JP2007177055A - 組成物、位相差板、偏光板、液晶表示装置および平均チルト角制御剤 - Google Patents

Abstract

【課題】配向角度が低く、また重合温度により配向角度の変化のないまたは軽減された光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供する。
【解決手段】例えば、１，３，５−位にオキソジチアゾール環で置換されたベンゼン化合物からなるディスコティックネマチック液晶に例えば、１，２，４−位に一般式（Ｂ−２）の基で

置換された化合物からなる組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は光学異方性層の形成に有用な組成物およびそれを用いて作製された位相差板等に関する。

液晶表示装置は、通常、液晶セルを挟んで第１の偏光板と第２の偏光板とが設けられ、液晶セルは一対の基板間に棒状液晶性化合物を含有する液晶層を有する。棒状液晶性化合物を用いた液晶セル内で生じる位相差を、ディスコティック液晶性化合物（例えば、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレン等）から形成される光学異方性層を有する光学補償シート（例えば、特許文献１）によって相殺する場合、棒状液晶性化合物とディスコティック液晶性化合物との波長分散性が異なるために全ての光の波長について同時に位相差を相殺できず、変色（黒の色味が出ない等）が生じる場合がある。

ヘテロ環基による３置換ベンゼン化合物が報告されている（非特許文献１）。この化合物の使用によって低い波長分散性を達成することは容易でなく、より波長分散性の小さい（Ｒｅ（短波長（例えば４５０ｎｍ））／Ｒｅ（長波長（例えば６５０ｎｍ））の値が小さい）化合物が望まれている。

位相差板のレターデーションＲｅ（λ）は、補償しようとする液晶セルの光学的性質に応じて決定する必要がある。ここで、レターデーション（△ｎｄ）は、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）と光学異方性層の厚さ（ｄ）との積であり、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）が大きければ、層の厚さ（ｄ）が薄くても液晶セルを補償できる。また、液晶性化合物を配向固定化して作製された位相差板においては、配向した液晶性化合物の配向角度（チルト角、平均チルト角）によってレターデーションＲｅが変化するため、その配向角度を制御する必要がある。

しかしながら、例えば、ヘテロ環基の置換した３置換ベンゼン型のディスコティック液晶性化合物の場合、配向角度を制御するのが困難であり、特に、低いチルト角でハイブリッド配向させることが困難であったことから、ディスコティック液晶性化合物の配向角度を所望の角度に低下することができる配向制御剤が望まれていた。

一方、液晶性化合物に、特定の配向制御剤または配向促進剤を添加する例が開示されているが、３置換ベンゼン型の液晶性化合物に対する効果は明示されていない。また従来の配向制御剤や配向促進剤では配向角度を所望の角度に制御するのには不十分であった（特許文献２）。

さらに、配向角度の制御に関し、特に、重合時の温度が変化しても配向角度の変化が小さいことが望まれているが、これまでは配向角度の温度依存性が大きく、その改善が望まれていた。

特開平８−５０２０６号公報 特開２００２−１２９１６２号公報 Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌｓ ａｎｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ，２００１年，３７０巻，３９１頁

本発明は、液晶表示装置の光学補償に寄与する、配向角度が低い光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供することを課題とする。特に、ディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す光学異方性層を、重合時の温度依存性が小さい状態で作製するのに有用な組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板を提供することを課題とする。

上記課題のもと、発明者が鋭意検討を行った結果、下記手段により上記課題を解決しうることを見出した。
（１）少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物を含有する組成物。

（一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）中、Ｍ¹¹、Ｍ²¹、Ｍ³¹、Ｍ¹²、Ｍ²²、Ｍ³²はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³はそれぞれ独立に一般式（Ｂ）を表す。）

（一般式（Ｂ）中、Ｂ¹¹、Ｂ¹²、Ｂ¹³、Ｂ¹⁴は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｂ¹¹、Ｂ¹²、Ｂ¹³、Ｂ¹⁴のうち２つが互いに連結して環を形成していてもよい。）
（２）一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）において、Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³が、それぞれ独立に一般式（Ｂ−１）で表される、（１）に記載の組成物。

（一般式（Ｂ−１）中、Ｂ¹⁵は、置換基を表し、ｎ１１は０〜６の整数を表す。ｎ１１が２以上のとき、それぞれのＢ¹⁵は同じであっても異なっていてもよい。）
（３）一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）において、−Ｍ¹¹−Ｋ¹−Ｍ¹²−、−Ｍ²¹−Ｋ²−Ｍ²²−、−Ｍ³¹−Ｋ³−Ｍ³²−がそれぞれ独立に一般式（Ｂ−２）で表される、（１に記載の組成物。

（一般式（Ｂ−２）中、Ｂ¹⁶は、置換基を表し、ｎ１２は０〜６の整数を表す。ｎ１２が２以上の時、それぞれのＢ¹⁶は同じであっても異なっていてもよい。）
（４）前記液晶性化合物が、一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物である、（１）〜（３）のいずれか１項に記載の組成物。

（一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。）

（一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹、ＹＡ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）

（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹、ＹＢ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²またはＨ³に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合または二価の連結基を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状連結基を表す。ｎ１は０〜４の整数を表す。Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ¹は重合性基または水素原子を表す。）
（５）前記液晶性化合物が、一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物、または、一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物である、（１）〜（３）のいずれか１項に記載の組成物。

（一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）

（一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。Ｆ²は、６員環構造を有する二価の環状基を表す。ｎ３は、１〜３整数を表す。Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ³は重合性基または水素原子を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。）
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）

