JP2007151489A - マイクロインジェクション装置および接触検出方法 - Google Patents

マイクロインジェクション装置および接触検出方法 Download PDF

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Abstract

【課題】針と基底面の接触を効率よく検出することができるマイクロインジェクション装置および接触検出方法を提供すること。
【解決手段】針122と基底面の角度を一定の角度に保ちながら、針122を一定の距離ずつ一定方向に下降させ、この下降にともなって針122の先端が基底面と水平方向に移動する移動量の変化を観測する。この移動量が、所定の閾値よりも大きく増大した場合、針122と基底面が接触したものと判断でき、また、増大した差分に基づいて針122と基底面の正確な接触位置を求めることもできる。
【選択図】 図1−3

Description

この発明は、基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置および該装置における針と基底面の接触検出方法に関し、特に、針と基底面の接触を効率よく検出することができるマイクロインジェクション装置および接触検出方法に関する。
細胞内に遺伝子を注入することにより細胞の遺伝情報を改変させる研究は、遺伝子の役目を明らかにするとともに、個人の遺伝的特性に合わせた遺伝子治療を行うテーラメード医療を可能にする。かかる研究により、従来は治療ができなかった遺伝的な原因による病気の治療も可能となってきている。
遺伝子を細胞に注入する方式には、電気的な方式(エレクトロポレーション)、化学的な方式(リポフェクション)、生物的な方式(ベクター法)、機械的な方式(マイクロインジェクション)などがある。
上記の方式のうち、電気的な方式は、大電流を流し細胞膜を破るため、細胞に与えるダメージが大きい。化学的な方式は、導入できる遺伝子に制限があり、導入効率が悪い。生物的な方式は、導入できる材料の種類が限られ、安全性が確認できない等の欠点がある。
そこで、現在では、機械的な方式が、最も安全で効率が高い方法として採用されることが多くなっている。特許文献1には、細胞を規則正しく配列させ、マイクロインジェクションを自動的に実行するマイクロインジェクション装置に関する技術が開示されている。
特許第2624719号公報
ところで、マイクロインジェクションは、キャピラリと呼ばれる微細なガラス管からなる針を高速で下降させて細胞に突き刺し、細胞の外皮を破って遺伝子等を注入する方式であるが、シャーレ底面等の基底面上に存在する細胞に遺伝子等を注入するには、針の先端を基底面から数μmの距離まで近付けなければならない。
このため、マイクロインジェクションを行うに当たっては、針をどこまで下降させれば先端が基底面に接触するのかを事前に確認し、その結果に応じて、マイクロインジェクション実行時に針をどこまで下降させるかを調整しなければならない。かかる調整作業は、特許文献1において開示されている技術においても自動化されていないため、現在も人手で行われており、作業の効率化を図る上で大きな障害となっている。
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、針と基底面の接触を効率よく検出することができるマイクロインジェクション装置および接触検出方法を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明は、基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置であって、前記針を所定の方向に所定の距離下降させる針駆動制御手段と、前記針駆動制御手段による下降によって前記針の先端が前記基底面と水平方向に移動する移動量を測定する先端移動量測定手段と、前記先端移動量測定手段により得られる移動量と、前記針を所定の方向に所定の距離下降させた場合の標準的な移動量との差分を求め、この差分が所定の閾値よりも大きい場合に、前記針と前記基底面とが接触していると判定する接触検出手段とを備えたことを特徴とする。
また、本発明は、基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置において前記基底面と前記針の接触を検出する接触検出方法であって、前記針を所定の方向に所定の距離下降させる針駆動制御工程と、前記針駆動制御工程による下降によって前記針の先端が前記基底面と水平方向に移動する移動量を測定する先端移動量測定工程と、前記先端移動量測定工程により得られる移動量と、前記針を所定の方向に所定の距離下降させた場合の標準的な移動量との差分を求め、この差分が所定の閾値よりも大きい場合に、前記針と前記基底面とが接触していると判定する接触検出工程とを含んだことを特徴とする。
