JP2007187760A - レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - Google Patents

Abstract

【課題】コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率に優れ、かつ、信頼性の高いレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】本発明のレンズ基板の製造方法は、基板本体の出射側の面に、銀感光性材料を付与し、遮光膜形成用膜を形成する銀感光性材料付与工程と、基板本体の凸レンズが設けられた面側から光を照射し、遮光膜形成用膜の凸レンズの集光部に対応する部位を露光する露光工程と、露光した遮光膜形成用膜に現像処理を施すことにより、遮光膜形成用膜に開口部を形成する現像工程とを有し、銀感光性材料付与工程の前に、基板本体の凸レンズが設けられた側とは反対の面に、銀感光性材料との親和性を向上させる親和性向上処理を施すことを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。

近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ（レンズ部）を備えたレンズ基板が一般的に用いられている。そして、このようなレンズ基板（レンズシート）でにおいて、画像のコントラストを向上させる目的で、レンズ部が設けられた側とは反対側に遮光性層が設けられている。

このようなレンズ基板（レンズシート）の製造においては、レンズ部での集光を利用して、開口部（光透過性部分）を有する遮光性層が形成されている（例えば、特許文献１参照）。このような方法で、遮光性層を形成することにより、レンズ部の焦点に対応する部位に開口部（光透過性部分）を形成することができるため、コントラストの向上を図る上で有利である。

特許文献１に記載の銀塩感光材料（銀感光性材料）は、遮光性に優れるとともに、容易に開口部を形成することができる点で優れた材料である。
しかしながら、銀塩感光材料は、ベース（基板本体）との親和性が低く、均一な厚さの遮光性膜を形成するのが困難であった。また、得られる遮光性膜は、ベースとの密着性に劣るため、レンズ基板の信頼性を低下させてしまうといった問題があった。

特開２００１−７４９１８号公報

本発明の目的は、コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率（入射側からの照射した光の透過率）に優れ、かつ、信頼性の高いレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記基板本体を準備する基板本体準備工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面に、銀感光性材料を付与し、遮光膜形成用膜を形成する銀感光性材料付与工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側から光を照射し、前記遮光膜形成用膜の前記凸レンズの集光部に対応する部位を露光する露光工程と、
露光した前記遮光膜形成用膜に現像処理を施すことにより、前記遮光膜形成用膜に前記開口部を形成する現像工程とを有し、
前記銀感光性材料付与工程の前に、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面に、前記銀感光性材料との親和性を向上させる親和性向上処理を施すことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率（入射側からの照射した光の透過率）に優れ、かつ、信頼性の高いレンズ基板を効率良く製造することができるレンズ基板の製造方法を提供することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記親和性向上処理は、ヘキサメチルジシラザンを用いて行うことが好ましい。
これにより、銀感光性材料と基板本体との親和性を効果的に向上させることができる。 本発明のレンズ基板の製造方法では、前記親和性向上処理は、プラズマを照射することにより行うことが好ましい。
これにより、銀感光性材料と基板本体との親和性を効果的に向上させることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記銀感光性材料付与工程の前に、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面の表面に微小の凹凸を形成することが好ましい。
これにより、基板本体と遮光膜との密着性をより効果的に向上させることができるとともに、開口部において、出射する光が拡散され、視野角特性をより優れたものとすることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記微小の凹凸は、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面の表面に、前記凸レンズよりも小さい多数個のレンズであることが好ましい。
これにより、基板本体と遮光膜との密着性をさらに向上させることができるとともに、開口部において、出射する光が拡散され、視野角特性をより優れたものとすることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光膜の平均厚さは、１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、遮光膜としての機能をより効果的に発揮させることができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記露光工程において、前記基板本体の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、前記光を前記基板本体に入射することが好ましい。
これにより、視野角特性、光の利用効率を効果的に向上させることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記光を複数の方向から入射することが好ましい。
これにより、複数の方向についての視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、形成すべき開口部の形状が、略長円形、略楕円形のような形状を有する場合であっても、容易かつ確実に好適な開口部を形成することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記角度θおよび／または前記光の入射方向を、経時的に変化させることが好ましい。
これにより、視野角特性、光の利用効率が特に優れたレンズ基板をより効率良く製造することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記光の入射方向が、前記基板本体の主面の法線を中心に回転するように、前記光の入射方向を変化させることが好ましい。
これにより、視野角特性、光の利用効率が特に優れたレンズ基板をさらに効率良く製造することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記角度θが、３〜８°であることが好ましい。
これにより、レンズ基板の視野角特性、光の利用効率を十分に優れたものとしつつ、製造されるレンズ基板を用いて、より高いコントラストの画像を好適に表示することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レンズ基板は、前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、各方向（例えば、縦方向および横方向）での視野角特性を特に優れたものとすることができる。