（一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁴¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ⁴²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁴は、重合性基または水素原子を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵、Ａ⁵⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁵¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ⁵²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁵は重合性基または水素原子を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵、Ａ⁶⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチンまたはイミノを表し、Ｌ⁶¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ⁶²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁶は重合性基または水素原子を表す。）
（６）支持体の上に、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の組成物から形成されてなる光学異方性層を有する位相差板。
（７）さらに、配向膜を有し、該配向膜がポリビニルアルコール類を含む、（６）に記載の位相差板。
（８）前記光学異方性層がハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物から形成される（６）または（７）に記載の位相差板。
（９）（６）〜（８）のいずれか１項に記載の位相差板と、偏光膜とを有する楕円偏光板。
（１０）（６）〜（８）のいずれか１項に記載の位相差板を有する液晶表示装置。
（１１）下記一般式（Ｅ−１）または（Ｅ−２）で表される化合物。

（一般式（Ｅ−１）および一般式（Ｅ−２）中、R⁰¹、R⁰²、R⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。B¹⁶は、置換基を表し、ｎ１２は０〜６の整数を表す。ｎ１２が２以上の時、複数のB¹⁶は同じであっても異なっていても良い。）

本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与する、配向角度が低い光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供することができる。本発明によれば、特に、ディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す光学異方性層を、重合時の温度依存性なく（または軽減して）作製するのに有用な組成物を提供することができる。また、本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板を提供することができる。

発明の実施の形態

以下、本発明について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
まず、本明細書における、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、チルト角および平均チルト角の詳細について以下に記す。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。

また、本明細書において、光学異方性層中のディスコティック液晶性化合物の平均チルト角とは、光学異方性層の一方の面（本発明の位相差板においては配向膜表面）と光学異方性中のディスコティック液晶性化合物の分子の物理的な対象軸とのなす角度をチルト角θ１、および、他方の面（本発明の位相差板においては空気界面）とのなす角度をチルト角θ２とし、その平均値（（θ１＋θ２）／２）として定義する。しかしながら、θ１および他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１およびθ２は、以下の手法で算出する。本手法は実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層はディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（ディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定および計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨおよびＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０およびＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、および多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１および他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１およびθ２を算出する。
ここで、ｎｏおよびｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定することができる。

本発明の組成物は、以下に詳細を示す本発明の一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物を少なくとも１種と、液晶性化合物を少なくとも１種含む。
本発明の位相差板は、本発明の組成物から形成されてなる光学異方性層を含有する。特に、本発明の組成物に含まれる液晶性化合物としてディスコティック液晶性化合物が好ましく、ディスコティック液晶性化合物としては、以下に詳細を示す一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物がより好ましい。また、本発明の組成物中には、前記の化合物以外にも重合開始剤や配向制御剤等の添加剤が含有されていることが好ましい。
さらに、本発明の位相差板は、支持体上に設けられた配向膜上に上記光学異方性層が形成された形態であることが好ましい。
以下、本発明の組成物に含有される一般式（Ａ−１）もしくは（Ａ−２）で表される化合物、液晶性化合物、および他の好ましく用いられる添加剤ついて順次説明する。さらに、本発明の位相差板に好適に用いられる配向膜や支持体についても順次説明する。

１．組成物
（１）一般式（Ａ−１）またはは（Ａ−２）で表される化合物

一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）中、Ｍ¹¹、Ｍ²¹、Ｍ³¹、Ｍ¹²、Ｍ²²、Ｍ³²はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基の例としては、後述するＲ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³が有していてもよい置換基として例示したものが好ましい例として挙げられる。但し、置換基で置き換わっていない方が好ましい。
Ｍ¹¹、Ｍ²¹、Ｍ³¹、Ｍ¹²、Ｍ²²、Ｍ³²は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−および−ＣＨ₂−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であり、より好ましくは、好ましくは、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−および−ＮＨ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であり、さらに好ましくは、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−である。

一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）中、Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³である脂肪族炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１〜５０であり、より好ましくは４〜４０であり、さらに好ましくは６〜３０である。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましい。

Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³が有してもよい置換基としては、アルキル基（直鎖または分岐鎖の置換または無置換のアルキル基をいい、好ましくは炭素原子数１〜５０のアルキル基、より好ましくは炭素原子数１〜１８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜５０の置換または無置換のアルケニル基、より好ましくは２〜１８の置換または無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜５０の置換または無置換のアルキニル基、より好ましくは２〜１８の置換または無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル基）、シクロアルキル基（好ましくは炭素原子数３〜５０の置換または無置換のシクロアルキル基、より好ましくは３〜１８の置換または無置換のシクロアルキル基であり、例えば、シクロヘキシル基）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜５０の置換または無置換アリール基、より好ましくは６〜２５の置換または無置換アリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基）、

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアシルアミノ基、より好ましくは１〜１８のアシルアミノ基であり、例えば、アセチルアミノ基、ブタノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基、ピコリノイルアミノ基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアシル基、より好ましくは１〜１８のアシル基であり、例えば、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、テトラデカノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜５０のアリールオキシカルボニル基、より好ましくは７〜２５のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜５０のカルバモイル基、より好ましくは１〜１８のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メシルカルバモイル基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素原子数１〜５０のカルバモイルオキシ基、より好ましくは１〜１８のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基）、カルボンアミド基（好ましくは炭素原子数１〜５０のカルボンアミド基、より好ましくは１〜１８のカルボンアミド基で、例えば、ホルムアミド基、Ｎ−メチルアセトアミド基、アセトアミド基、Ｎ−メチルホルムアミド基、ベンツアミド基）、スルホンアミド基（好ましくは炭素原子数１〜５０のスルホンアミド基、より好ましくは１〜１８のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド基、ドデカンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアルコキシ基、より好ましくは１〜１８のアルコキシ基で、例えば、メトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、２−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜５０のアリールオキシ基、より好ましくは６〜２５のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、ナフトキシ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜５０のスルファモイル基、より好ましくは０〜２５のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（４―メトキシフェニル）スルファモイル基）、

アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜５０のアルコキシカルボニル基、より好ましくは２〜１８のアルコキシカルボニル基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基）、Ｎ−アシルスルファモイル基（好ましくは炭素原子数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基、より好ましくは１〜１８のＮ−アシルスルファモイル基で、例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアルキルスルホニル基、より好ましくは１〜１８のアルキルスルホニル基で、例えば、メタンスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２−メトキシエチルスルホニル基、２−ヘキシルデシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素原子数６〜５０のアリールスルホニル基、より好ましくは６〜２５のアリールスルホニル基で、例えば、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜５０のアルコキシカルボニルアミノ基、より好ましくは２〜１８のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、エトキシカルボニルアミノ基、イソプロピルオキシカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基、より好ましくは７〜２５のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ナフトキシカルボニルアミノ基）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜５０のアミノ基、より好ましくは０〜１８のアミノ基で、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、アニリノ基）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアルキルスルフィニル基、より好ましくは１〜１８のアルキルスルフィニル基で、例えば、メタンスルフィニル基、オクタンスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素原子数６〜５０のアリールスルフィニル基、より好ましくは６〜２５のアリールスルフィニル基で、例えば、ベンゼンスルフィニル基、４−クロロフェニルスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアルキルチオ基、より好ましくは１〜１８のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ基、オクチルチオ基、シクロヘキシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜５０のアリールチオ基、より好ましくは６〜２５のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜５０のウレイド基、より好ましくは１〜１８のウレイド基で、例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジフェニルウレイド基）、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数２〜５０のヘテロ環基、より好ましくは２〜２５のヘテロ環基で、ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリル基、２−ピラニル基、２−ピリジル基、２−チエニル基、２−イミダゾリル基、モルホリノ基、２−キノリル基、２−ベンツイミダゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ベンゾオキサゾリル基、２−キナゾリノン−３−イル基、１，１−ジオキソ−１，２，４−ベンゾチアジアジン−３−イル基など）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素原子数０〜５０のスルファモイルアミノ基、より好ましくは０〜１８のスルファモイルアミノ基で、例えば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ基、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ基）、シリル基（好ましくは炭素原子数３〜５０のシリル基で、例えば、トリメチルシリル基、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリフェニルシリル基）、ホスホニル基（好ましくは炭素原子数１〜５０のホスホニル基、より好ましくは１〜１８のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル基、オクチルオキシホスホニル基、フェニルホスホニル基）、アゾ基（好ましくは炭素原子数１〜５０のアゾ基、より好ましくは１〜１８のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ基）、イミド基（好ましくは炭素原子数１〜５０のイミド基、より好ましくは１〜１８のイミド基で、例えば、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）等が挙げられる。

一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）中、Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³は、好ましくは炭素原子数１０〜３０の無置換の直鎖もしくは分岐の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０のフッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは炭素原子数１０〜１９の無置換の直鎖もしくは分岐の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜１１のフッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素原子数８〜１０のフッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基である。

一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）中、Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³はそれぞれ独立に下記一般式（Ｂ）を表す。

一般式（Ｂ）中、Ｂ¹¹、Ｂ¹²、Ｂ¹³、Ｂ¹⁴は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｂ¹¹、Ｂ¹²、Ｂ¹³、Ｂ¹⁴のうち２つが互いに連結して環を形成していてもよい。
置換基は、前記Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³が有していてもよい置換基として挙げた例が好ましい例として挙げられる。これらの置換基同士が環を形成する場合、４〜８員環の脂環式の環、または、４〜８員環のヘテロ原子（窒素、酸素、硫黄等）を含む環である。該環は、飽和または、不飽和または芳香族性のいずれであってもよい。具体的には、ベンゼン環、シクロヘキサン環、ピリジン環等が挙げられる。

一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）において、好ましくは、Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³は、それぞれ独立に下記一般式（Ｂ−１）で表される。尚、一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物を２種類以上含有する場合、そのうちの１種のみが該要件を満たしていればよいが、２種類以上が該要件を満たしていることが好ましい。

一般式（Ｂ−１）中、Ｂ¹⁵は、置換基を表す。置換基の例としては前記Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³が有していてもよい置換基として挙げた例が好ましい例として挙げられる。ｎ１１は０〜６の整数を表し、０〜３の整数が好ましく、０、１または２がより好ましい。ｎ１１が２以上のとき、それぞれのＢ¹⁵は同じであっても異なっていてもよい。

一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）において、より好ましくは、−Ｍ¹¹−Ｋ¹−Ｍ¹²−、−Ｍ²¹−Ｋ²−Ｍ²²−、−Ｍ³¹−Ｋ³−Ｍ³²−がそれぞれ独立に一般式（Ｂ−２）で表される。

一般式（Ｂ−２）中、Ｂ¹⁶は、置換基を表す。
置換基の例としては前記Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³が有していてもよい置換基として挙げた例が好ましい例として挙げられる。
ｎ１２は０〜６の整数を表し、０〜３の整数が好ましく、０、１または２がより好ましい。ｎ１２が２以上の時、それぞれのＢ¹⁶は同じであっても異なっていてもよい。

本発明の組成物中における、一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）で表される化合物の含量は、液晶性化合物に対して、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜１質量％がさらに好ましい。

本発明の組成物においては、一般式（Ａ−１）で表される化合物の方が一般式（Ａ−２）で表される化合物よりもより好ましい。

本発明の組成物に含有される一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物として好ましい具体例を以下に示すが、本発明は以下に限定されるものではない。

本発明の一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物は、既知の方法を適用して容易に得ることができる。

さらに、上記一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物のうち、下記一般式（Ｅ−１）または一般式（Ｅ−２）で表される化合物について説明する。

