンズ部１７０はディウェッティング現象によって半球形状を有するようになる。
一方、インクが疎水性物質の場合、反射領域の保護膜１６０上に親水性物質層を先に形成することができる。この時にも、レンズ部１７０はディウェッティング現象によって半球形状を有するようになる。本発明の一実施形態においては、インクが親水性物質である場合を基準として説明したが、本発明のインクは疎水性物質であっても良く、この時には撥水層の代わりに親水性物質層を形成することが好ましい。

図１３は本発明の第５実施形態によって製造された液晶表示装置の断面図であり、図１４は本発明の第５実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
図１３に示すように、撥水層１９０は第１絶縁基板１１０と接しており、薄膜トランジスタＴとレンズ部１７０は撥水層１９０上に形成される。撥水層１９０は別途にパターニングされておらず、反射領域から透過領域にかけて形成されている。

製造過程を示す図１４を見れば、第１絶縁基板１１０上に撥水層１９０を全面的に形成し、その上部にレンズ部１７０を形成する。レンズ部１７０はディウェッティング現象によって半球形状となる。撥水層１９０はスピンコーティングやスリットコーティング法によって形成することができる。
次に、撥水層１９０上に薄膜トランジスタＴを形成し、画素電極１８０及び反射膜１８５を形成する。
図１５は本発明の第６実施形態によって製造された液晶表示装置の断面図である。
図１５に示すように、別途の保護膜１６０が形成されておらず、撥水層１９０が薄膜トランジスタＴを覆っている。撥水層１９０は、反射領域から透過領域にかけて形成されており、ドレイン電極１５３を露出する接触孔１９１が形成されている。

第６実施形態によれば、撥水層１９０を形成しながら保護膜１６０を用いないので、実質的な工程の追加なしに撥水層１９０を形成することができる。
本発明のいくつかの実施形態を図示し、説明したが、本発明が属する技術分野の通常の知識を有する当業者であれば、本発明の原則や精神から逸脱せずに本実施形態を変形できることが分かる。本発明の範囲は添付された請求項とその均等物によって決められなければならない。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板上にレンズを形成する方法であり、液晶表示装置のみならず、レンズを備える装置であれば、どのような装置の製造方法においても利用可能である。

本発明の第１実施形態によって製造された液晶表示装置の配置図である。 図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。 本発明の第１実施形態によって製造された液晶表示装置におけるレンズ部を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第１実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第２実施形態によって製造された液晶表示装置におけるレンズ部を説明するための図面である。 本発明の第３実施形態によって製造された液晶表示装置におけるレンズ部を説明するための図面である。 本発明の第４実施形態によって製造された液晶表示装置の断面図である。 本発明の第４実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第４実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第５実施形態によって製造された液晶表示装置の断面図である。 本発明の第５実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。 本発明の第６実施形態によって製造された液晶表示装置の断面図である。

符号の説明

１６０ 保護層
１７０ レンズ部
１８０ 画素電極
１８５ 反射膜
１９０ 撥水層

Claims (20)

1. 絶縁基板上に第１液状樹脂を含む第１インクをジェッティングして第１サブレンズ部を形成する工程と；
   前記第１サブレンズ部を硬化する工程と；
   硬化した前記第１サブレンズ部の間に第２液状樹脂を含む第２インクをジェッティングして第２サブレンズ部を形成する工程と；
   前記第２サブレンズ部を硬化してレンズ部を形成する工程と；
   前記レンズ部上に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 前記第１液状樹脂及び前記第２液状樹脂は紫外線硬化樹脂を含み、
   前記第１サブレンズ部及び前記第２サブレンズ部の硬化は、紫外線照射により行う請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
3. 前記第１サブレンズ部の形成前に、
   前記絶縁基板上に撥水層を形成する工程をさらに含み、
   前記レンズ部は、前記撥水層と接する請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 前記撥水層は、シリコン系化合物、フッ素系化合物のうちの少なくともいずれか一つを含む請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 前記レンズ部を、ドット形状で配置する請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記レンズ部を、半球形とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 前記レンズ部を、複数の列に配置する請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
8. 前記レンズ部の隣接した一対の列のうちのいずれか一つは第１サブレンズ部であり、他の一つは前記第２サブレンズ部である請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
9. 前記第１サブレンズ部及び前記第２サブレンズ部を、互いに交差するように配置する請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
10. 前記レンズ部を、ストライプ形状とする請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 前記レンズ部の横断面を、半円形とする請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
12. 前記第１インクと前記第２インクとを、同一の組成とする請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 透過領域と反射領域とを有する液晶表示装置の製造方法であって、
    反射領域上に第１液状樹脂を含む第１インクをジェッティングして第１サブレンズ部を形成する工程と；
    前記第１サブレンズ部を硬化する工程と；
    前記第１サブレンズ部の間に第２液状樹脂を含む第２インクをジェッティングして第２サブレンズ部を形成する工程と；
    前記第２サブレンズ部を硬化してレンズ部を形成する工程と；
    前記レンズ部上に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
14. 前記レンズ部の形成前に、
    撥水層を形成する工程をさらに含み、
    前記レンズ部は、前記撥水層に接する請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
15. 前記レンズ部の形成前に、
    スイッチング素子を形成する工程をさらに含み、
    前記撥水層を、前記反射領域に形成する請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
16. 前記レンズ部の形成後に、
    スイッチング素子を形成する工程をさらに含み、
    前記撥水層を、前記反射領域から前記透過領域にかけて形成する請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
17. 前記スイッチング素子と接続される透明導電層を形成する工程をさらに含む請求項１５または１６に記載の液晶表示装置の製造方法。
18. 前記レンズ部は複数の列に配置され、
    前記第１サブレンズ部と前記第２サブレンズ部とは、交互に配置されている請求項１５または１６に記載の液晶表示装置の製造方法。
19. 前記スイッチング素子はソース電極とドレイン電極とを含み、
    前記ソース電極及びドレイン電極は、前記撥水層に接する請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
20. 前記レンズ部の形成前に、
    窒化シリコン層を形成する工程をさらに含み、
    前記レンズ部は、前記窒化シリコン層に接する請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。

Images