JP2007204467A - フェナレン−1−オン誘導体の製造方法 - Google Patents
フェナレン−1−オン誘導体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007204467A JP2007204467A JP2006055501A JP2006055501A JP2007204467A JP 2007204467 A JP2007204467 A JP 2007204467A JP 2006055501 A JP2006055501 A JP 2006055501A JP 2006055501 A JP2006055501 A JP 2006055501A JP 2007204467 A JP2007204467 A JP 2007204467A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- derivative
- phenalen
- hydroxyphenalen
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 *C(C(C12)C(*)=C(*)C(*)=C1C(O)=C1*)=C(*)C(*)=C2C1=O Chemical compound *C(C(C12)C(*)=C(*)C(*)=C1C(O)=C1*)=C(*)C(*)=C2C1=O 0.000 description 4
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体を原料として、フェナレン−1−オン誘導体を得る方法を提供する。
【解決手段】3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体のヒドロキシル基を保護し、次いで、1位カルボニル基をアルコールへ還元し、そのアルコールの脱水反応、ヒドロキシル基の保護基の脱保護反応を行うことによりフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。
【選択図】なし
【解決手段】3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体のヒドロキシル基を保護し、次いで、1位カルボニル基をアルコールへ還元し、そのアルコールの脱水反応、ヒドロキシル基の保護基の脱保護反応を行うことによりフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。
【選択図】なし
Description
本発明はフェナレン−1−オン誘導体の製造方法に関するものである。
フェナレン−1−オンは古くから知られた化合物であり、染料、機能性色素、電子材料等に有用な材料である。その製造法は幾つか知られている。硫酸中、ナフトールにグリセリンを縮合して得る方法、エーテル中、ナトリウムを用いて1−アセトナフトンにギ酸エチルを反応させ、次いで硫酸を用いて脱水環化する方法などがある。しかし、それらの方法は収率が低い、若しくは取り扱いに不便な薬品を使う必要がある。
一方、1,8−無水ナフタル酸とマロン酸ジエチルを反応させることにより3−ヒドロキシフェナレン−1−オンが高収率で得られる。この化合物はフェナレン−1,3−ジオンと互変異性である。この化合物はフェナレン−1−オンと同骨格にもかかわらず、この化合物からフェナレン−1−オンを得た報告はない。
本発明の目的は、3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体を原料として、フェナレン−1−オン誘導体を製造する方法の提供にある。
本発明は、式(1):
[式中、R1〜R13は同一又は相異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、ニトロ基及び上記アルキル基により一置換又は二置換されていてもよいアミノ基よりなる群から選ばれる。Xはエステルとしてアシル基、スルホニル基、エーテルとしてアルキル基、アリール基又はアリールアルキルよりなる群から選ばれる。]の3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体のヒドロキシル基を式(2)で示すようにエーテル型若しくはエステル型保護基を導入し、その後、1位カルボニル基をアルコールへ還元し、そのアルコールの脱水、ヒドロキシル基の保護基の脱保護を行うことにより得られる式(3)に示すフェナレン−1−オン誘導体の製造方法に関する。
本発明は、原料として得やすい3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体を用いてフェナレン−1−オン誘導体を容易に得ることを可能とする。
本発明者は鋭意研究の結果、3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体のヒドロキシル基を保護し、次いで、1位カルボニル基をアルコールへ還元し、そのアルコールの脱水反応、ヒドロキシル基の保護基の脱保護反応を行うことによりフェナレン−1−オン誘導体が得られることを見出し、本発明を完成した。
3−ヒドロキシフェナレン−1−オンは様々な既知の方法で製造することが出来る。最も簡便に効率良く得るには、1,8−無水ナフタル酸とマロン酸ジエチルを塩化亜鉛中反応させる方法である。この際、式(1):
[式中、R1〜R7は同一又は相異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、ニトロ基及び上記アルキル基により一置換又は二置換されていてもよいアミノ基よりなる群から選ばれる。]の3−ヒドロキシフェナレン−1−オンに予め置換基を導入しておけば対応するフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。