（一般式（Ｅ−１）および一般式（Ｅ−２）中、R⁰¹、R⁰²、R⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。B¹⁶は、置換基を表し、ｎ１２は０〜６の整数を表す。ｎ１２が２以上の時、複数のB¹⁶は同じであっても異なっていても良い。）

一般式（Ｅ−１）および一般式（Ｅ−２）中、R⁰¹、R⁰²、R⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。R⁰¹、R⁰²、R⁰³はそれぞれ独立に一般式（Ａ−１）および（Ａ−２）中のR⁰¹、R⁰²、R⁰³と同義であり、好ましい範囲も同義である。
B¹⁶は、置換基を表し、上記一般式（Ｂ−２）におけるB¹⁶と同義であり、好ましい範囲も同義である。
ｎ１２は、上記一般式（Ｂ−２）におけるｎ１２と同義であり、好ましい範囲も同義である。
一般式（Ｅ−１）または（Ｅ−２）で表される化合物の好ましい具体例としては、上記一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物として好ましい具体例として示されたもののうち、一般式（Ｅ−１）または（Ｅ−２）で表される化合物に該当するものが好ましい例として挙げられる。

（２）液晶性化合物
本発明で用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が好ましく、ディスコティック液晶性化合物がより好ましい。液晶性化合物は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。

棒状液晶性化合物としては、重合性基が置換した重合性棒状液晶性化合物が好ましく、重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号パンフレット、国際公開ＷＯ９５／２４４５５号パンフレット、国際公開ＷＯ９７／００６００号パンフレット、国際公開ＷＯ９８／２３５８０号パンフレット、国際公開ＷＯ９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、特開平６−１６６１６号公報、特開平７−１１０４６９号公報、特開平１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。

ディスコティック液晶性化合物としては、様々な文献（Ｃ． Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入した化合物が好ましい。

本発明に用いられるディスコティック液晶性化合物として好ましくは、特開平８−２７２８４号公報に記載されているような少なくとも一つの重合性基が置換したトリフェニレン化合物、または、下記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物が好ましく、下記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物がさらに好ましい。

［一般式（ＤＩ）で表される化合物］
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）表される液晶性化合物は、ディスコティック液晶性を示すことが好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示すことが好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましい。

Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。前記二価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、二価の環状基およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³が二価の環状基の場合、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環および複素環を含んでいるのが好ましい。

前記二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²またはＬ³で表される前記二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が２〜１６のアルケニル基、炭素原子数が２〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。

Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−二価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−二価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−または＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³を含む６員環に結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ）中、Ｈ¹、Ｈ²およびＨ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。

一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹およびＹＡ²はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。ＹＡ¹およびＹＡ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。ＸＡは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹およびＹＢ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＹＢ¹およびＹＢ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。ＸＢは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹

一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²またはＨ³に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合または二価の連結基を表す。Ｌ²¹が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｌ²¹は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²¹の左側を表す）が好ましく、単結合がより好ましい。

Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状連結基を表す。二価の環状連結基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。

二価の環状連結基のうち、ベンゼン環を有する環状連結基としては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状連結基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状連結基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状連結基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状連結基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。二価の環状連結基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレンナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

二価の環状連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。二価の環状連結基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。

ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１または２が好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²が直接、前記一般式（Ｄ１）中のＨ¹〜Ｈ³と結合する。ｎ１が２以上の場合、それぞれの−Ｌ²¹−Ｆ¹は同一でも異なっていてもよい。

Ｌ²²は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ²²は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＨ₂−である。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができる。すなわち、一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物を含む組成物を塗布液とする場合に好ましい。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる２価の連結基であることが好ましい。Ｌ²³は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ²³は−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがより好ましい。

Ｑ¹は重合性基または水素原子である。一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物を、光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないことを必要とする光学フィルム等の作製に用いる場合には、Ｑ¹は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。

重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。

式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。

開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。

本発明で用いる液晶性化合物は、下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物または下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物であることがより好ましい。

一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｙ³¹、Ｙ³²およびＹ³³は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³の定義とそれぞれ同一であり、好ましい範囲も同義である。

Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ａ³¹およびＡ³²としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることが最も好ましい。
Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。Ｘ³としては、酸素原子であることが好ましい。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ²は６員環状構造を有する二価の環状基を表す。該二価の環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。前記環状連結基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環アントラセン環およびフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。

二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基および１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基およびナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。二価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。二価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。

ｎ３は、１〜３整数を表す。ｎ３としては、１または２が好ましい。ｎ３が２以上の場合、それぞれＦ²は同一でも異なっていてもよい。

Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ³¹の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²と同一である。

Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³²の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²³と同一である。

Ｑ³は重合性基または水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。

次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。

一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基が特に好ましい。
Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。

Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）または一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表されるものが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表されるものがより好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ａ⁴¹およびＡ⁴²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵およびＡ⁴⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵およびＡ⁴⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有する置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵およびＡ⁵⁶はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ⁵¹およびＡ⁵²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵およびＡ⁵⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵およびＡ⁵⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵およびＡ⁶⁶はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ⁶¹およびＡ⁶²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵およびＡ⁶⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵およびＡ³⁶がそれぞれメチンの場合、該メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶¹はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＨ₂−である。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

Ｌ⁴²、Ｌ⁵²およびＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個含有することがより好ましい。さらに、Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ⁴、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ⁵および一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ⁶は、それぞれ独立して、重合性基または水素原子を表す。これらの好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。

以下に、一般式（ＤＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明で用いる液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が好ましい。

前記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましい。さらに好ましくは４０℃〜２８０℃であり、最も好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。