本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率（入射側からの照射した光の透過率）に優れ、かつ、信頼性の高いレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率（入射側からの照射した光の透過率）に優れ、かつ、信頼性の高い透過型スクリーンを提供することができる。

本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率（入射側からの照射した光の透過率）に優れ、かつ、信頼性の高いリア型プロジェクタを提供することができる。

以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。

まず、本発明のレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のレンズ基板（凸レンズ基板）および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。

マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸レンズ）２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光膜）３と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部４とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。

基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。

基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．３５〜１．９であるのが好ましく、１．４０〜１．７５であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。

本実施形態において、マイクロレンズ（凸レンズ）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。

平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ_１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ_２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。

平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。

また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。

また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。

また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。

上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。

また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ_３［μｍ］と、前記線分の長さＬ_４［μｍ］との比率（Ｌ_３／Ｌ_４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。

上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。

また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、ブラックマトリックス（遮光膜）３に設けられた開口部（非遮光部）３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。

また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。

開口部３１は、後に詳述するように（後に詳述するような方法により）、ブラックマトリックス３の開口部３１以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。
ブラックマトリックス３の開口部３１は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜１００μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、２０〜７０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。

また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、１〜１０μｍであるのが好ましく、３〜９μｍであるのがより好ましく、４〜８μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
また、ブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３１は、光の出射側に向かって断面積が大きくなるような形状（テーパ状）をなすものである。これにより、基板本体２を透過してきた光（画像形成用の光）がブラックマトリックス３の開口部３１の側面（周面）に入射し、光の利用効率が低下することをより効果的に防止することができる。

図１（図３についても同様）中、θ’で示されるブラックマトリックス３の開口部３１におけるテーパ角（ブラックマトリックス３の主面の法線（垂線）と、開口部３１における傾斜面とのなす角）は、１〜１０°であるのが好ましく、２〜８°であるのがより好ましく、３〜５°であるのがさらに好ましい。テーパ角が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。このようなテーパ角を有する開口部３１は、後述するような方法により、容易かつ確実に形成することができる。

また、平面視したときの開口部３１のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、１０〜５０％であるのが好ましく、２０〜４７％であるのがより好ましく、２５〜４４％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。

また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部４が設けられている。拡散部４は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部４を有することにより、視野角特性を優れたものとすることができる。また、拡散部４は、ブラックマトリックス３より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部４に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、透過型スクリーン１０の視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部４は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。

また、拡散部４の厚さは、特に限定されないが、０．０５〜５ｍｍであるのが好ましく、０．７〜４ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部４の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部４の厚さが前記下限値未満であると、拡散部４を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部４の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、光拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。

本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）は、後に詳述するような方法で製造されたものであるため、光の利用効率に優れている。マイクロレンズ基板１の光の利用効率（マイクロレンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６５％以上であるのが好ましく、７５％以上であるのがより好ましく、８５％以上であるのがさらに好ましい。

次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。

以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側から入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、ブラックマトリックス３は必要かつ十分な大きさの開口部３１を有するものであるため、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。