この発明によれば、針を一定距離ずつ下降させた場合における先端の移動量を測定し、その測定結果の変化に基づいて針と基底面の接触を判定するように構成したので、接触の検出を自動化し、効率よく実行することができる。
また、本発明は、上記の発明において、前記差分に基づいて、前記針が前記基底面に接触する位置を算定する接触位置算定手段をさらに備えたことを特徴とする。
この発明によれば、先端の移動量を測定結果の変動量に基づいて針と基底面の接触位置を算出するように構成したので、接触位置を正確に求めることができる。
また、本発明は、上記の発明において、前記針駆動制御手段による前記針の下降と連動して、前記基底面を支持するステージを前記針が下降する方向へ水平移動させるステージ駆動制御手段をさらに備えたことを特徴とする。
この発明によれば、針の下降と連動してステージを水平移動させることにより、針にストレスがかかることがないように構成したので、針の欠損を防止できる。また、これにより、針を下降させる速度を高速化することが可能になるので、針と基底面の接触検出を迅速におこなうことができる。
また、本発明は、上記の発明において、前記接触位置算定手段により得られた前記基底面上の3点以上における前記針の先端と前記基底面との接触位置情報基づいて、前記基底面の傾斜を算定する傾斜算定手段をさらに備えたことを特徴とする。
この発明によれば、基底面の傾きを正確に算定することができるので、基底面に傾きがある場合であってもインジェクションを行う位置に応じて針を下降させる量を適切に調整することができる。
本発明によれば、針を一定距離ずつ下降させた場合における先端の移動量を測定し、その測定結果の変化に基づいて針と基底面の接触を判定するように構成したので、接触の検出を自動化し、効率よく実行することができるという効果を奏する。
また、本発明によれば、先端の移動量を測定結果の変動量に基づいて針と基底面の接触位置を算出するように構成したので、接触位置を正確に求めることができるという効果を奏する。
また、本発明によれば、針の下降と連動してステージを水平移動させることにより、針にストレスがかかることがないように構成したので、針の欠損を防止できるという効果を奏する。また、これにより、針を下降させる速度を高速化することが可能になるので、針と基底面の接触検出を迅速におこなうことができるという効果を奏する。
また、本発明によれば、基底面の傾きを正確に算定することができるので、基底面に傾きがある場合であってもインジェクションを行う位置に応じて針を下降させる量を適切に調整することができるという効果を奏する。
以下に添付図面を参照して、本発明に係るマイクロインジェクション装置および接触検出方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。
まず、マイクロインジェクションの概要と従来の接触検出方式について説明する。図8は、付着細胞へのマイクロインジェクションを説明するための説明図である。
同図に示すように、マイクロインジェクションを行う場合、培養液等の液体を満たしたシャーレ200の底面に付着細胞等の細胞が配置される。そして、シャーレ200の下方に配した対物レンズ132によって得られる拡大画像に基づいて針122が細胞へ誘導され、インジェクションが実行される。拡大画像を明瞭にするため、シャーレ200の上方からは照明光源131によって光が照射される。
なお、マイクロインジェクションを行う場合、シャーレの底面上に微細な孔を有するプレートを設け、この微細な孔に細胞を補足した上でインジェクションをおこなう場合もある。以下の説明では、プレートを用いない場合におけるシャーレの底面と、プレートを用いる場合におけるプレートの上面とを共に基底面と称することとする。
付着細胞は、シャーレ200の底面上では、自重によって押しつぶされたような形状となり、数μm程度の厚さしかもたない。このため、付着細胞に針122の先端を突き刺して遺伝子等を注入するには、針122の先端を基底面から1μm程度の距離まで高速に下降させなければならない。
もしも針122の先端と基底面の距離がこれよりも大きいと、針122の先端が付着細胞の外皮を突き破ることができない。逆に、針122の先端が底面に近づきすぎて基底面に接触すると、接触による衝撃によって、図9に示すように針122の先端が欠損してしまう。