本発明に用いられる一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。

［位相差板］
本発明の位相差板は、本発明の組成物から形成されてなる光学異方性層を有する。本発明の位相差板の一態様は、支持体と、該支持体上に形成された配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された本発明の組成物からなる光学異方性層とを有する態様である。
以下に、光学異方性層、配向膜および支持体について順次詳細に説明する。

（１）光学異方性層
本発明の光学異方性層は、液晶性化合物および一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物を含む組成物からなる。前記光学異方性層は、この他にも所望により重合性開始剤や他の添加剤を含んでいてもよい。これらを含む塗布液を、例えば支持体上に形成された本発明の配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成することができる。液晶性化合物を配向および固定化した後は、支持体および配向膜を剥離してもよい。

（１）−ａ 形成方法
前記光学異方性層は、前記液晶性化合物および一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物を可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液（本発明の組成物）を、支持体上に形成された配向膜上に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着による形成でもよいが、塗布による形成が好適に用いられる。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、液晶性化合物の分子を配向させ、さらに、紫外線照射等によって固定化することによって、光学異方性層が形成される。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、その用途や最適なレターデーションの値によって異なるが、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

液晶性化合物は、光学異方性層中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。

光学異方性層中における、一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物または該液晶性化合物から得られる重合物の割合は、１０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９質量％であることがさらに好ましく、５０〜９９質量％であることが特に好ましい。

（１）−ｂ 光学異方性層の形成に用いられるその他の材料
本発明の組成物は、液晶性化合物、一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物の他、他の材料（成分）を添加してもよい。添加剤としては、例えば、重合開始剤、液晶性化合物の配向状態を制御する添加剤（例えば、オニウム塩、および空気界面垂直配向剤等）、重合開始剤、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等が挙げられる。これらの材料は、種々の目的、例えば、配向の固定化、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性の向上等を目的として添加される。これらの材料は、併用する液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。

重合開始剤としては、熱重合開始剤および光重合開始剤のいずれを用いてもよいが、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

配向制御剤としては、例えば、特開２００２−３７７７７号公報等に記載のオニウム塩、特開２００５−１９６０１５号公報または特開２００５−１９６０１５号公報に記載のオニウム塩、カルボキシル基およびスルホ基等を有する共重合成分を含有した含フッ素ポリマー等が挙げられる。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％であり、５〜３０質量％の範囲であることが好ましい。

界面活性剤は、従来公知のものを広く採用することができ、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載の化合物が挙げられる。

液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。このようなポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］に記載のものが挙げられる。上記ポリマーの添加量は、液晶性化合物の配向が阻害されにくい範囲であることが好ましく、通常、液晶性化合物に対して１０質量％以下であることがより好ましく、８質量％以下であることがさらに好ましい。下限値は特に定めるものではないが、例えば、０．１質量％以上である。

本発明の組成物（塗布液）中の、液晶性化合物、一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物、およびその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。また、組成物（塗布液）の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐがより好ましい。

（１）−ｃ 配向状態
本発明の光学異方性層は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような液晶表示モードの位相差板として使用する場合においては、ディスコティックネマチック相がハイブリッド配向した状態を固定化することが好ましい。ここで、ハイブリッド配向とは、膜厚方向で液晶性化合物のチルト角が連続的に変化している状態を表す。

液晶性化合物は支持体上（さらに好ましくは配向膜上）に塗布された後、例えば加熱することで液晶相を発現するため、液晶性化合物は支持体側の界面では支持体面または塗布膜界面（配向膜を設けた場合には配向膜界面）のチルト角（例えば、支持体面の方向とディスコティック液晶性化合物の円盤面方向のなす角）で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向することとなる。
本発明において、光学異方性層の平均チルト角（支持体面の方向とディスコティック液晶性化合物の円盤面方向のなす角）は、１０〜７０°が好ましく、１５〜４０°がより好ましく、２０〜３２°がさらに好ましい。
また、それぞれの界面におけるチルト角は、空気界面のチルト角が０〜５０°且つ支持体側界面のチルト角が２０〜９０°の組み合わせ、または、支持体側界面のチルト角が０〜５０°且つ空気界面のチルト角が２０〜９０°の組み合わせが好ましい。特に、空気界面のチルト角が０〜４０°且つ支持体側界面のチルト角が４０〜８０°の組み合わせ、または、支持体側界面のチルト角が０〜４０°、且つ空気界面のチルト角が４０〜８０°の組み合わせが好ましい。

（２）配向膜
本発明の位相差板の作製には配向膜を用いてもよい。配向膜は、化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、またはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性化合物を配向させる機能のある分子構造を有する。本発明では、液晶性化合物を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、または、液晶性化合物を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。

ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール類）、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性化合物の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素原子数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ基、ジアルコキシ基、モノアルコキシ基）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、位相差板の強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］に記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］に記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、または高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、必要であればラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノールが０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍであることが好ましい。乾燥は、例えば、２０度〜１１０度で行なうことができる。乾燥は、より充分な架橋を形成する観点からは、６０度〜１００度が好ましく、８０度〜１００度がより好ましい。乾燥時間は例えば１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、例えば、架橋剤としてグルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

配向膜は、支持体上または支持体上に設けられた下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、必要であれば表面をラビング処理することにより得ることができる。

ラビング処理は、液晶表示装置（ＬＣＤ）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

配向膜上で液晶性化合物を配向させた後、必要に応じて、配向膜に含まれるポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させてもよい。配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

前記配向膜形成用塗布液の調製に用いられる溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が挙げられるが、好ましくは、水、アルコール類およびこれらの混合溶媒である。前記塗布液中の配向膜用ポリマーの濃度は、０．１質量％〜４０質量％であるのが好ましく、０．５質量％〜２０質量％であるのがより好ましく、２質量％〜１０質量％であるのがさらに好ましい。前記塗布液の粘度は、０．１ｃｐ〜１００ｃｐであるのが好ましく、０．５ｃｐ〜５０ｃｐであるのがより好ましい。