次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例（第１実施形態）について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６、図７、図８は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図、図９、図１０、図１１は、基板本体に光を照射する際の光の入射方向（銀感光性材料を露光する際の光の照射方法）を説明するための図、図１２は、マイクロレンズによる光の屈折と、基板本体から出射する光の光度分布とを説明するための図である。なお、以下の説明では、図６〜図８および図１２中の下側、図９〜図１１中の上側を「（光の）入射側」、図６〜図８および図１２中の上側、図９〜図１１中の下側を「（光の）出射側」と言う。
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。

まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材６が有する凹部６１の形状の安定性（信頼性）や、当該凹部６１を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、製造された基板本体２の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。

凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。

より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。

また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ_１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ_２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ_１／Ｌ_２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。

また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。

また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。

また、凹部６１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、凹部６１の深さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。

また、これら複数個の凹部６１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。

また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。

なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。

次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。

＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ａ）、図５（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜９を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜９に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜９および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。

マスク形成用膜９は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜９（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
かかる観点からは、マスク形成用膜９（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜９（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。

上記のように、マスク形成用膜９（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜９は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜９を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、基板７がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜９（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜９（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜９（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。

マスク形成用膜９の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜９（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜９は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜９（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜９は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。

マスク形成用膜９（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜９（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜９の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜９の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜９（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜９（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。

裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜９（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜９の形成と同時に、マスク形成用膜９と同様に設けることができる。

次に、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜９に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜９に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。

また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ_４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ_２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。

本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。

また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。

＜Ａ２＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。

初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。

また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
マスク８（マスク形成用膜９）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。

＜Ａ３＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。

また、例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ_３）_３Ｓｉ］_２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。

以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜９に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜９に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。

また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。

次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。

基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。

なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。

スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。

＜Ｂ２＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図６（ｂ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。

＜Ｂ３＞次に、形成された基板本体２から、凹部付き部材６および平板１１を取り除く（押圧部材・凹部付き部材除去工程。図６（ｃ）参照）。本工程で除去された凹部付き部材６および平板１１は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。

＜Ｂ４＞次に、基板本体２の出射側表面に、後述する銀感光性材料との親和性を向上させる処理（親和性向上処理）を施す（親和性向上処理工程）。
このように本発明では、基板本体の凸レンズが設けられた側とは反対の面に、銀感光性材料との親和性を向上させる親和性向上処理を施すことに特徴を有している。これにより、後述する銀感光性材料付与工程において、銀感光性材料を基板本体上に均一に付与することができる。また、得られる遮光膜（ブラックマトリックス）と基板本体との密着性を向上させることができる。その結果、コントラストに優れた画像を表示することができるとともに、光の利用効率（入射側からの照射した光の透過率）に優れ、かつ、信頼性の高いレンズ基板を提供することができる。

前述したような親和性向上処理は、例えば、ヘキサメチルジシラザンを付与することにより行うことができる（ＨＭＤＳ処理）。これにより、銀感光性材料と基板本体２との親和性を効果的に向上させることができる。その結果、得られるマイクロレンズ基板１の信頼性をより効果的に向上させることができる。
また、親和性向上処理は、例えば、基板本体２の出射側表面に、プラズマを照射することにより行うことができる。これにより、銀感光性材料と基板本体２との親和性を効果的に向上させることができる。その結果、得られるマイクロレンズ基板１の信頼性をより効果的に向上させることができる。
プラズマを発生させるのに用いるガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等を用いることができる。

また、基板本体２とブラックマトリックス３（遮光膜形成用膜３２）との密着性を向上させるために、基板本体２の出射側表面に、上記のような親和性向上処理を施す他に、微小の凹凸を形成してもよい。このように微小の凹凸を形成することにより、基板本体２とブラックマトリックス３（遮光膜形成用膜３２）との密着性をより効果的に向上させることができるとともに、後述するような開口部３１において、出射する光が拡散され、視野角特性をより優れたものとすることができる。