そこで、マイクロインジェクションを行うに当たっては、針122をどれだけ下降させれば先端が基底面に接触するかを事前に確認し、その結果に基づいて、針122の下降量を調整することが必要になる。
図10−1は、従来の接触検出方式を説明するための説明図である。同図に示すように、従来は、基底面と接触しても先端が欠損しない程度のゆっくりした速度で針122を下降させつつ、シャーレ200を水平方向に振動させ、針122の先端の動きを対物レンズ132を用いて観察することにより針122基底面の接触を検出していた。
図10−2に示すように、針122の先端は、基底面と接触する前は直線的な動きを示すが、接触後は基底面の振動の影響を受けて曲がったり揺れたりといった動きを示す。この動きの変化を観察することで、どの時点で針122の先端が基底面に接触したのかを判定することができる。
しかしながら、この従来の接触検出方式は、欠損防止のために針122をゆっくりと下降させる必要があり、さらに、目視による観察に基づいて判定をおこなうため、非常に手間と時間がかかるものであった。また、針122の先端と基底面の距離を正確に測定することができないという問題もあった。
次に、本実施例に係る接触検出方式の原理について説明する。図1−1〜1−3は、本実施例に係る接触検出方式の原理を説明するための説明図である。
図1−1に示すように、本実施例に係る接触検出方式では、針122の軸と基底面の角度を一定の角度θに保ちながら、針122を一定の距離ずつ下降させる。なお、ここでは、針122を軸方向に下降させる例を示しているが、下降させる方法は、例えば、基底面に対して直交方向であってもよい。
ここで、針122を軸方向に一定距離Dだけ下降させた場合において針122の先端が基底面と水平方向に移動する量を移動量DXとすると、移動量DXは、D×cosθで求められる一定値であり、DX<Dという大小関係が成り立つ。
針122を下降させ続けると、やがて、図1−2に示すように、針122の先端が基底面に接触することになる。ここで、さらに針122を一定距離Dだけ軸方向に下降させたとすると、針122の先端部は折り曲がり、先端は基底面と水平方向に移動することになる。この場合、移動量DXは、距離Dとほぼ等しい大きさとなり、接触前よりも値が大きくなる。
図1−2の例は、針122の先端が基底面に接触する時点から針122を一定距離Dだけ軸方向に下降させた場合を示しているが、針122を一定距離Dだけ軸方向に下降させる途中で先端が基底面に接触した場合であっても、接触後の針の下降量に応じて、移動量DXは、接触前の値よりも大きくなる。
このように、針122と基底面の角度を一定の角度に保ちながら、針122を一定の距離ずつ一定方向に下降させ、この下降にともなって針122の先端が基底面と水平方向に移動する移動量の変化を観測することにより、針122と基底面の接触を検出することができる。
この方式を用いれば、図1−3に示すように、針122の先端と基底面の距離を正確に求めることもできる。同図に示すように、基底面を貫通したとみなした場合における針122の先端と基底面との距離dは、針の湾曲部分を無視すると、下記の数式1で求めることができる。
Figure 2007151489
ここで、ΔXは、針122の先端が基底面と水平方向に移動する移動量が、
針122と基底面の接触によって増大した差分である。
こうして求めた距離dだけ針122を上方に移動させた位置が、針122の先端が基底面に接触する位置であり、その位置を基準として針122の下降量を調整することで、目的とする対象に応じたインジェクションをおこなうことが可能になる。
なお、上記の説明では、針122を軸方向に下降させる場合を例にして説明したが、基底面に対して直行方向に下降させた場合、針122の先端が基底面と水平方向に移動する移動量は、接触前はほぼ0となり、接触後は針の下降量と同じだけ増大するようになる。
図2−1は、針の先端の移動量の測定方式を説明するための説明図である。同図に示すように、本実施例では、情報処理技術による画像処理を用いて、針122の先端が基底面と水平方向に移動した移動量を測定する。
具体的には、以下の手法によって移動量の測定をおこなう。まず、移動前の針122の先端の画像をシャーレの下部より撮影しておき、これをテンプレート画像する。そして、針122を一定距離下降させるたびに、針122の画像をシャーレの下部より撮影し、撮影した画像とテンプレート画像のマッチングを行い、最も一致する座標を求める。こうして求めた座標と、前回針122を一定距離移動させた際に同様に求めた座標との距離が針122の先端の移動量となる。