前記塗布液中には、前記配向膜用ポリマー以外にも、適宜添加剤を添加してもよい。例えば、前記配向膜用ポリマーが水溶性の溶媒に溶解し難い場合は、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸等）を添加して溶解を促進してもよい。

（３）支持体
位相差板は、支持体を有していてもよく、該支持体は、透明支持体であるのが好ましい。前記支持体は、主に、光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２、３、４であることが好ましい。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネートまたはセルロースブチレートが挙げられる。この中でも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。

以下、支持体として好ましく使用されるセルロースエステルについて詳述する。
セルロースエステルとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０〜４０％でアシル基で置換されていることが好ましく、さらには３１％以上、特に３２％以上で置換されていることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素原子数３以上のアシル基（例えば、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号[００４３]〜[００４４]に記載の合成例１、段落番号[００４８]〜[００４９]に記載の合成例２、段落番号[００５１]〜[００５２]に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。

支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアセテートフィルムは、レターデーション値を調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用してもよい。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。さらに、レターデーション上昇剤として、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
ここでいう芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環の他、芳香族性ヘテロ環を含む趣旨である。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。

芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤については国際公ＷＯ第０１／８８５７４号公報パンフレット、国際公開ＷＯ００／２６１９号パンフレット、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００２−３６３３４３号公報等に記載されている。

セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、特公昭４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、特開昭６０−２０３４３０号、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

ドープは、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解する。セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし、地球環境や作業環境の観点では、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、例えば、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。

調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。

セルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーション値を調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明で用いるセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。

セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびｏ−アセチルクエン酸、トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１５質量％であることがさらに好ましい。

セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン類）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、特開平５−１９０７０７３号、特開平５−１９４７８９号、特開平５−２７１４７１号、特開平６−１０７８５４号の各公報に記載がある。
劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量を０．０１質量％以上とすることにより、劣化防止剤の効果がより顕著になる傾向がある。添加量を１質量％以下とすることにより、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）をより効果的に抑止できる。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。

セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。

セルロースアセテートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温（例えば、２５℃）〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

また、セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
セルロースアセテートフィルムの厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が最も好ましい。

位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、および半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、位相差板を利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。

［楕円偏光板］
位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。

偏光膜は、位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に保護膜を形成することが好ましい。保護膜は、光透過率が８０％以上の透明保護膜が好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがより好ましい。

［液晶表示装置］
本発明の位相差板は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する。液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光素子および位相差板（光学補償シート）を有する。前記偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなり、偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光板で説明したものを用いることができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＤＣモードの液晶セル用位相差板は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、米国特許第５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。

本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＤＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Lｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の光学補償に特に効果がある。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

合成例１［Ｄ３−１０の合成］
下記スキームに従って合成した。

（Ｄ３−１０Ａの合成）
３−シアノ安息香酸クロライド２．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌに溶解させ、３−クロロ−１−プロパノール１．３ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）３．０ｍｌを添加後、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧濃縮した。残渣をメタノール（ＭｅＯＨ）１００ｍｌに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２．８ｍｌを添加後、４０℃で１時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾別、乾燥し、Ｄ３−１０Ａを３．４ｇ得た。

（Ｄ３−１０Ｂの合成）
Ｄ３−１０Ａ３．４ｇをジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１０ｍｌに溶解させ、ピリジン１．２ｍｌ、トリメシン酸クロライド１．２ｇを添加後、１２０℃で１時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取、乾燥し、Ｄ３−１０Ｂを３．９ｇ得た。

（Ｄ３−１０の合成）
Ｄ３−１０Ｂ３．９ｇをジメチルアセトアミド５０ｍｌに溶解させ、炭酸カリウム３．７ｇ、ヨウ化ナトリウム２．０ｇ、アクリル酸１．９ｍｌを添加後、１００℃で３時間撹拌した。反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ３−１０を３．０ｇ得た。得られたＤ３−１０のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：２．３０（６Ｈ、ｑｕｉｎｔ）、４．４０（６Ｈ、ｔ）、４．５５（６Ｈ、ｔ）、５．８５（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４５（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。

得られたＤ３−１０の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき１１５℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１７８℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１０は１１５℃から１７８℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。

合成例２［Ｄ３−１２の合成］
合成例１の３−クロロ−１−プロパノールを５−クロロ−１−ペンタノールに変え、後は合成例１と同様の方法で合成を行い、Ｄ３−１２を３．５ｇ得た。得られたＤ３−１２のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．６０（６Ｈ、ｍ）、１．８０−１．９０（１２Ｈ、ｍ）、４．２５（６Ｈ、ｔ）、４．４５（６Ｈ、ｔ）、５．８０（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４０（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）

得られたＤ３−１２の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき８６℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１４２℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１２は８６℃から１４２℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。

合成例３［Ａ−４の合成］
下記スキームに従って合成した。

（Ａ−４Ａの合成）
２，３−ナフタレンジカルボン酸無水物９．９ｇ、２−（パーフルオロヘキシル）エタノール１７．５ｇ、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）３．０ｇをピリジン５０ｍｌ中に添加し、７０℃で３時間攪拌した。水１０ｍｌを添加し４０℃で３０分間攪拌した後、塩酸５０ｍｌを添加し酢酸エチルで抽出した。希塩酸水、重曹水、希塩酸水、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後減圧濃縮し、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から晶析し、化合物Ａ−４Ａを１４．９ｇ得た。