このような微小の凹凸は、いかなる形状で形成されていてもよいが、前述したマイクロレンズ２１よりも小さい多数個のレンズとして形成されているのが好ましい。これにより、基板本体２とブラックマトリックス３（遮光膜形成用膜３２）との密着性をさらに向上させることができるとともに、後述するような開口部３１において、出射する光がより効果的に拡散され、視野角特性をさらに優れたものとすることができる。

微小の凹凸をマイクロレンズ２１よりも小さい多数個のレンズとして形成する場合、マイクロレンズ２１の平均径（短軸方向の長さ）をＡ［μｍ］、マイクロレンズ２１よりも小さいレンズの平均径をＢ［μｍ］としたとき、Ｂ／Ａ≦０．２の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｂ／Ａ≦０．１５の関係を満足するのがより好ましい。これにより、微小な凹凸を設けることによる効果をより顕著なものとすることができる。

また、微小の凹凸をマイクロレンズ２１よりも小さい多数個のレンズとして形成する場合、形成するレンズの平均径は、１５０μｍ以下であるのが好ましく、６０〜１００μｍであるのがより好ましい。これにより、微小な凹凸を設けることによる効果をより顕著なものとすることができる。
また、このように基板本体２の出射側表面に微小な凹凸を形成した場合、基板本体２の出射側表面の表面粗さＲａは、０．５μｍ以上であるのが好ましく、０．５〜１μｍであるのがより好ましい。これにより、基板本体２とブラックマトリックス３（遮光膜形成用膜３２）との密着性をより効果的に向上させることができる。

＜Ｂ５＞次に、上記のように、親和性向上処理が施された基板本体２の出射側表面に、銀感光性材料を付与し、図７（ｄ）に示すように、遮光膜形成用膜３２を形成する（銀感光性材料付与工程）。
基板本体２表面への銀感光性材料の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。
このような銀感光性材料としては、ネガ型、ポジ型が上げられるが、いずれを使用してもよい。

＜Ｂ６＞次に、基板本体２に光（露光用光）Ｌｂを照射する（図７（ｅ）参照）。
照射された光（露光用光）Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の銀感光性材料（遮光膜形成用膜３２）が露光され、それ以外の部分の銀感光性材料は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の銀感光性材料のみが感光する。
ここで、本実施形態では、図７（ｅ）および図９に示すように、基板本体２の主面の法線方向（垂線方向）に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、光を基板本体２に入射させる。

従来は、開口部を形成する際、露光用光Ｌｂを基板本体の入射側表面に垂直な方向（基板本体の主面の法線方向（垂線方向））に照射していた。しかしながら、このような場合、以下のような問題点があった。すなわち、レンズ部（マイクロレンズ）により集光された光は、光の照射部位において、その光度（光束）が均一なものではなく、所定の光度分布を有している（図１２参照）。このため、光が照射される部位であっても、その光度（光束）が比較的低い部位（露光に必要な光度Ｚ_０より低い部位）においては、銀感光性材料を露光することはできない。言い換えると、基板本体の光の出射面側における光のスポットの大きさ（屈折した光のスポット径）は、形成される開口部（非遮光部）の大きさよりも大きいものとなる。その結果、最終的に得られるレンズ基板（マイクロレンズ基板）において、平行光Ｌｂを入射させた際に、遮光膜に吸収される光（屈折した光）の割合は高いものとなり、光の利用効率は低いものとなってしまう。また、レンズ部により比較的大きく屈折された光の成分（集光により形成されるスポットの周縁部付近の成分）が遮光膜に吸収されてしまうため、レンズ基板の視野角特性は低いものとなってしまう。

これに対し、図７（ｅ）および図９に示すように、露光工程において、基板本体２の主面の法線方向（垂線方向）に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から光（露光用光）Ｌｂを基板本体２に入射させることで、基板本体２の入射側表面に垂直な方向（基板本体２の主面の法線方向）に光を照射した場合には、開口部を形成することができなかった部位にも、十分に高い光度（エネルギー）の光を照射することができ、当該部位をブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３１とすることができる。

