JP2007201140A - 半導体受光装置及び半導体受光装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 受光効率が高く、構成を簡単化することができると共に、容易に製造可能な半導体受光装置を提供する。
【解決手段】 半導体受光装置1は、プリント基板(設置基板)2と、受光部3を有する半導体素子4と、TIA5と、第1ライトパイプ6と、反射膜7と、第2ライトパイプ8とを備えている。第1ライトパイプ6は、プリント基板2と受光部3を除く半導体素子4の上面に密着して設けられている。第1ライトパイプ6の上部の受光部3に対応する部分には、光導入凹部6aが形成されている。反射膜7は、光導入凹部6aの側面を覆うように形成されている。第2ライトパイプ8の下面部は、光導入凹部6aを埋めることが可能な凸部8bが形成されている。また、第2ライトパイプ8の上面部には、受光部3の上方に位置する領域に、上方から入射した光を、受光部3へと反射膜7を介して集光するためのレンズ部8aが形成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体素子の受光部の受光効率が高い半導体受光装置及び半導体受光装置の製造方法に関する。
現在、光を電気信号に変換可能な受光部を有する半導体素子を備えた様々な半導体受光装置が知られている。
このような受光部を有する半導体受光装置では、光の受光量を増加させるためには受光部を大きく形成する必要がある。しかしながら、光の受光量を増加させるために受光部を大きくすることは半導体素子の寄生容量の増大を招き、その結果、高速で動作させることができなくなるため、好ましいことではない。
そこで、受光部は小さいままで、受光部に入射する光量を増加させる技術が提案されている。
例えば、特許文献1には、受光部を有する半導体素子(フォトダイオード)と、半導体素子を有する基板上に形成された絶縁膜と、絶縁膜上に形成された金属製の遮光層と、パッシベーション膜とを備えた半導体受光装置が開示されている。
この半導体受光装置の遮光層には、受光部に対応する位置が上方に向かって広がる部分四角錐体形状に除去された凹部が形成されている。これにより、受光部の上面に採光窓が形成されている。更に、この採光窓に埋め込まれると共に、遮光層の上面を覆うようにパッシベーション膜が形成されている。
このように半導体受光装置を構成することによって、受光部の上方から入射する光のみならず、受光部の外側から入射する光をも部分四角錐体形状の凹部の表面で反射することにより、受光部へと導くことができる。これにより、受光部の外側から入射する光をも受光することができるので、受光部における受光効率を向上させることができる。
特開平6−112513号公報
しかしながら、上記特許文献1の半導体受光装置では、遮光層をAl等の金属層によって構成しているので、スパッタ法などによって金属層を形成した後、エッチングによりパターニングしなければならないため、製造工程が非常に複雑化するといった問題がある。
また、導電性の金属層からなる遮光層と受光部とを絶縁するために、遮光層と受光部との間に絶縁膜が必要になるので、半導体受光装置の構成が複雑になるといった問題がある。更に、絶縁膜を形成することによって、遮光層と受光部との間に隙間ができるので、遮光部の凹部によって反射された光が、その隙間から受光部以外の領域へ進行するため、受光効率が低下するといった問題がある。
本発明は、上述した課題を解決するために創案されたものであり、受光効率が高く、構成を簡単化することができると共に、容易に製造可能な半導体受光装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、光を受光するための受光部が形成された半導体素子と、前記半導体素子の受光部側の面に設けられると共に、前記受光部に対応した位置に、光の入射方向側へ広く開口した部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部が形成された絶縁性の合成樹脂製の第1ライトパイプと、前記光導入凹部の側面に設けられた反射膜とを備えたことを特徴とする半導体受光装置である。
また、請求項2の発明は、前記第1ライトパイプの光導入凹部を埋めることが可能な凸部と、前記光導入凹部に対応する光の入射側の面に一体的に形成されたレンズ部とを有する合成樹脂製の第2ライトパイプを備えたことを特徴とする請求項1に記載の半導体受光装置である。
また、請求項3の発明は、前記第1ライトパイプと前記第2ライトパイプは、同じ合成樹脂からなり一体的に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体受光装置である。