（Ａ−４の合成）
メタンスルホニルクロライド１．８３ｇをＴＨＦ２０ｍｌに溶解し、氷−メタノールで冷却しながら、９．００ｇの化合物Ａ−４Ａ、およびジイソプロピルエチルアミン（ＮＥｔｉＰｒ₂）２．９３ｍｌをＴＨＦ２０ｍｌに溶解した溶液を−５〜０℃にて攪拌しながら３０分で滴下した。０℃で１時間攪拌後、ジイソプロピルエチルアミン２．９３ｍｌ、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン０．５０ｇ、ＤＭＡＰ０．４５ｇを添加し室温で１時間、５０℃で１時間半攪拌した。水５ｍｌを添加して４０℃で１時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出し、重曹水、希塩酸水、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後減圧濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製を行った。酢酸エチル、イソプロパノール混合溶媒から晶析し、Ａ−４を４．９９ｇ得た。得られたＡ−４のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：８．３５（２Ｈ、ｓ）、８．２８（１Ｈ、ｓ）、８．２０（２Ｈ、ｓ）、８．０６（１Ｈ、ｓ）、７．８７（２Ｈ、ｄ）、７．８０（１Ｈ、ｄ）、７．６８〜７．２８（１２Ｈ、ｍ）、４．６０（４Ｈ、ｔ）、４．２２（２Ｈ、ｔ）、２．６７〜２．４４（４Ｈ、ｍ）、２．４０〜２．１５（２Ｈ、ｍ）

合成例４［Ａ−１８の合成］
合成例３の１，２，３−トリヒドロキシベンゼンを１，２，４−トリヒドロキシベンゼンに変え、後は合成例３と同様の方法で合成を行い、Ａ−１８を３．７ｇ得た。得られたＡ−１８のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：８．４９（１Ｈ、ｓ）、８．３６（１Ｈ、ｓ）、８．２８（２Ｈ、ｓ）、８．２１（２Ｈ、ｓ）、８．０６〜７．９５（２Ｈ、ｍ）、７．８８（２Ｈ、ｄ）、７．７６〜７．３５（１１Ｈ、ｍ）、４．７０（２Ｈ、ｔ）、４．６６〜４．５０（４Ｈ、ｍ）、２．８０〜２．４２（６Ｈ、ｍ）

［実施例１：本発明の組成物（ＬＭ−１）の調製］
以下に示した組成の割合で、本発明の一般式（Ｄ１）で表される液晶性化合物（Ｄ３−１２）、本発明の一般式（Ａ−１）で表される化合物（Ａ−４）（東京化成工業(株)製）、光重合開始剤のイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））、光増感剤のジエチルチオキサントン、および、界面活性剤（Ｗ−１）をそれぞれ秤量し、メチルエチルケトンに溶解して、本発明の組成物（ＬＭ−１）を調製した。

組成物（ＬＭ−１）の組成
・液晶性化合物： Ｄ３−１２ １００質量部
・一般式（Ａ−１）で表される化合物： Ａ−４ ０．２質量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）） ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン １．０質量部
・下記界面活性剤（Ｗ−１） ０．２質量部
・メチルエチルケトン ２５０質量部

［実施例２：本発明の組成物（ＬＭ−２〜ＬＭ−６）の調製］
前記一般式（Ａ−１）で表される化合物（Ａ−４）を下記表２に記載の化合物にそれぞれ変更した以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）と全て同様にして、本発明の組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−４）を調製した。また、液晶性化合物を前記Ｄ３−１２から、下記表２に記載の液晶化合物に変更した以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）と全て同様にして、本発明の組成物（ＬＭ−５）、（ＬＭ−６）を調製した。

［比較例１：比較用組成物（ＬＨ−１〜ＬＨ−３）の調製］
本発明の一般式（Ａ−１）で表される化合物（Ａ−４）を添加しなかった以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）、実施例２の（ＬＭ−５）および（ＬＭ−６）と全て同様にして、比較用組成物をそれぞれ（ＬＨ−１）、（ＬＨ−２）、および（ＬＨ−３）を調製した。

［実施例３：本発明の位相差板（ＲＭ−１）の作製］
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（以下、ドープと呼ぶことがある）を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１） ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２） ０．２質量部
メチレンクロライド ３１０．２５質量部
メタノール ５４．７５質量部
１−ブタノール １０．９５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーション値を波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーション値が４０ｎｍ、面内のレターデーション値が４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。

（第１下塗り層の形成）
上記透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍＤ／ｍ²塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――
第１下塗り層塗布液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
ゼラチン ５．４４質量部
ホルムアルデヒド １．３８質量部
サリチル酸 １．６２質量部
アセトン ３９１質量部
メタノール １５８質量部
メチレンクロライド ４０６質量部
水 １２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――

（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍＤ／ｍ²塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
第２下塗り層塗布液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のアニオン性ポリマー ０．７７質量部
クエン酸モノエチルエステル １０．１質量部
アセトン ２００質量部
メタノール ８７７質量部
水 ４０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍＤ／ｍ²塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バック層塗布液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度５５％のセルロースジアセテート ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ） ０．６５質量部
アセトン ６７９質量部
メタノール １０４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（配向膜の形成）
下記変性ポリビニルアルコールとグルタルアルデヒド（変性ポリビニルアルコールの５質量％）とを、メタノール／水の混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５質量％の溶液を調製した。

この溶液を、第２下塗り層の上に塗布し、１００℃の温風で１２０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い、配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は０．５μｍであった。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。

（光学異方性層の形成）
前記で作製した配向膜のラビング処理面上に、実施例１で調製した本発明の組成物（ＬＭ−１）の塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１１０℃の恒温槽中にて配向させ、２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、本発明の位相差板（ＲＭ−１）を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．０μｍであった。

［実施例４：本発明の位相差板（ＲＭ−２〜ＲＭ−６）の作製］
実施例３において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−６）に変更したこと以外は全て同様にして、本発明の位相差板（ＲＭ−２）〜（ＲＭ−６）を作製した。