光（露光用光）Ｌｂを照射するに際し、基板本体２の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から光（露光用光）Ｌｂを基板本体２に入射させるためには、例えば、露光用光Ｌｂの光源を斜めに設置してもよいし、基板本体２側を傾けてもよい。また、光源と基板本体２との間に偏光フィルターやスリット等を介して照射する場合、当該偏光フィルターやスリット等を斜めに傾けてもよい。

基板本体２を斜めに傾ける方法としても、特に限定されるものではなく、例えば、支持部材等を用いて基板本体２の一端部を持ち上げて支持することにより傾けてもよいし、また、くさび形等の傾斜形状を有する傾斜部材を基板本体２の下側に配することで基板本体２を斜めに傾けてもよい。この場合、上記傾斜部材の材質としては、露光用光Ｌｂを反射しないものが好ましい。

光の入射方向と基板本体２の主面の法線方向とでなす角度θは、特に限定されないが、２〜８°であるのが好ましく、３〜７°であるのがより好ましく、５〜６°であるのがさらに好ましい。角度θが前記範囲内の値であると、開口部３１を十分に大きく形成することができ、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を十分に優れたものとしつつ、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、角度θが前記下限値未満であると、開口部３１を十分に大きく形成することが困難となり、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を十分に高くするのが困難となる可能性がある。一方、角度θが前記上限値を超えると、ブラックマトリックス３の外光反射防止の特性が低下してしまい、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、角度θが前記上限値を超えると、マイクロレンズ２１形状等によっては、マイクロレンズ２１の頂部に対応する部位に開口部３１を確実に形成することが困難となり、マイクロレンズ基板１としての光の利用効率が低下する可能性がある。

基板本体２に照射する光（露光用光）Ｌｂは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３１の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
また、開口部形成用の光（露光用光）Ｌｂは一方向からだけではなく、基板本体２に対し複数の方向から入射させるのが好ましい。これにより、より広い領域に効率良く十分な光度（光束）の光を照射することができ、必要十分な大きさの開口部３１をより効率良く形成することができる。

複数の方向から光を入射させる方法としては、例えば、複数の光源を用意し、これらを異なる部位に設置し、これら複数の光源から同時または順番に光を照射する方法や、光源から照射された光を分岐させ、これらの分岐した光を異なる方向から基板本体２に入射させる方法も挙げられるが、例えば、基板本体２と光源とを相対的に移動（変位）させつつ、光源から光（露光用光）Ｌｂを照射する方法が挙げられる。基板本体２と光源とを相対的に移動（変位）させる方法としては、例えば、基板本体２を固定した状態で光源を移動（変位）させる方法、光源を固定した状態で基板本体２を移動（変位）させる方法、光源および基板本体２をともに移動（変位）させる方法が挙げられる。中でも、基板本体２を移動（変位）させる場合、光源を固定する従来の露光装置をそのまま使用しやすいという効果が得られる。

以下、基板本体２を移動（変位）させる方法について、より具体的に説明する。
基板本体側を動かす具体的な方法としては、例えば、図１０に模式的に示すように、少なくとも、互いに直交する４方向に、それぞれ角度θずつ基板本体２を傾ける方法が挙げられる。
このように、基板本体２を動かすことにより、例えば、得られるマイクロレンズ基板１を各方向（左右方向および上下方向）での視野角特性が特に優れたものとすることができるとともに、光の利用効率が特に優れたものとすることができる。

また、光（露光用光）Ｌｂの照射は、基板本体２が所定の角度に傾いた状態においてのみ行うものであってもよいが、基板本体２を動かしている間、連続的または断続的に行うものであってもよい。すなわち、角度θの値は、経時的に変化するものであってもよい。これにより、例えば、角度θの値（角度θの最大値）が比較的大きい場合であっても、マイクロレンズ２１の頂部に対応する部位に開口部３１を確実に形成することができる。このように、角度θの値が経時的に変化する場合、その最大値が前述した範囲に含まれるものであるのが好ましい。また、例えば、光（露光用光）Ｌｂの照射時に、角度θがゼロとなる時点が存在してもよい。