また、請求項4の発明は、半導体素子を設置基板に設置する第1工程と、前記半導体素子及び前記設置基板を成形用の型に導入することによって、前記半導体素子の受光部側の面に密着して設けられると共に、前記受光部に対応した位置に部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部が形成される合成樹脂製の第1ライトパイプを成形する第2工程と、前記第1ライトパイプの光導入凹部の側面に反射膜を形成する第3工程と、前記半導体素子及び前記第1ライトパイプと共に前記設置基板を成形用の型に導入することによって、前記第1ライトパイプの光導入凹部を埋めることが可能な凸部と、前記光導入凹部に対応する光の入射側の面に一体的に形成されたレンズ部とを有する合成樹脂製の第2ライトパイプを成形する第4工程とを備えたことを特徴とする半導体受光装置の製造方法である。
また、請求項5の発明は、半導体素子を設置基板に設置する第1工程と、前記半導体素子及び前記設置基板を成形用の型に導入することによって、前記半導体素子の受光部側の面に密着して設けられると共に、前記受光部に対応した位置に部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部が形成される合成樹脂製の第1ライトパイプを成形する第2工程と、前記第1ライトパイプの光導入凹部を埋めることが可能な凸部と、前記光導入凹部に対応する光の入射側の面に一体的に形成されたレンズ部とを有する合成樹脂製の第2ライトパイプを成形用の型により成形する第5工程と、前記第1ライトパイプの光導入凹部の側面、又は、前記第2ライトパイプの凸部の側面に反射膜を形成する第6工程と、前記第1ライトパイプに前記第2ライトパイプを接着する第7工程とを備えたことを特徴とする半導体受光装置の製造方法である。
本発明によれば、第1ライトパイプに形成された入射方向側が広く開口した部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部に反射膜を設けることによって、光導入凹部に入射した光を反射膜で反射させて半導体素子の受光部へと導くことができる。これによって、反射膜が無ければ受光部に受光されなかった光をも受光部により受光することができるので、受光効率を高めることができる。
第1ライトパイプを合成樹脂により構成することによって、成形用の型により簡単に成形することができるので、製造コストを削減することができると共に、製造工程を簡略化することができ、容易に製造することができる。また、第1ライトパイプを絶縁性の合成樹脂により構成することにより、第1ライトパイプと半導体素子とを密着して設けることができる。これにより、絶縁膜を省略することができるので構成を簡単化することができると共に、第1ライトパイプと半導体素子との間に絶縁膜を形成した場合のように、絶縁膜を通って光が逸れることがないので、反射膜によって反射された光の受光効率を向上させることができる。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。図1は、本発明の実施形態による半導体受光装置の断面構造を示す。図2は、本発明の実施形態による半導体受光装置の上面図である。
図1及び図2に示すように、本発明に係る半導体受光装置1は、プリント基板(設置基板)2と、受光部3を有する半導体素子4と、TIA(Transimpedance Amplifier)5と、第1ライトパイプ6と、反射膜7と、第2ライトパイプ8とを備えている。
プリント基板2は、既知のガラスエポキシ基板等が用いられている。
半導体素子4は、下面がプリント基板2と接するように配置されている。半導体素子4の上面部には、受光部3が形成されている。この半導体素子4は、フォトダイオードからなり、受光部3は、フォトダイオードの空乏層に相当する。半導体素子4は、受光部3で受光された光L〜Lを電気信号に変換して出力するものである。半導体素子4の厚みは、約200μmである。また、受光部3の一辺の長さは、約100μmである。
半導体素子4を構成するフォトダイオードとしては、pnダイオード、pinフォトダイオード、アバランシェフォトダイオードなどを適用することができる。これらのフォトダイオードを形成するための基板としては、シリコンやゲルマニウム等のIV族半導体や、インジウムリンやガリウム砒素等のIII−V族化合物半導体や、酸化亜鉛やセレン化亜鉛等のII−VI族化合物半導体からなる基板や、サファイア基板等を適用することができる。そして、これらの基板に、既知の方法によって、不純物をドーピングしたり、半導体層を積層することによってフォトダイオードを作製する。
TIA5は、金属の細線9によって半導体素子4にボンディングされて、電気的に接続されている。TIA5は、細線9を介して半導体素子4から送られる電気信号を増幅して出力する。