ここで、アルキル基は炭素原子が直鎖又は分岐鎖又は環状に結合しており、その炭素原子に置換しているのが水素原子、若しくはハロゲン原子である基を意味し、アリール基はフェニル、ピリジル、ナフチル等の芳香族環状化合物を示す。アリール基及びアリールアルキル基は、これらの基がハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、上記アルキル基により1つ以上置換されていているものも含む。
3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体の保護基は、エステル、エーテルが好ましく、エステル及びエーテルは通常のヒドロキシル基へのエステル化(アシル化)、エーテル化により導入することが出来る。エステル(アシル基)としては、アセチル基等のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基等のアリールアルキルカルボニル基、p−トルエンスルホニル等のスルホニル基、エーテルとしては、アルキル基、アルコキシアルキル基、アリールアルキル基などが良く、還元条件下により脱離せず酸性により脱離を起こすものであればいずれも使用する事が出来る。あらゆる面を考慮すると好ましくはエステル型であり、最も好ましくはアセチル基である。
3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体の保護体[式(2)]:
[式中、R1〜R7は同一又は相異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、ニトロ基及び上記アルキル基により一置換又は二置換されていてもよいアミノ基よりなる群から選ばれる。Xはエステルとしてアシル基、スルホニル基、エーテルとしてアルキル基、アリールアルキル基よりなる群から選ばれる。]の1位カルボニル基は水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、及びそれらから派生した還元剤などでアルコールへ還元することが出来る。還元作用が強く、保護基を脱離させてしまう還元剤は使用する事が出来ない。工程効率、取り扱いなどの面も考慮すると、水素化ホウ素ナトリウムが都合良い。
しかし、3−ヒドロキシフェナレン−1−オンの保護体はα,β−不飽和カルボニル化合物であり、1位カルボニル基をアルコールへ還元する際に水素化ホウ素ナトリウムを用いた場合は、二重結合の還元が先行し目的のフェナレン−1−オンが得られない。しかし、金属塩を反応系内に予め添加しておくことにより、二重結合の還元を抑え、カルボニル基をアルコールへ還元することが出来る。
このための金属塩としては、3価の希土類塩がよい。これらの塩は水和物塩も使用する事が出来る。好ましくは塩化物塩、硝酸塩がよい。これらの塩は反応溶液に溶解し易い。また、酢酸塩は溶解するが効果が無いので本目的には用いることが出来ない。なお、カルボニル基に親和性のある他種の金属塩でも効果は得られない。コストの面も考慮すると塩化ランタン、塩化セリウムが都合良い。使用量は、3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体の保護体1molに対して金属塩を金属原子換算で1/4〜2molで良く、好ましくは1/3〜1mol、最も好ましくは1/3〜1/2molである。
この反応温度は室温でも良く、好ましくは5℃〜15℃である。還元剤の添加時に発熱あるので、還元剤は少しずつ数回に分けて添加する必要がある。必要に応じて冷却しても良い。反応時間は、還元剤添加終了後、5分〜2時間で良く、好ましくは30分〜1時間である。
このようにして得た反応液は、そのまま次の反応に使用しても良いが、濃縮乾固して固体として取り出し次の反応に使用したほうが好ましい。
得られた還元体は酸と反応させ、脱保護反応と脱水反応を行うことにより、式(3):
[式中、R8〜R13は同一又は相異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、ニトロ基及び上記アルキル基により一置換又は二置換されていてもよいアミノ基よりなる群から選ばれる。]のフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。
用いる酸は、硫酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸などが使用できるが、溶媒としても使用できる濃硫酸が最も都合が良い。得られた還元体と濃硫酸を室温で撹拌することにより容易に目的を達成することができる。
酸で処理した反応液は、通常の有機合成の処理方法を行うことによりフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。例えば、反応液を水で希釈、アルカリで中和し、有機溶媒で抽出し濃縮乾固して得ることが出来る。
必要によりカラムクロマトグラフィー精製や、晶析、真空昇華等の通常の方法によって効率よく目的物の純度を高めることが出来る。
以下、実施例をもって本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれらによって限定されるものではない。
[実施例1]
メタノール:テトラヒドロフラン=1:1(体積比)溶液50mlに3−ヒドロキシアセチルフェナレン−1−オン(3OAcPhと略記する)1.2g(5mM)、塩化セリウム7水和物1.84g(5mM)を入れ、30分撹拌した。その後、水素化ホウ素ナトリウム0.38g(10mM)を数回に分けて添加し1時間撹拌し、その後反応液を濃縮乾固した。濃硫酸30gを入れ1時間以上撹拌した。その後氷水50gを入れ、20%水酸化ナトリウム水溶液で中和した。トルエンで抽出し、油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ別後、濃縮し乾燥すると結晶0.41gが得られた。カラムクロマトグラフで精製してフェナレン−1−オン0.34g(収率38%)を得た。