現在の技術では、0.3μm/pixel程度の高精細な画像を撮影によって得ることができるため、かかる手法によれば、非常に精密に針の先端の移動量を測定することが可能となり、針122と基底面の距離を正確に算出することができる。また、目視によってではなく、情報処理技術を用いて移動量を測定するため、針122と基底面の接触の検出および距離の測定を自動化することができる。
ここで、この手法を用いて針の先端の移動量を測定した結果の一例を示す。図2−2は、針の先端の移動量の変化の一例を示す図である。同図は、針122を0.2μmずつ下降させ、針122の先端が基底面に接触して折れ曲がるまでの針122の先端の移動量を測定する実験を10回行い、その結果を折れ線グラフで表したものである。
同図では、針122の下降量を横軸にとり、針122の先端の移動量の標準値との差分を縦軸にとっている。同図を見れば明らかなように、針122の先端の移動量の差分は、針122がある位置まで下降する地点を境にして急激に増大し、この時点で基底面との接触が生じたことが分かる。
針122の先端の移動量の標準値との差分は、針122の先端が基底面に接触するまで±0.2〜0.3μm程度の範囲内で推移しており、この範囲の3倍の変動量を閾値とすると、0.8μm程度の移動量の変動によって基底面との接触を検出することができることとなる。
このように、早期に針122と基底面の接触が検出できると、針122の先端の折れ曲がりが小さい段階で接触の検出が可能となるため、針122の先端が欠損する可能性を小さくすることができる。
ところで、0.1μm程度の精度で見ると、シャーレ200の底面等の基底面は必ずしも平坦ではなく、凹凸が存在する。このため、図3−1に示すように、針122を下降させた際に、先端がこの凹凸によって固定されてしまい、先端部がストレスを受けて欠損する場合がある。
このような事故を防止するため、本実施例に係る接触検出方式においては、針122を下降させるのと同時に、シャーレ200を搭載するステージ110を水平に移動させる。図3−2に示すように、針122の下降速度Vの水平方向成分をVXとし、ステージ110を針122の下降方向に向けて水平に移動させる速度をVSとした場合、VSをVXの2倍以上とすることで針122の先端の欠損が生じなくなることが実験により確認された。
このように、針122の下降に合わせてステージ110を水平に移動させることにより、針122を比較的高速に下降させても先端の欠損が生じなくなる効果も得られ、接触検出作業を迅速化することも可能になる。
次に、本実施例に係るマイクロインジェクション装置の構成について説明する。図4は、本実施例に係るマイクロインジェクション装置の構成を示す機能ブロック図である。同図に示すように、マイクロインジェクション装置100は、ステージ110と、インジェクタ121と、針122と、照明光源131と、対物レンズ132と、反射鏡133と、結像レンズ134と、CCDカメラ(Charge Coupled Devices)135、ユーザインターフェース部140、制御部150、設定記憶部160とを有する。
ステージ110は、水平方向に移動可能なXYステージであり、シャーレ200を搭載する台となる。インジェクタ121は、制御部150の制御に基づいて、針122の上昇/下降や、針122内に充填された遺伝子等の射出を行う装置である。針122は、先端を微細化した中空のガラス針である。
照明光源131は、インジェクション対象を上方から照らすための光源であり、対物レンズ132は、インジェクション対象の拡大画像をシャーレ200の下方から得るためのレンズである。反射鏡133は、対物レンズ132により得られた画像を結像レンズ134へ向けて反射するための鏡であり、結像レンズ134は、画像をCCDカメラ135の映像素子上に結像させるためのレンズである。
CCDカメラ135は、映像素子を用いて光学的な画像を電子的な画像データに変換する装置であり、変換後の電子的な画像を制御部150に送信する。ユーザインターフェース部140は、ユーザから指示等の入力を受け付け、各種情報を表示する装置であり、キーボードやディスプレイ等からなる。
制御部150は、マイクロインジェクション装置100を全体制御する制御部であり、針122と基底面の接触検出の処理やインジェクションの自動実行処理等を行う。設定記憶部160は、制御部150が各種処理を行うために必要な設定情報を記憶する記憶である。
続いて、制御部150の詳細について説明する。図5は、図4に示した制御部150の構成を示す機能ブロック図である。同図に示すように、制御部150は、針駆動制御部151と、ステージ駆動制御部152と、インジェクション実行部153と、接触検出部154と、先端移動量測定部155と、警告部156と、接触位置算定部157と、設定変更部158とを有する。