また、光（露光用光）Ｌｂを複数の方向から照射する際に、各方向についての光（露光用光）Ｌｂの入射角度θの最大値が異なるものとなるようにしてもよい。これにより、例えば、形状が非対称な（例えば、点対称ではない）開口部３１等のように、複雑な形状の開口部３１も容易かつ確実に形成することができる。これにより、例えば、透過型スクリーン１０や後述するようなリア型プロジェクタ３００の仕様、使用環境（設置場所等）に応じて、容易に、各方向における視野角特性を最適なものとすることができる。
また、光の入射方向を変化させる方法の他の一例（基板本体側を動かす他の一例）を、図１１に模式的に示す。

図１１に示す例では、基板本体２の主面の法線と軸９０の長手方向とのなす角が、所定の角度θを維持するように、基板本体２を、軸９０上でこまのように回転させる構成になっている。言い換えると、図１１に示す例では、軸９０の延長線が基板本体２の表面（入射面）に接触する部位における基板本体の主面の法線が、軸９０を中心とした円錐の周面を形成するように、基板本体が回転する。このような構成であることにより、例えば、光（露光用光）Ｌｂの入射方向に対して、基板本体２の主面の法線が角度θだけ傾斜した状態を維持しつつ、光Ｌｂの入射方向を経時的に変化させることができる。これにより、光の利用効率が特に優れたマイクロレンズ基板１を生産性良く製造することができる。また、各方向での視野角特性のばらつきをより小さいものとすることができる。

＜Ｂ７＞次に、上記のような方法等により光Ｌｂを照射した後、現像を行う（現像工程）。なお、銀感光性材料としてネガ型を用いた場合、反転現像を行う。また、銀感光性材料としてポジ型を用いた場合、銀感光性材料の種類等に従った現像を行う。
このように現像処理を施すことにより、前述した露光工程において露光された部位以外が黒化し、遮光性を有するものとなる。そして、露光工程において露光された部位は、光透過性を示すものとなり、開口部３１を構成する（図７（ｆ）参照）。
以上のようにしてブラックマトリックス３が形成される。

本実施形態のように、銀感光性材料にマイクロレンズ２１によって集光させた光（露光用光）を照射しブラックマトリックス３（開口部を有する遮光膜）を形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
なお、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。

＜Ｂ８＞次に、図８（ｇ）に示すように、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部４を形成し、マイクロレンズ基板１を得る。
拡散部４は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。

以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１３は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れた画像を得ることができるとともに、視野角特性、光利用効率等も特に優れたものとなる。

また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。

例えば、レンズ基板（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に樹脂を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面に樹脂を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。

また、前述した実施形態では、板状の凹部付き部材（凹部付き基板）を用いて、基板本体を製造するものとして説明したが、基板本体は、例えば、ロール状の成形型（凹部付き部材）を用いて製造してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材を除去するものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去しなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
また、前述した実施形態では、露光工程において、基板本体の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、光を基板本体に入射するものとして説明したが、傾斜させなくてもよい。

また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板は、前述したような拡散部を備えていなくてもよい。

また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板であるものとして説明したが、本発明において、レンズ基板は、例えば、レンチキュラレンズ基板等であってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。

また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。

［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ_２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。

次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。

次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ^２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は２μｍであった。

次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さが８２μｍ、曲率半径が３７．５μｍ、高さが３６．５μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。

次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。得られた凹部付き部材を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。

次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：０．１ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ_１）は、１．５５０であった。

次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが８２μｍ、曲率半径が３７．５μｍ、高さが３６．５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ_１）は、１．５５７であった。