メタノール:テトラヒドロフラン=1:1(体積比)溶液50mlに3−ヒドロキシアセチルフェナレン−1−オン(3OAcPhと略記する)1.2g(5mM)、塩化セリウム7水和物1.84g(5mM)を入れ、30分撹拌した。その後、水素化ホウ素ナトリウム0.38g(10mM)を数回に分けて添加し1時間撹拌し、その後反応液を濃縮乾固した。濃硫酸30gを入れ1時間以上撹拌した。その後氷水50gを入れ、20%水酸化ナトリウム水溶液で中和した。トルエンで抽出し、油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ別後、濃縮し乾燥すると結晶0.41gが得られた。カラムクロマトグラフで精製してフェナレン−1−オン0.34g(収率38%)を得た。
[実施例2]
前記実施例1に於いて、3OAcPhの代わりに3−ヒドロキシベンゾイルフェナレン−1−オン1.5g(5mM)を用いた以外は同様に行い、フェナレン−1−オン0.10g(収率11%)を得た。
前記実施例1に於いて、3OAcPhの代わりに3−ヒドロキシベンゾイルフェナレン−1−オン1.5g(5mM)を用いた以外は同様に行い、フェナレン−1−オン0.10g(収率11%)を得た。
[実施例3]
前記実施例1に於いて、3OAcPhの代わりに3−ヒドロキシトシルフェナレン−1−オン1.75g(5mM)を用いた以外は同様に行い、フェナレン−1−オン0.04g(収率4%)を得た。
前記実施例1に於いて、3OAcPhの代わりに3−ヒドロキシトシルフェナレン−1−オン1.75g(5mM)を用いた以外は同様に行い、フェナレン−1−オン0.04g(収率4%)を得た。
[実施例4〜17]
前記実施例1に於いて、3OAcPh1.2g(5mM)、水素化ホウ素ナトリウム0.38g(10mM)、溶媒組成、溶媒量、硫酸量及び反応条件を一定とした他は、同様な方法で、実施例4〜17、比較例1〜6を行った。その結果を実施例4〜17は表1に、比較例1〜6は表2に示す。
前記実施例1に於いて、3OAcPh1.2g(5mM)、水素化ホウ素ナトリウム0.38g(10mM)、溶媒組成、溶媒量、硫酸量及び反応条件を一定とした他は、同様な方法で、実施例4〜17、比較例1〜6を行った。その結果を実施例4〜17は表1に、比較例1〜6は表2に示す。
本発明の方法により、従来に比べフェナレン−1−オン誘導体を容易に且つ安価に得ることが出来る。こうして得られたフェナレン−1−オン誘導体は染料、機能性色素、電子材料等に対し材料、原料としての活用が見込まれる。
Claims (2)
- 請求項1の保護基がアセチル基であり、還元を希土類塩を共存させた水素化ホウ素ナトリウムで行うフェナレン−1−オン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006055501A JP2007204467A (ja) | 2006-02-02 | 2006-02-02 | フェナレン−1−オン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006055501A JP2007204467A (ja) | 2006-02-02 | 2006-02-02 | フェナレン−1−オン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007204467A true JP2007204467A (ja) | 2007-08-16 |
Family
ID=38484236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006055501A Pending JP2007204467A (ja) | 2006-02-02 | 2006-02-02 | フェナレン−1−オン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007204467A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013128425A1 (fr) * | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Centre National De La Recherche Scientifique | Composés oxo-phénalènes, leur préparation et utilisation dans les domaines des matériaux et thérapeutique |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5590506A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS60199849A (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-09 | Otsuka Pharmaceut Factory Inc | フエナレン−1−オン誘導体 |
JP2002047238A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-02-12 | Kakei Gakuen | 芳香族置換脂肪族環式ケトン化合物の合成方法、新規芳香族有機化合物 |
WO2005111009A2 (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-24 | Proteolix, Inc. | Synthesis of amino acid keto-epoxides |
JP2005347222A (ja) * | 2004-06-07 | 2005-12-15 | Sony Corp | 電解液および電池 |
-
2006