針駆動制御部151は、インジェクタ121による針122の上昇/下降等を制御する処理部であり、ステージ駆動制御部152は、ステージ110の移動を制御する処理部である。インジェクション実行部153は、CCDカメラ135より送信される画像データを観測しながら、設定記憶部160に記憶されている設定に基づいて針駆動制御部151およびステージ駆動制御部152を制御して、インジェクション処理を自動実行する処理部である。
接触検出部154は、針122と基底面との接触検出処理を行う処理部である。具体的には、針122を所定の速度で所定の距離下降させるように針駆動制御部151に指示し、同時に、針122の欠損を防止するため、ステージ110を所定の速度で移動させるようにステージ駆動制御部152に指示する。これらの速度や距離は、設定記憶部160に記憶されている設定に基づいて決定される。
そして、針122を下降させた結果として先端が基底面と水平方向に移動した移動量を先端移動量測定部155より取得し、これを標準的な移動量と比較して、両者の差が所定の閾値よりも大きければ、針122の先端が基底面に接触したと判定する。両者の差が所定の閾値よりも小さい場合は、再び、針122とステージ110の移動を指示し、先端の移動量の比較を行う。
標準的な移動量と所定の閾値は、設定記憶部160に記憶されている設定に基づいて決定される。なお、標準的な移動量は、接触検出処理を行う前に、実際に測定をおこなって決定するように構成してもよいし、接触検出処理を行いながら動的に決定するように構成してもよい。
先端移動量測定部155は、上述した画像処理を行って、針122の先端が基底面と水平方向に移動した移動量を測定する処理部である。
警告部156は、先端移動量測定部155によって測定された移動量に基づいて針122の異常を検出し、警告する処理部である。具体的には、移動量が所定の閾値(接触検出のための閾値とは別の値)よりも小さい場合には、針122の先端が基底面に固定されてストレスを受けた状態であると判断し、欠損防止のため、針122の下降を中止するように接触検出部154に指示し、ユーザインターフェース部140に警告を表示させる。
また、警告部156は、先端移動量測定部155から画像処理において針122の先端の形状が太く変化したことを検出した旨の通知を受け取った場合は、針122の先端が欠損したものと判断し、針122の下降を中止するように接触検出部154に指示し、ユーザインターフェース部140に欠損警告を表示させる。
接触位置算定部157は、接触検出部154が針122と基底面との接触を検出した場合に、先端移動量測定部155より取得された移動量と標準的な移動量の差分に基づいて、針122が基底面を貫通した場合における針122の先端と基底面の距離を算定する処理部である。この距離の算定には、上記の数式1が用いられる。
そして、接触位置算定部157は、この算定結果に基づいて、針122をどれだけ下降させたら先端が基底面と接触するのかをさらに算出し、その算出結果を設定記憶部160に記憶させる。これらの情報は、インジェクション実行部153によるインジェクション処理において針122の下降量を調整するために利用される。
設定変更部158は、ユーザインターフェース部140を通じて行われたユーザの指示に従って、設定記憶部160の設定を変更する処理部である。接触検出処理を行うに際しては、基底面の素材の種類等に応じて、針122を下降させる距離や速度を変更する必要があり、設定記憶部160には、予め基底面の素材の種類等に応じた適切な設定値が複数パターン登録されている。設定変更部158は、このパターンのいずれを有効とするのかを切り替える処理も行う。
次に、制御部150の処理手順について説明する。図6は、図4に示した制御部150の処理手順を示すフローチャートである。同図は、制御部150が接触検出処理をおこなう場合の処理手順を示している。
接触検出部154の指示に基づいて、針駆動制御部151は、針122を一定距離下降させる(ステップS101)。これと同時に、接触検出部154の指示に基づいて、ステージ駆動制御部152は、ステージ110を所定の速度で移動させる(ステップS102)。
そして、先端移動量測定部155が、針122の先端の移動量を測定し(ステップS103)、接触検出部154が、この移動量と標準的な移動量の差分を閾値と比較する。ここで、差分が閾値よりも大きければ(ステップS104肯定)、接触位置算定部157が、針122の先端と基底面の距離と接触位置を算出し(ステップS108)、算定結果を設定記憶部160に記憶させ(ステップS109)、処理が完了する。
