JP2007222865A - セラミックフィルター - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のセラミックフィルター1は、支持体領域3と分離層領域2との間に中間層領域4を有し、該中間層領域4において分離層領域2から支持体領域3に向かって最大細孔径が漸増することから、液体濾過用として用いた場合、分離層領域2の厚みの微小なバラツキ等に起因する圧力損失のバラツキの影響が中間層領域4で緩和されるため、分離層領域2全面での均一な濾過ができる。
【選択図】 図1
Description
まず、図1に示すセラミックフィルター1を得るために、分離層領域2用の原料粉末として、平均粒径が1.5μmであり、粒度分布の小径側から累積10%、累積90%に相当する粒径をそれぞれD10、D90としたとき、D90/D10比が3.0であるα−アルミナを使用し、支持体領域3用の原料粉末として、平均粒径が6μm、D90/D10が4.5のα−アルミナを使用した。さらに、各々の原料粉末に、成形用バインダーとしてメトローズ(信越化学工業製 商品名)などの結合剤、マルレックス(エクソンモービル製 商品名)などの潤滑材およびセラミゾール(日本油脂製 商品名)などの可塑剤を加えて混練し、押出成形用の原料坏土を得た。ここで、成形バインダーの調合比を変更することで原料坏土の粘度を調整しており、分離層領域用坏土の粘度をη1、支持体領域用坏土の粘度をη2としたとき、せん断速度1×103/secのときの粘度η1を1000〜2000Pa・sec、粘度η2を1500〜2500Pa・secの範囲で選定し、原料坏土を得た。なお、原料粉末の平均粒径、粒度分布の測定は、セラミック粉末をレーザー回折法(マイクロトラック9320−X100)にて測定し、小径側から累積50%の粒径を平均粒径とし、粒度分布は、累積10%、累積90%の粒径をそれぞれD10、D90として、D90/D10比を求めた。
次に、分離層領域2用の原料粉末として、平均粒径が1.5μmであり、粒度分布の小径側から累積10%、累積90%に相当する粒径をそれぞれD10、D90としたとき、D90/D10比が3.0であるα−アルミナとムライトを使用し、支持体領域3用の原料粉末として、平均粒径が6μm、D90/D10比が4.5のα−アルミナとシリカを使用して表2に示すように、分離層領域2のムライトの量(24.5〜55.5質量%)を5水準、支持体領域3のムライトの量(9.5〜25.5質量%)を5水準各々準備した。さらに、分離層領域2の原料粉末と支持体領域3の原料粉末とに、成形用バインダーとしてメトローズ(信越化学工業製 商品名)などの結合剤、マルレックス(エクソンモービル製 商品名)などの潤滑材およびセラミゾール(日本油脂製 商品名)などの可塑剤を加えて混練し、押出成形用の原料坏土を表2に示すような25水準を得た。また、粘度、焼成後寸法、成形条件、焼成条件については、上記実施例1と同一とした。また、焼成後寸法は、外径3.0mm、内径2.5mmとなるようにした。強度については、アイコーエンジニアリング社製のデジタル式荷重測定機1840を用いて、スパン30mm、C.H.S=0.5mm/minで3点曲げ圧環強度試験を行なった。測定数は各10個とし、その平均値で評価した。また、ヒートショックによる欠陥の評価については、試料を180℃に加熱し、投下式水中急冷を行なった後、層剥離やクラックの有無を光学顕微鏡により観察を行ない、欠陥が無いものを〇とし、欠陥が僅かに確認できるものの使用するのに問題が無いものを△とした。さらに膜の分離性能評価は上記のバブルポイント法により、分離層領域2の最大細孔径の値によって評価した。
次に、表2のNo.28,33,38の3種類の原料粉末を準備して、さらに、表3に示すように多孔質セラミックスにおけるシリカ量(0.02〜5.50質量%)を各6水準に振って準備した。そして、準備した各原料粉末に、表3に示す各水準(0.02〜5.50質量%)のシリカおよび、成形用バインダーとしてメトローズ(信越化学工業製 商品名)などの結合剤、マルレックス(エクソンモービル製 商品名)などの潤滑材およびセラミゾール(日本油脂製 商品名)などの可塑剤を加えて混練し、押出成形用の各原料坏土を得た。
2:分離層領域
3:支持体領域
4:中間層領域
11:金型
12:口金
13:内芯
14:外芯
15:原料坏土
16:坏土
17,18:プランジャー
19:吐出口
Claims (8)
- 複数の細孔を有する多孔質セラミックスからなる筒状の支持体領域と、該支持体領域の内周面または外周面に形成され、前記支持体領域の最大細孔径より小さな最大細孔径の複数の細孔を有する多孔質セラミックスからなる分離層領域とを有するセラミックフィルターであって、前記支持体領域と前記分離層領域との間に、複数の細孔を有する多孔質セラミックスからなり、且つ前記分離層領域から前記支持体領域に向かって径方向における最大細孔径が漸増する中間層領域を有することを特徴とするセラミックフィルター。
- 前記中間層領域に存在する細孔の径方向における前記最大細孔径の値の変化が傾き0.2〜1の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のセラミックフィルター。
- 前記多孔質セラミックスは、アルミナ質セラミックスであることを特徴とする請求項1または2に記載のセラミックフィルター。
- 前記支持体領域を成す前記多孔質セラミックスは、その気孔率が30〜50%、最大細孔径が1〜6μm、平均細孔径が0.5〜3μmであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のセラミックフィルター。
- 前記分離層領域を成す前記多孔質セラミックスは、その気孔率が20〜40%、最大細孔径が0.1〜1μm、平均細孔径が0.01〜0.1μmであることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のセラミックフィルター。
- 前記多孔質セラミックスは、ムライトを含有しており、前記支持体領域のムライトの含有量が前記分離層領域よりも多いことを特徴とする請求項3〜5の何れかに記載のセラミックフィルター。
- 前記支持体領域を成す前記多孔質セラミックスは、ムライト25〜55質量%とアルミナ質セラミックスとからなり、前記分離層領域を成す前記多孔質セラミックスは、ムライト10〜25質量%とアルミナ質セラミックスとからなり、前記中間層領域を成す前記多孔質セラミックスは、ムライトとアルミナ質セラミックスとからなり、且つムライトの含有量が前記支持体領域より少なく前記分離層領域より多いことを特徴とする請求項3〜6の何れかに記載のセラミックフィルター。
- 前記支持体領域と前記分離層領域とを成す前記多孔質セラミックスにおける単体シリカの量が5質量%以下であることを特徴とする請求項3〜7の何れかに記載のセラミックフィルター。
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