［比較例２：比較用位相差板（ＲＨ−１〜ＲＨ−３）の作製］
実施例３において、組成物（ＬＭ−１）を、前記比較用の組成物（ＬＨ−１）〜（ＬＨ−３）に変更したこと以外は全て同様にして、比較用の位相差板（ＲＨ−１）〜（ＲＨ−３）を作製した。

［実施例５：位相差板の評価］
（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
Ｒｅ（５８９ｎｍ）、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）はそれぞれ、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。実施例３、４および比較例２で得られた位相差板のＲｅ（５８９ｎｍ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５８９ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は前記Ｒｅ（５８９ｎｍ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出した。

（平均チルト角の測定）
上記の光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１および他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１およびθ２を算出した。
この値の平均値（（θ１＋θ２）／２）から平均チルト角を求めた。

また、実施例３、４および比較例２で得られた位相差板の断面の超薄切片を、マイクロトームを用いて作製し、その切片を偏光顕微鏡で観察した。本発明の位相差板ＲＭ−１〜ＲＭ−６および比較例２のＲＨ−１〜３の光学異方性層がハイブリッド配向していることが確認できた。

（平均チルト角の温度依存性）
前記光学異方性層の形成において恒温槽の温度を１２０℃に変えた以外は同様にして位相差版を作製して平均チルト角の測定を行い、１２０℃の時と１１０℃の時の平均チルト角の差を平均チルト角温度依存性として以下の表３に記載した。

表３の結果から、本発明の組成物から作製した位相差板（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−６）は、本発明の一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物を含有しないで作製した位相差板（ＲＨ−１）〜（ＲＨ−３）と比較して、平均チルト角が低くかつ温度依存性の少ない位相差板を作製できることがわかる。
これらの結果から、本発明の一般式（Ａ−１）または（Ａ−２）で表される化合物を含有した組成物から作製した位相差板では、温度依存性が少ない状態でディスコティック液晶性化合物をハイブリッド配向させた位相差板を得ることができることがわかる。

Claims (11)

1. 少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の一般式（Ａ−１）または一般式（Ａ−２）で表される化合物を含有する組成物。
   

   

   （一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）中、Ｍ¹¹、Ｍ²¹、Ｍ³¹、Ｍ¹²、Ｍ²²、Ｍ³²はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³はそれぞれ独立に一般式（Ｂ）を表す。）
   

   

   （一般式（Ｂ）中、Ｂ¹¹、Ｂ¹²、Ｂ¹³、Ｂ¹⁴は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｂ¹¹、Ｂ¹²、Ｂ¹³、Ｂ¹⁴のうち２つが互いに連結して環を形成していてもよい。）
2. 一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）において、Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³が、それぞれ独立に一般式（Ｂ−１）で表される、請求項１に記載の組成物。
   

   

   （一般式（Ｂ−１）中、Ｂ¹⁵は、置換基を表し、ｎ１１は０〜６の整数を表す。ｎ１１が２以上のとき、それぞれのＢ¹⁵は同じであっても異なっていてもよい。）
3. 一般式（Ａ−１）および一般式（Ａ−２）において、−Ｍ¹¹−Ｋ¹−Ｍ¹²−、−Ｍ²¹−Ｋ²−Ｍ²²−、−Ｍ³¹−Ｋ³−Ｍ³²−がそれぞれ独立に一般式（Ｂ−２）で表される、請求項１に記載の組成物。
   

   

   （一般式（Ｂ−２）中、Ｂ¹⁶は、置換基を表し、ｎ１２は０〜６の整数を表す。ｎ１２が２以上の時、それぞれのＢ¹⁶は同じであっても異なっていてもよい。）
4. 前記液晶性化合物が、一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
   

   

   （一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を表す。Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。）
   

   

   （一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹、ＹＡ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
   

   

   （一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹、ＹＢ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
   一般式（ＤＩ−Ｒ）
   ＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
   （一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²またはＨ³に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合または二価の連結基を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状連結基を表す。ｎ１は０〜４の整数を表す。Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ¹は重合性基または水素原子を表す。）
5. 前記液晶性化合物が、一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物、または、一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
   

   

   （一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）
   

   

   （一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。Ｆ²は、６員環構造を有する二価の環状基を表す。ｎ３は、１〜３整数を表す。Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ³は重合性基または水素原子を表す。）
   

   

   （一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。）
   一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）
   

   

   （一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁴¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ⁴²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁴は、重合性基または水素原子を表す。）
   

   

   （一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵、Ａ⁵⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁵¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ⁵²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁵は重合性基または水素原子を表す。）
   

   

   （一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵、Ａ⁶⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチンまたはイミノを表し、Ｌ⁶¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ⁶²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁶は重合性基または水素原子を表す。）
6. 支持体の上に、前記請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物から形成されてなる光学異方性層を有する位相差板。
7. さらに、配向膜を有し、該配向膜がポリビニルアルコール類を含む、請求項６に記載の位相差板。
8. 前記光学異方性層がハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物から形成される請求項６または７に記載の位相差板。
9. 請求項６〜８のいずれか１項に記載の位相差板と、偏光膜とを有する楕円偏光板。
10. 請求項６〜８のいずれか１項に記載の位相差板を有する液晶表示装置。
11. 下記一般式（Ｅ−１）または（Ｅ−２）で表される化合物。
    

    

    （一般式（Ｅ−１）および一般式（Ｅ−２）中、R⁰¹、R⁰²、R⁰³はそれぞれ独立に置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基を表す。B¹⁶は、置換基を表し、ｎ１２は０〜６の整数を表す。ｎ１２が２以上の時、複数のB¹⁶は同じであっても異なっていても良い。）