移動量の差分が閾値よりも小さければ(ステップS104否定)、警告部156が、移動量が所定の値よりも小さいかどうかと、針122の先端の形状が太く変化しているかどうかを確認し、いずれか一方でも該当する場合は(ステップS105肯定もしくはステップS106肯定)、警告表示をおこなって処理を中止させる(ステップS107)。いずれにも該当しない場合は(ステップS105否定かつステップS106否定)、ステップS101に復帰する。
ところで、シャーレ200の底面等の基底面に微小な傾きがある場合がある。このような傾きがあると、針122を同じ距離だけ下降させても、基底面の位置によって針122と基底面の距離が異なってしまい、インジェクションを適切に行うことができない。
本実施例に係る接触検出方式を応用すれば、基底面の傾斜を算定することができ、この算定結果に基づいて針122の下降量を基底面の位置によって調整することが可能になる。
図7は、基底面の傾斜を算定する機能を追加した場合の制御部の構成を示す機能ブロック図である。同図に示すように、制御部170は、制御部150に傾斜算定部171を追加した構成となっている。
傾斜算定部171は、基底面の傾斜を算定する処理部である。基底面の傾斜を算定するに当たっては、図6に示した処理手順により、基底面上の異なる3点以上において接触検出処理が行われ、各点における針122の先端と基底面の接触位置の情報が、各点の座標情報と共に設定記憶部160に記憶されていることが前提となり、傾斜算定部171は、これらの情報に基づいて基底面の傾斜を算定する。
上述してきたように、本実施例では、針を一定距離ずつ下降させた場合における先端の移動量を測定し、その測定結果の変化に基づいて針と基底面の接触を判定するように構成したので、接触の検出を自動化し、効率よく実行することができる。
(付記1)基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置であって、
前記針を所定の方向に所定の距離下降させる針駆動制御手段と、
前記針駆動制御手段による下降によって前記針の先端が前記基底面と水平方向に移動する移動量を測定する先端移動量測定手段と、
前記先端移動量測定手段により得られる移動量と、前記針を所定の方向に所定の距離下降させた場合の標準的な移動量との差分を求め、この差分が所定の閾値よりも大きい場合に、前記針と前記基底面とが接触していると判定する接触検出手段と
を備えたことを特徴とするマイクロインジェクション装置。
(付記2)前記差分に基づいて、前記針が前記基底面に接触する位置を算定する接触位置算定手段をさらに備えたことを特徴とする付記1に記載のマイクロインジェクション装置。
(付記3)前記針駆動制御手段による前記針の下降と連動して、前記基底面を支持するステージを前記針が下降する方向へ水平移動させるステージ駆動制御手段をさらに備えたことを特徴とする付記1または2に記載のマイクロインジェクション装置。
(付記4)前記ステージ駆動制御手段は、針駆動制御手段により前記針が下降される速度の水平方向成分の2倍以上の速度で前記ステージを水平移動させることを特徴とする付記3に記載のマイクロインジェクション装置。
(付記5)前記針駆動制御手段は、前記基底面の素材ごとに予め定義された情報を記憶手段より取得して、前記針を下降させる速度を決定することを特徴とする付記1〜4のいずれかひとつに記載のマイクロインジェクション装置。
(付記6)前記針駆動制御手段は、前記基底面の素材ごとに予め定義された情報を記憶手段より取得して、前記針を下降させる距離を決定することを特徴とする付記1〜4のいずれかひとつに記載のマイクロインジェクション装置。
(付記7)前記先端移動量測定手段により得られる移動量が所定の閾値より小さい場合に警告表示を行う警告手段をさらに備えたことを特徴とする付記1〜6のいずれかひとつに記載のマイクロインジェクション装置。
(付記8)前記警告手段は、前記針駆動制御手段による前記針の下降にともなって前記針の先端の形状が太く変化したことが検出された場合に警告表示を行うことを特徴とする付記7に記載のマイクロインジェクション装置。
(付記9)前記接触位置算定手段により得られた前記基底面上の3点以上における前記針の先端と前記基底面との接触位置情報基づいて、前記基底面の傾斜を算定する傾斜算定手段をさらに備えたことを特徴とする付記2〜8のいずれかひとつに記載のマイクロインジェクション装置。
(付記10)基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置において前記基底面と前記針の接触を検出する接触検出方法であって、
前記針を所定の方向に所定の距離下降させる針駆動制御工程と、