次に、平板および凹部付き部材を取り除いた。
次に、前述した凹部付き部材の凹部よりも小さい多数個の凹部を有する第２の凹部付き部材を用意した。第２の凹部付き部材は、凹部がハニカム状に配列したものであり、隣接する凹部の中心間距離が１０μｍで、凹部の平均径は１０μｍであった。なお、第２の凹部付き部材は、前述した凹部付き部材と同様の方法により形成したものを用いた。

次に、第２の凹部付き部材を用いて、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、第２の凹部付き部材の表面形状を熱転写した。
基板本体の出射側表面に形成された多数個の凸部（凸レンズ）は、ハニカム状に配列したものであり、隣接する凸レンズの中心間距離（ピッチ）が、１０μｍで、凸レンズの平均径は、１０μｍであった。
これにより、基板本体の出射側表面に微小の凹凸が形成された。なお、基板本体の出射側表面の表面粗さＲａは、０．７μｍであった。

次に、基板本体の微小の凹凸が形成された側の表面に、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を用いて親和性向上処理を施した。
次に、親和性向上処理を施した基板本体の出射側表面に、ハロゲン化銀感光性乳剤（銀感光性材料）を、ロールコーターにより付与し、遮光膜形成用膜を形成した。遮光膜形成用膜の平均厚さは、５μｍであった。

次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、６０ｍＪ／ｃｍ^２の平行光としての紫外線を照射した。このとき、図１０に示すように、基板本体の４つの辺に対応する４方向について、基板本体の主面の法線方向が、基板本体への光の入射方向が所定角度（θ＝６°）だけ傾斜するように、基板本体を動かしつつ、紫外線の照射を行った。
その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のハロゲン化銀感光性乳剤を選択的に露光した。

その後、公知の反転現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ_２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部は、略円形であり、その直径は２０μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは５μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスは、その開口部が、光の出射側に向かって断面積が大きくなるようなテーパ状をなすものであった。ブラックマトリックスの開口部３おけるテーパ角（ブラックマトリックスの主面の法線（垂線）と、開口部における傾斜面とのなす角）θ’は、３°であった。

次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成し、マイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２．０ｍｍであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。

（実施例２〜４）
第２の凹部付き部材の凹部のピッチ等を変更することにより、凹凸の構成を表１に示すようにし、また、マイクロレンズ基板の紫外線の照射条件（基板本体への入射角度θ）を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（実施例５）
紫外線（光）の照射条件を表１に示すようにし、親和性向上処理を、プラズマの照射により行った以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
なお、プラズマの照射は、マイクロ波電力：０．５ｋＷ、ヘリウムガスの流量：１５Ｌ／ｍｉｎの条件で行った。

（実施例６〜８）
第２の凹部付き部材の凹部のピッチ等を変更することにより、凹凸の構成を表１に示すようにし、また、マイクロレンズ基板の紫外線の照射条件（基板本体への入射角度θ）を表１に示すように変更した以外は、前記実施例５と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（実施例９）
基板本体の出射側表面に微小の凹凸を形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例１０）
紫外線（光）の照射条件を表１に示すようにし、基板本体の出射側表面に微小の凹凸を形成しなかった以外は、前記実施例５と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。

（比較例）
微小の凹凸を形成せず、また、親和性向上処理を行わなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および比較例について、親和性向上処理の種類、銀感光性材料を露光してブラックマトリックスを形成する際の紫外線の基板本体への入射角度（θ）等の製造条件、ブラックマトリックスの開口部形状（大きさ）、開口率等のマイクロレンズ基板の構成等を表１にまとめて示す。

［光の利用効率の評価］
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンについて、光の利用効率の評価を行った。
光の利用効率の評価は、Ａ（＝３００）［ｃｄ／ｍ^２］の白色光を入射させた際、透過型スクリーンの光の出射面側で測定される光の輝度Ｂ［ｃｄ／ｍ^２］の比率（Ｂ／Ａ）を求めることにより行った。Ｂ／Ａの値が大きいほど、光の利用効率が優れているといえる。