第1ライトパイプ6は、絶縁性の合成樹脂により構成されている。第1ライトパイプ6を構成する合成樹脂としては、エポキシ系樹脂及びアクリル系樹脂等を適用することができる。第1ライトパイプ6は、プリント基板2の上面と受光部3を除く半導体素子4の上面に密着して設けられている。第1ライトパイプ6の上部の受光部3に対応する部分には、光導入凹部6aが形成されている。光導入凹部6aは、深さ約1mmであって、上方に向かって広がる部分四角錐体形状に形成されている。
反射膜7は、光を反射可能な樹脂系の塗料により構成されている。この樹脂系の塗料としては、例えば、アクリルウレタン塗料、アクリル塗料、アクリルシリコン塗料、エポキシ系塗料、ポリエステル塗料等を適用することができる。反射膜7は、光導入凹部6aの側面を覆うように形成されている。これにより、反射膜7は、受光部3よりも外側に入射する光Lを反射して、受光部3へと導くように機能する。尚、第2ライトパイプ8から入射する光の反射率を高めるために第2ライトパイプ8を構成する合成樹脂の屈折率よりも小さい屈折率を有する樹脂系の塗料を反射膜7の材料として適用することが望ましい。
第2ライトパイプ8は、第1ライトパイプ6を構成する合成樹脂と同じ合成樹脂により構成され、第1ライトパイプ6と一体的に形成されている。図1に示すように、第2ライトパイプ8の下面部には、光導入凹部6aと同じ形状を有し、光導入凹部6aを埋めることが可能な凸部8bが形成されている。
また、第2ライトパイプ8の上面部には、受光部3の上方に位置する領域に、上方から入射した光を、反射膜7を介して受光部3へと集光するためのレンズ部8aが形成されている。レンズ部8aの外周は、光導入凹部6aの上面部の外周よりも大きく形成されている。これによって、光導入凹部6aの外側に入射する光Lもレンズ部8aによって集光されて反射膜7へと導かれた後、反射膜7によって反射されて受光部3へと導かれる。
次に、上記半導体受光装置の製造工程について図面を参照して説明する。図3〜図6は、各製造工程における半導体受光装置の断面構造を示す図である。
まず、図3に示すように、プリント基板2上に半導体素子4及びTIA5を設置する。その後、半導体素子4とTIA5とを細線9によってボンディングして、電気的に接続する(第1工程)。
次に、図4に示すように、半導体素子4及びTIA5と共にプリント基板2を成形用の型20に嵌め込む。尚、成形用の型20は、金型及び注型成形用の型等を適用することができる。この状態で、プリント基板2と成形用の型20との間に形成された空間に液状の合成樹脂を注入する。その後、約100℃〜約120℃まで加熱して液状の合成樹脂を硬化させることにより、光導入凹部6aが形成された第1ライトパイプ6を成形する(第2工程)。
次に、図5に示すように、成形用の型20と取り外した後、光導入凹部6aの表面に樹脂系の塗料を塗布することによって、反射膜7を形成する(第3工程)。
次に、図6に示すように、半導体素子4、第1ライトパイプ6及び反射膜7と共にプリント基板2を成形用の型21に嵌め込む。尚、成形用の型21は、金型及び注型成形用の型等を適用することができる。この状態で、プリント基板2と成形用の型21との間に形成された空間に液状の合成樹脂を注入する。その後、約100℃〜約120℃まで加熱して液状の合成樹脂を硬化させることにより、光導入凹部6aが形成された第2ライトパイプ8を成形する(第4工程)。
その後、成形用の型21を取り外して、半導体受光装置1が完成する。
本発明の半導体受光装置1によれば、第1ライトパイプ6に形成された上方が広く開口した部分四角錐体形状の光導入凹部6aに反射膜7を設けることによって、受光部3の外側に入射した光Lを反射膜7で反射させて半導体素子4の受光部3へと導くことができる。
また、第2ライトパイプ8の上面部に形成されたレンズ部8aによって、反射膜7の外側に入射する光Lをレンズ部8aにより屈折させて反射膜7に導くことができる。これにより、光Lをも反射膜7によって受光部3の方向に導くことができる。
従って、受光部3に直接入射する光Lのみならず、反射膜7及びレンズ部8aが無ければ受光部3に受光されなかった光L及びLをも受光部3により受光することができるので、受光効率を高めることができる。
また、第1ライトパイプ6を合成樹脂により構成することによって、成形用の型20により簡単に成形することができるので、製造コストを削減することができると共に、製造工程を簡略化することができ、容易に製造することができる。更に、第1ライトパイプ6を絶縁性の合成樹脂により構成することにより、第1ライトパイプ6と半導体素子4とを密着して設けるができるので、第1ライトパイプと半導体素子との間に隙間を形成した場合のように、隙間を通って光が逸れることがない。この結果、反射膜7によって反射された光の受光効率を向上させることができる。