前記針駆動制御工程による下降によって前記針の先端が前記基底面と水平方向に移動する移動量を測定する先端移動量測定工程と、
前記先端移動量測定工程により得られる移動量と、前記針を所定の方向に所定の距離下降させた場合の標準的な移動量との差分を求め、この差分が所定の閾値よりも大きい場合に、前記針と前記基底面とが接触していると判定する接触検出工程と
を含んだことを特徴とする接触検出方法。
以上のように、本発明に係るマイクロインジェクション装置および接触検出方法は、針と基底面の接触の検出に有用であり、特に、針と基底面の接触を効率よく検出することが必要な場合に適している。
本実施例に係る接触検出方式の原理を説明するための説明図である。 本実施例に係る接触検出方式の原理を説明するための説明図である。 本実施例に係る接触検出方式の原理を説明するための説明図である。 針の先端の移動量の測定方式を説明するための説明図である。 針の先端の移動量の差分の変化の一例を示す図である。 ストレスを受けて曲がった針を示す図である。 ステージの移動によるストレス解消を説明するための説明図である。 本実施例に係るマイクロインジェクション装置の構成を示す機能ブロック図である。 図4に示した制御部の構成を示す機能ブロック図である。 図4に示した制御部の処理手順を示すフローチャートである。 基底面の傾斜を算定する機能を追加した場合の制御部の構成を示す機能ブロック図である。 付着細胞へのマイクロインジェクションを説明するための説明図である。 接触による針の先端の欠損の一例を示す図である。 従来の接触検出方式を説明するための説明図である。 従来の接触検出方式を説明するための説明図である。
符号の説明
100 マイクロインジェクション装置
110 ステージ
121 インジェクタ
122 針
131 照明光源
132 対物レンズ
133 反射鏡
134 結像レンズ
135 CCDカメラ
140 ユーザインターフェース部
150 制御部
151 針駆動制御部
152 ステージ駆動制御部
153 インジェクション実行部
154 接触検出部
155 先端移動量測定部
156 警告部
157 接触位置算定部
158 設定変更部
160 設定記憶部
170 制御部
171 傾斜算定部
200 シャーレ

Claims (5)

  1. 基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置であって、
    前記針を所定の方向に所定の距離下降させる針駆動制御手段と、
    前記針駆動制御手段による下降によって前記針の先端が前記基底面と水平方向に移動する移動量を測定する先端移動量測定手段と、
    前記先端移動量測定手段により得られる移動量と、前記針を所定の方向に所定の距離下降させた場合の標準的な移動量との差分を求め、この差分が所定の閾値よりも大きい場合に、前記針と前記基底面とが接触していると判定する接触検出手段と
    を備えたことを特徴とするマイクロインジェクション装置。
  2. 前記差分に基づいて、前記針が前記基底面に接触する位置を算定する接触位置算定手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載のマイクロインジェクション装置。
  3. 前記針駆動制御手段による前記針の下降と連動して、前記基底面を支持するステージを前記針が下降する方向へ水平移動させるステージ駆動制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載のマイクロインジェクション装置。
  4. 前記接触位置算定手段により得られた前記基底面上の3点以上における前記針の先端と前記基底面との接触位置情報基づいて、前記基底面の傾斜を算定する傾斜算定手段をさらに備えたことを特徴とする請求項2または3に記載のマイクロインジェクション装置。
  5. 基底面上の細胞に微細な針を突き刺して目的物を注入するマイクロインジェクション装置において前記基底面と前記針の接触を検出する接触検出方法であって、
    前記針を所定の方向に所定の距離下降させる針駆動制御工程と、
    前記針駆動制御工程による下降によって前記針の先端が前記基底面と水平方向に移動する移動量を測定する先端移動量測定工程と、
    前記先端移動量測定工程により得られる移動量と、前記針を所定の方向に所定の距離下降させた場合の標準的な移動量との差分を求め、この差分が所定の閾値よりも大きい場合に、前記針と前記基底面とが接触していると判定する接触検出工程と