［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンを用いて、図１３に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［コントラストの評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。

コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ^２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ^２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。

［視野角の測定］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。

［輝度ムラ（色ムラ）の評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンのＹ値（Ｄ６５／２°視野）を面内２０ポイント測定し、その透過率の最大値と最小値の差ΔＴ（Ｙ）（％）を、輝度ムラ（色ムラ）と定義し、輝度ムラ（色ムラ）の発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ΔＴ（Ｙ）（％）３％未満。
○：ΔＴ（Ｙ）（％）３％以上５％未満。
△：ΔＴ（Ｙ）（％）５％以上１０％未満。
×：ΔＴ（Ｙ）（％）１０％以上。
これらの結果を表２にまとめて示す。

表２から明らかなように、本発明では、いずれも、光の利用効率に優れるとともに、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、輝度ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。これは、基板本体に対して銀感光性材料を十分均一に付与することができなかったためであると考えられる。

本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。 図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。 マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。 図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すマイクロレンズ基板（第１実施形態）の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。 図１に示すマイクロレンズ基板（第１実施形態）の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。 基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。 基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。 基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。 マイクロレンズ（凸レンズ）による光の屈折と、基板本体から出射する光の光度分布とを説明するための図である。 本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。

符号の説明

１…マイクロレンズ基板（レンズ基板） ２…基板本体 ２１…マイクロレンズ（凸レンズ） ２１１…中心 ２３…組成物 ２４…基材フィルム ２５…第１の行 ２６…第２の行 ３…ブラックマトリックス（遮光膜） ３１…開口部 ３２…遮光膜形成用膜 ４…拡散部 ５…フレネルレンズ部 ５１…フレネルレンズ ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材） ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部） ９…マスク形成用膜 ７…基板 ８…マスク ８１…初期孔（開口部） ８９…裏面保護膜 １１…平板 １０…透過型スクリーン ９０…軸 ３００…リア型プロジェクタ ３１０…投写光学ユニット ３２０…導光ミラー ３４０…筐体

Claims (15)

1. 多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
   前記基板本体を準備する基板本体準備工程と、
   前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面に、銀感光性材料を付与し、遮光膜形成用膜を形成する銀感光性材料付与工程と、
   前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側から光を照射し、前記遮光膜形成用膜の前記凸レンズの集光部に対応する部位を露光する露光工程と、
   露光した前記遮光膜形成用膜に現像処理を施すことにより、前記遮光膜形成用膜に前記開口部を形成する現像工程とを有し、
   前記銀感光性材料付与工程の前に、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面に、前記銀感光性材料との親和性を向上させる親和性向上処理を施すことを特徴とするレンズ基板の製造方法。
2. 前記親和性向上処理は、ヘキサメチルジシラザンを用いて行う請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
3. 前記親和性向上処理は、プラズマを照射することにより行う請求項１または２に記載のレンズ基板の製造方法。
4. 前記銀感光性材料付与工程の前に、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面の表面に微小の凹凸を形成する請求項１ないし３のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
5. 前記微小の凹凸は、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側とは反対の面の表面に、前記凸レンズよりも小さい多数個のレンズである請求項４に記載のレンズ基板の製造方法。
6. 前記遮光膜の平均厚さは、１〜１０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
7. 前記露光工程において、前記基板本体の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、前記光を前記基板本体に入射する請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
8. 前記光を複数の方向から入射する請求項７に記載のレンズ基板の製造方法。
9. 前記角度θおよび／または前記光の入射方向を、経時的に変化させる請求項７または８に記載のレンズ基板の製造方法。
10. 前記光の入射方向が、前記基板本体の主面の法線を中心に回転するように、前記光の入射方向を変化させる請求項７ないし９のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
11. 前記角度θが、３〜８°である請求項７ないし１０のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
12. 前記レンズ基板は、前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板である請求項１ないし１１のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
13. 請求項１ないし１２のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするレンズ基板。
14. 請求項１３に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
15. 請求項１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。

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