- 2006-02-02 JP JP2006055501A patent/JP2007204467A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5590506A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS60199849A (ja) * | 1984-03-22 | 1985-10-09 | Otsuka Pharmaceut Factory Inc | フエナレン−1−オン誘導体 |
JP2002047238A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-02-12 | Kakei Gakuen | 芳香族置換脂肪族環式ケトン化合物の合成方法、新規芳香族有機化合物 |
WO2005111009A2 (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-24 | Proteolix, Inc. | Synthesis of amino acid keto-epoxides |
JP2005347222A (ja) * | 2004-06-07 | 2005-12-15 | Sony Corp | 電解液および電池 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013128425A1 (fr) * | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Centre National De La Recherche Scientifique | Composés oxo-phénalènes, leur préparation et utilisation dans les domaines des matériaux et thérapeutique |
FR2987622A1 (fr) * | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Centre Nat Rech Scient | Composes oxo-phenalenes, leur preparation et utilisation dans les domaines des materiaux et therapeutique |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5395908B2 (ja) | 4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エステルの製造方法 | |
KR101653064B1 (ko) | 가도부트롤의 제조방법 | |
CN108218672B (zh) | 金属化物/钯化合物催化还原体系在脱烯丙基反应及氘代反应中的应用 | |
CN108358760B (zh) | 金属化物/钯化合物催化还原体系在脱苄基反应及氘代反应中的应用 | |
KR20090061127A (ko) | 판토프라졸 나트륨 쎄스키히드레이트의 제조방법 | |
JP2015512381A5 (ja) | ||
JP2009107996A (ja) | トリエステルビニルエーテル及びその製法 | |
JP7454498B2 (ja) | サリチルアミド酢酸塩の製造方法 | |
CN109836424B (zh) | 一种环保型茶碱钠盐甲基化制备咖啡因的方法 | |
WO2018065924A1 (en) | Intermediates of mitogen-activated protein kinase kinase (map2k or mek) inhibitors and process for their preparation | |
JP2007204467A (ja) | フェナレン−1−オン誘導体の製造方法 | |
JP2012524044A (ja) | 2,4,6−オクタトリエン−1−酸及び2,4,6−オクタトリエン−1−オールの調製方法 | |
WO2014132940A1 (ja) | α-ハロテトラアシルグルコースの製造方法 | |
JP2008007484A (ja) | テトラヒドロピラン−4−オン化合物の製法 | |
CN102070587B (zh) | 一锅法制备辛伐他汀的方法 | |
KR20150088734A (ko) | 비스[4-(6-아크릴로일옥시헥실)페닐] 사이클로헥산-1,4-다이카르복시레이트의 제조 방법 | |
TWI551592B (zh) | 以兩步驟來製備3,5-二側氧己酸酯 | |
CN107903280B (zh) | 一种酰芳基硼酸化合物的合成方法 | |
CN108727345B (zh) | 一种咪唑环中间体的制备方法 | |
JP3983979B2 (ja) | 3−(ヒドロキシメチル)クロメン−4−オン類およびその製造方法 | |
JP2004217540A (ja) | 没食子酸配糖体の製造方法 | |
EP3252056A1 (en) | Method for preparation of mannoside derivatives | |
SU345787A1 (ru) | Способ получени хлоргидрата ( диэтиламиноэтил)-4-метил-7-оксикумарина | |
JP2015034141A (ja) | 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル化合物の製造方法 | |
CZ2013544A3 (cs) | Nový způsob přípravy elvitegraviru |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20090130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111018 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120228 |