また、第2ライトパイプ8及び第1ライトパイプ6をプリント基板2と一体的に形成することによって、第1ライトパイプ及び第2ライトパイプを別々の部品として形成する場合に比べて、部品点数を減らすことができるので、製造コストを削減することができると共に、組み立て工程を減らすことができるので、製造工程を簡略化することができる。
また、第1ライトパイプ6を合成樹脂により構成することにより、第1ライトパイプ6の中にTIA5を設置することができるので、TIA5を半導体素子4の近傍に配置することができる。これによって、半導体受光装置1の受信効率を向上させることができる。
以上、上記実施形態を用いて本発明を詳細に説明したが、当業者にとっては、本発明が本明細書中に説明した実施形態に限定されるものではないということは明らかである。本発明は、特許請求の範囲の記載により定まる本発明の趣旨及び範囲を逸脱することなく修正及び変更形態として実施することができる。従って、本明細書の記載は、例示説明を目的とするものであり、本発明に対して何ら制限的な意味を有するものではない。以下、上記実施形態を一部変更した変更形態について説明する。
例えば、上記半導体受光装置1におけるプリント基板2〜第2ライトパイプ8の幅や厚み等の形状及び構成する材料などは適宜変更可能である。具体的には、第1ライトパイプ6の導入凹部6aを部分円錐形状、部分多角錐体形状若しくは錐体形状に形成してもよい。また、反射膜7を金、銀及びアルミニウム等の金属薄膜によって構成してもよい。
また、上記半導体受光装置1では、第1ライトパイプ6と第2ライトパイプ8とを同じ材料により構成したが、別々の材料により構成してもよい。
また、上記半導体受光装置1では、第2ライトパイプ8にレンズ部8aを形成したが、レンズ部8aは、必ずしも必要な構成ではなく、省略することも可能である。
また、図7に示すように、第2ライトパイプ8を第1ライトパイプ6とは別に成形用の型により成形すると共に(第5工程)、第1ライトパイプ6の光導入凹部6aに反射膜7を形成した後(第6工程)、第1ライトパイプ6に第2ライトパイプ8を接着してもよい(第7工程)。
また、図8に示すように、第2ライトパイプ8を第1ライトパイプ6とは別に成形する場合、第2ライトパイプ8の凸部8bの側面に反射膜7を形成した後、第2ライトパイプ8と第1ライトパイプ6とを接着してもよい。
更に、図9に示すように、第2ライトパイプ8側に反射膜7を形成する場合、第1ライトパイプ6の光導入凹部6aに対応する第2ライトパイプ8の凸部8bの全面に反射膜7を形成した後、凸部8bの下面に形成された反射膜7aのみを削る若しくは切る等の工程によって削除してもよい。
本発明の実施形態による半導体受光装置の断面構造を示す。 本発明の実施形態による半導体受光装置の上面図である。 各製造工程における半導体受光装置の断面構造を示す図である。 各製造工程における半導体受光装置の断面構造を示す図である。 各製造工程における半導体受光装置の断面構造を示す図である。 各製造工程における半導体受光装置の断面構造を示す図である。 本発明の変更形態による半導体受光装置の断面構造を示す。 本発明の変更形態による半導体受光装置の断面構造を示す。 本発明の変更形態による半導体受光装置の断面構造を示す。
符号の説明
1 半導体受光装置
2 プリント基板
3 受光部
4 半導体素子
6 ライトパイプ
6a 光導入凹部
7 反射膜
7a 反射膜
8 ライトパイプ
8a レンズ部
8b 凸部
9 細線


Claims (5)

  1. 光を受光するための受光部が形成された半導体素子と、
    前記半導体素子の受光部側の面に設けられると共に、前記受光部に対応した位置に、光の入射方向側へ広く開口した部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部が形成された絶縁性の合成樹脂製の第1ライトパイプと、
    前記光導入凹部の側面に設けられた反射膜とを備えたことを特徴とする半導体受光装置。
  2. 前記第1ライトパイプの光導入凹部を埋めることが可能な凸部と、前記光導入凹部に対応する光の入射側の面に一体的に形成されたレンズ部とを有する合成樹脂製の第2ライトパイプを備えたことを特徴とする請求項1に記載の半導体受光装置。
  3. 前記第1ライトパイプと前記第2ライトパイプは、同じ合成樹脂からなり一体的に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体受光装置。
  4. 半導体素子を設置基板に設置する第1工程と、