    を含んだことを特徴とする接触検出方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011004674A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Fujitsu Ltd 誘導多能性幹細胞(iPS細胞)の製造方法
JP2020120618A (ja) * 2019-01-31 2020-08-13 日本精工株式会社 マニピュレーションシステム及びマニピュレーションシステムの駆動方法
CN111961589A (zh) * 2020-08-12 2020-11-20 江苏信安佳医疗科技有限公司 一种用于三维类器官球体培养的自动换液装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002065240A (ja) * 2000-08-25 2002-03-05 Hitachi Ltd 両生類卵母細胞試料導入装置、両生類卵母細胞試料導入システム、両生類卵母細胞試料導入方法、両生類卵母細胞の製造方法、両生類卵母細胞及びそれを販売又は譲渡する方法、スクリーニング用のセンサーとして用いる方法、容器、及び解析方法
JP2003033171A (ja) * 2001-05-18 2003-02-04 Hitachi Ltd 卵母細胞または卵細胞選別方法および装置
JP2003241109A (ja) * 2002-02-20 2003-08-27 Olympus Optical Co Ltd マイクロマニピュレータ
WO2004092369A1 (ja) * 2003-04-11 2004-10-28 Riken マイクロインジェクション方法および装置
JP2005318851A (ja) * 2004-05-10 2005-11-17 Fujitsu Ltd マイクロインジェクション装置およびマイクロインジェクション方法
JP2006000016A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Fujitsu Ltd 物質注入装置および物質注入方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002065240A (ja) * 2000-08-25 2002-03-05 Hitachi Ltd 両生類卵母細胞試料導入装置、両生類卵母細胞試料導入システム、両生類卵母細胞試料導入方法、両生類卵母細胞の製造方法、両生類卵母細胞及びそれを販売又は譲渡する方法、スクリーニング用のセンサーとして用いる方法、容器、及び解析方法
JP2003033171A (ja) * 2001-05-18 2003-02-04 Hitachi Ltd 卵母細胞または卵細胞選別方法および装置
JP2003241109A (ja) * 2002-02-20 2003-08-27 Olympus Optical Co Ltd マイクロマニピュレータ
WO2004092369A1 (ja) * 2003-04-11 2004-10-28 Riken マイクロインジェクション方法および装置
JP2005318851A (ja) * 2004-05-10 2005-11-17 Fujitsu Ltd マイクロインジェクション装置およびマイクロインジェクション方法
JP2006000016A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Fujitsu Ltd 物質注入装置および物質注入方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011004674A (ja) * 2009-06-26 2011-01-13 Fujitsu Ltd 誘導多能性幹細胞(iPS細胞)の製造方法
JP2020120618A (ja) * 2019-01-31 2020-08-13 日本精工株式会社 マニピュレーションシステム及びマニピュレーションシステムの駆動方法
JP7263800B2 (ja) 2019-01-31 2023-04-25 日本精工株式会社 マニピュレーションシステム及びマニピュレーションシステムの駆動方法
CN111961589A (zh) * 2020-08-12 2020-11-20 江苏信安佳医疗科技有限公司 一种用于三维类器官球体培养的自动换液装置
CN111961589B (zh) * 2020-08-12 2023-10-31 江苏信安佳医疗科技有限公司 一种用于三维类器官球体培养的自动换液装置

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