JP2007177233A - ガスハイドレートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガスハイドレート生成工程1と、冷却工程2と、脱圧工程3と、再冷却工程4より成るガスハイドレートの製造方法において、前記冷却工程2におけるガスハイドレート冷却温度Tを、前記ガスハイドレートの平衡温度t1 に補正温度t2 を加算した冷却下限温度t1 +t2 以上で、かつ、氷点(0℃)以下とする。
【選択図】 図2
Description
(a)高圧下で生成したガスハイドレートを凍結させ、減圧して大気圧の分解条件に置くと、ガスハイドレートの表面から部分的に分解が始まり、ガスハイドレートを形成しているガス分子がガス化するとともに、水膜がガスハイドレート表面を覆う。
請求項1に記載の発明に係るガスハイドレートの製造方法は、原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程、該ガスハイドレート生成工程で生成されたガスハイドレートを冷却する冷却工程、該冷却工程で冷却されたガスハイドレートを大気圧まで減圧する脱圧工程、該脱圧工程で脱圧されたガスハイドレートを保存状態に再冷却する再冷却工程とから成るガスハイドレートの製造方法において、前記冷却工程におけるガスハイドレート冷却温度Tを、前記ガスハイドレートの平衡温度t1 に補正温度t2 を加算した冷却下限温度t1 +t2 以上で、かつ、氷点(0℃)以下とすることを特徴としている。
図1において、符号1はハイドレート生成反応器、2は第1冷却器、3は脱圧器、4は第2冷却器、5はハイドレート組成計算器又はハイドレート分析器、6は平衡温度演算器、7は冷却・脱圧・貯蔵温度設定器である。
図2に示すように、ハイドレート生成反応器1内の水(原料水)(例えば、水温0〜10℃)wを攪拌機17によって攪拌しながら、ガス供給管11より所定圧力(例えば、4〜6MPa)の原料ガス(天然ガス)gを供給すると、ガス噴出器22から放出された微細な気泡状の天然ガスgと水wとが反応して天然ガスハイドレート(以下、ガスハイドレートと称する。)nが生成される。
メタン100%を原料ガスとしてメタンハイドレートを生成した。生成及び貯蔵条件は、次の通りである。
(1)ガスハイドレート生成反応器
(a)生成圧力:5.4MPa
(b)生成温度:2℃
(2)第1冷却器
(a)圧力:5.4MPa
(b)温度:−30℃
(3)脱圧装置
(a)圧力:5.4MPa→0.1MPa
(b)温度:−30℃
(4)貯 槽
(a)圧力:0.1MPa
(b)温度:−15〜−30℃
T=t1 +t2 =−80(℃)+50(℃)=−30(℃)
メタン97%とプロパン3%の混合ガスを原料ガスとしてメタン・プロパンハイドレートを生成した。生成及び貯蔵条件は、次の通りである。
(1)ガスハイドレート生成反応器
(a)生成圧力:5.4MPa
(b)生成温度:2℃
(2)第1冷却器
(a)圧力:5.4MPa
(b)温度:−15℃
(3)脱圧装置
(a)圧力:5.4MPa→0.1MPa
(b)温度:−15℃
(4)貯 槽
(a)圧力:0.1MPa
(b)温度:−15〜−30℃
T=t1 +t2 =−65(℃)+50(℃)=−15(℃)
n ガスハイドレート
w 水
Claims (4)
- 原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程、該ガスハイドレート生成工程で生成されたガスハイドレートを冷却する冷却工程、該冷却工程で冷却されたガスハイドレートを大気圧まで減圧する脱圧工程、該脱圧工程で脱圧されたガスハイドレートを保存状態に再冷却する再冷却工程とから成るガスハイドレートの製造方法において、前記冷却工程におけるガスハイドレート冷却温度Tを、前記ガスハイドレートの平衡温度t1 に補正温度t2 を加算した冷却下限温度t1 +t2 以上で、かつ、氷点(0℃)以下とすることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
- 前記補正温度t2 を40℃とすることを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの製造方法。
- 前記補正温度t2 を50℃とすることを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの製造方法。
- 前記ガスハイドレートを保存状態に再冷却する時の再冷却温度を、−15℃〜−30℃とすることを特徴とする請求項1記載のガスハイドレートの製造方法。
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- 2006-11-29 JP JP2006322069A patent/JP2007177233A/ja active Pending
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