    前記半導体素子及び前記設置基板を成形用の型に導入することによって、前記半導体素子の受光部側の面に密着して設けられると共に、前記受光部に対応した位置に部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部が形成される合成樹脂製の第1ライトパイプを成形する第2工程と、
    前記第1ライトパイプの光導入凹部の側面に反射膜を形成する第3工程と、
    前記半導体素子及び前記第1ライトパイプと共に前記設置基板を成形用の型に導入することによって、前記第1ライトパイプの光導入凹部を埋めることが可能な凸部と、前記光導入凹部に対応する光の入射側の面に一体的に形成されたレンズ部とを有する合成樹脂製の第2ライトパイプを成形する第4工程とを備えたことを特徴とする半導体受光装置の製造方法。
  5. 半導体素子を設置基板に設置する第1工程と、
    前記半導体素子及び前記設置基板を成形用の型に導入することによって、前記半導体素子の受光部側の面に密着して設けられると共に、前記受光部に対応した位置に部分錐体形状、又は、錐体形状の光導入凹部が形成される合成樹脂製の第1ライトパイプを成形する第2工程と、
    前記第1ライトパイプの光導入凹部を埋めることが可能な凸部と、前記光導入凹部に対応する光の入射側の面に一体的に形成されたレンズ部とを有する合成樹脂製の第2ライトパイプを成形用の型により成形する第5工程と、
    前記第1ライトパイプの光導入凹部の側面、又は、前記第2ライトパイプの凸部の側面に反射膜を形成する第6工程と、
    前記第1ライトパイプに前記第2ライトパイプを接着する第7工程とを備えたことを特徴とする半導体受光装置の製造方法。


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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017208421A (ja) * 2016-05-17 2017-11-24 ローム株式会社 半導体装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56103481A (en) * 1980-01-21 1981-08-18 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of semiconductor device for photoelectric conversion
JPS61280676A (ja) * 1985-06-05 1986-12-11 Clarion Co Ltd フオトセンサicの製造方法
JP2001305394A (ja) * 2000-04-20 2001-10-31 Yasuhiro Koike 光ファイバ用の受光装置および発光装置
JP2006216887A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Citizen Electronics Co Ltd オプトデバイス
JP2006332412A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Rohm Co Ltd 受光装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56103481A (en) * 1980-01-21 1981-08-18 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of semiconductor device for photoelectric conversion
JPS61280676A (ja) * 1985-06-05 1986-12-11 Clarion Co Ltd フオトセンサicの製造方法
JP2001305394A (ja) * 2000-04-20 2001-10-31 Yasuhiro Koike 光ファイバ用の受光装置および発光装置
JP2006216887A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Citizen Electronics Co Ltd オプトデバイス
JP2006332412A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Rohm Co Ltd 受光装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017208421A (ja) * 2016-05-17 2017-11-24 ローム株式会社 半導体装置

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