JP2007214499A - 基板の処理装置 - Google Patents
基板の処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007214499A JP2007214499A JP2006035252A JP2006035252A JP2007214499A JP 2007214499 A JP2007214499 A JP 2007214499A JP 2006035252 A JP2006035252 A JP 2006035252A JP 2006035252 A JP2006035252 A JP 2006035252A JP 2007214499 A JP2007214499 A JP 2007214499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- inner cover
- sealing material
- lid
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Weting (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
【解決手段】内部に搬入された基板を処理するためのチャンバ5と、チャンバの一側面に形成された開口部6を開閉する内カバー15と、内カバーの内面の周辺部に設けられ内カバーを閉じたときにチャンバの一側面の開口部の周辺部に接触するシール材24と、チャンバの一側面の開口部の周辺部に周方向に所定間隔で設けられ内カバーを閉じたときに内カバーの周辺部の複数箇所を押圧保持してシール材をチャンバの一側面に圧接させるとともに内カバーを押圧する押圧力の調整が可能な複数のクランパ27を具備する。
【選択図】図5
Description
内部に搬入された上記基板を処理するためのチャンバと、
このチャンバの一側面に形成された開口部を開閉する蓋体と、
この蓋体の内面の周辺部に設けられ蓋体を閉じたときに上記チャンバの一側面の上記開口部の周辺部に接触するシール材と、
上記チャンバの一側面の上記開口部の周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上記蓋体を閉じたときにこの蓋体の周辺部の複数箇所を押圧保持して上記シール材を上記一側面に圧接させるとともに上記蓋体を押圧する押圧力の調整が可能な複数のクランパと
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記クランパは上記蓋体の上記ヒンジが設けられた上記一側辺を含む4つの辺にそれぞれ設けられていることが好ましい。
なお、保持部材22は内カバー15の内面でなく、チャンバ5の上記内カバー15の内面が対向する部位に設けるようにしてもよい。
Claims (4)
- 基板を処理する処理装置であって、
内部に搬入された上記基板を処理するためのチャンバと、
このチャンバの一側面に形成された開口部を開閉する蓋体と、
この蓋体の内面の周辺部に設けられ蓋体を閉じたときに上記チャンバの一側面の上記開口部の周辺部に接触するシール材と、
上記チャンバの一側面の上記開口部の周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上記蓋体を閉じたときにこの蓋体の周辺部の複数箇所を押圧保持して上記シール材を上記一側面に圧接させるとともに上記蓋体を押圧する押圧力の調整が可能な複数のクランパと
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記蓋体は、その一側辺が上記チャンバの一側面にヒンジによって回動可能に連結されていて、
上記クランパは上記蓋体の上記ヒンジが設けられた上記一側辺を含む4つの辺にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 上記蓋体の内面または上記チャンバの一側面には、上記シール材を保持する保持溝を形成する保持部材が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記シール材は断面形状が三角形状であることを特徴とする請求項3記載の基板の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006035252A JP4887056B2 (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 基板の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006035252A JP4887056B2 (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 基板の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007214499A true JP2007214499A (ja) | 2007-08-23 |
JP4887056B2 JP4887056B2 (ja) | 2012-02-29 |
Family
ID=38492636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006035252A Active JP4887056B2 (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 基板の処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4887056B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6469204B1 (ja) * | 2017-11-28 | 2019-02-13 | 丸仲工業株式会社 | 保守点検作業が容易な水平搬送式の電解メッキ装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6171784A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
JP2000073674A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Itoki Co Ltd | 流体密封鎖用パッキン装置 |
JP2002066475A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2003236362A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-26 | Canon Inc | 真空チャンバー扉の開閉機構 |
JP2005265066A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Nippon Valqua Ind Ltd | 弁装置用のシールプレート |
JP2005322676A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の搬送装置及び処理装置 |
-
2006
- 2006-02-13 JP JP2006035252A patent/JP4887056B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6171784A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
JP2000073674A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Itoki Co Ltd | 流体密封鎖用パッキン装置 |
JP2002066475A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2003236362A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-26 | Canon Inc | 真空チャンバー扉の開閉機構 |
JP2005265066A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Nippon Valqua Ind Ltd | 弁装置用のシールプレート |
JP2005322676A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の搬送装置及び処理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6469204B1 (ja) * | 2017-11-28 | 2019-02-13 | 丸仲工業株式会社 | 保守点検作業が容易な水平搬送式の電解メッキ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4887056B2 (ja) | 2012-02-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI222681B (en) | Semiconductor treating apparatus and cleaning method of the same | |
TWI543247B (zh) | 除氣腔室用之石英視窗 | |
JP4887056B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
TWI499733B (zh) | Vacuum devices and substrate processing devices | |
US10845718B2 (en) | Holder for holding and for protecting a side of a photomask or a photomask or a photomask having pellicle from a cleaning medium, method for cleaning a photomask or a photomask with pellicle and device for opening and closing a holder | |
US6193804B1 (en) | Apparatus and method for sealing a vacuum chamber | |
US20020144707A1 (en) | Method and apparatus for improving resist pattern developing | |
JP3560011B2 (ja) | 基板保持具 | |
JP4741957B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
JP2006206107A (ja) | マンホール構造 | |
JP4685618B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
TW202010963A (zh) | 再生密封件的方法 | |
TWI620237B (zh) | 整合水分去除與乾燥之處理設備及半導體晶圓之處理方法 | |
KR101312682B1 (ko) | 기판 세정장치 | |
JP6619905B1 (ja) | 基板処理装置及び方法 | |
JP2007220796A (ja) | 基板の処理装置 | |
JP4700564B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄ユニットを有する処理装置 | |
KR20060135185A (ko) | 커버부재를 가지는 서셉터 | |
JP2003090433A (ja) | マンホールの密閉構造 | |
JP2004075157A (ja) | 容器とその上蓋構造 | |
CN111048393A (zh) | 观察可视窗口及干法刻蚀设备 | |
KR0176121B1 (ko) | 반도체 식각챔버의 운용방법 | |
JP2002372368A (ja) | 減圧乾燥装置 | |
KR100851034B1 (ko) | 기판처리장치 | |
JPH062136A (ja) | 枚葉式成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100907 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110412 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111206 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111212 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4887056 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |