JP2007146077A - 絶縁材料 - Google Patents
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- 239000011810 insulating material Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 69
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 69
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims abstract description 51
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 45
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 13
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- -1 sabonite Chemical compound 0.000 claims description 14
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 claims description 12
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 4
- VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N calcium;aluminum;dioxido(oxo)silane;sodium;hydrate Chemical compound O.[Na].[Al].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000273 nontronite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 2
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 2
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 3-[(e)-dodec-1-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C1CC(=O)OC1=O WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(C(=C(C(=C1O)C)C)C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)O)C VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXBYUPMEYVDXIQ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound CC1CCCC2C(=O)OC(=O)C12 QXBYUPMEYVDXIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRBNDLYHPCVYGC-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3-triol Chemical group OC1=C(O)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XRBNDLYHPCVYGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C)CCC2C(=O)OC(=O)C12 FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N het anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1(Cl)C(Cl)=C(Cl)C2(Cl)C1(Cl)Cl FLBJFXNAEMSXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-O hydron;octadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[NH3+] REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002135 nanosheet Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- JIYNFFGKZCOPKN-UHFFFAOYSA-N sbb061129 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C=C(C)C2C1 JIYNFFGKZCOPKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
- H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
- H01B3/40—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes epoxy resins
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
- C08K5/19—Quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
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Abstract
【解決手段】エポキシ樹脂2と、硬化剤と、厚み2nm以下でアスペクト比40以下のナノ充填材3とを含有する絶縁材料1である。ナノ充填材3は、エポキシ樹脂2中で有機化クレイを分散させてなる。有機化クレイは、窒素原子に2〜4個の有機修飾基が結合してなる2〜4級の有機アンモニウムイオンにより層状構造の粘土鉱物を有機化処理してなる。有機アンモニウムイオンの有機修飾基は、炭素数が30以下であることが好ましい。また、有機アンモニウムイオンの有機修飾基のうち少なくとも一つは、炭素数が2以上であることが好ましい。
【選択図】図1
Description
上記ナノ充填材は、上記エポキシ樹脂中で有機化クレイを分散させてなり、
該有機化クレイは、窒素原子に2〜4個の有機修飾基が結合してなる2〜4級の有機アンモニウムイオンにより層状構造の粘土鉱物を有機化処理してなることを特徴とする絶縁材料にある(請求項1)。
そのため、上記絶縁材料は、優れた絶縁性を発揮することができる。また、上記絶縁材料は、従来のシリカからなる充填材に比べてより少ない含有量の上記ナノ充填材で絶縁性を発揮することができる。それ故、上記絶縁材料は、上記エポキシ樹脂が本来有する耐熱性等の優れた特性を損なわずに、優れた絶縁性を発揮することができる。
また、上記絶縁材料は、硬化剤を含有するため、加熱等により容易に硬化させることができる。そして、上記絶縁材料は、硬化させても優れた絶縁性を発揮することができる。
図5に、エポキシ樹脂90中にシリカからなる充填材95を添加してなる従来の絶縁材料9を示す。同図に示すごとく、この絶縁材料9は、直方体形状に成形されている。この直方体形状の絶縁材料9の一つの面に、導電性ペーストを焼き付けて導電面98を形成すると共に、導電面98と対抗する面から絶縁材料9に電極針8を挿入して絶縁材料9に一定以上の電圧を印加し続けると、絶縁破壊が生じる。図5は、従来の絶縁材料9に絶縁破壊が起こるときにおける絶縁破壊(図5中に太線矢印で示す)が進展する様子を示す。
図5に示すごとく、一般に、絶縁材料9の絶縁破壊は、エポキシ樹脂90中の充填材95を迂回しながら進展する。したがって、同図に示すごとく、充填材95を添加すると、迂回分だけ進展距離(図5中の太線矢印の長さ)が長くなり、絶縁破壊が起こり難くなる。同図より知られるごとく、従来のシリカ等からなる充填材は、体積が大きいため、少量の添加では、迂回距離を長くすることは困難である。
したがって、本発明によれば、樹脂本来の特性をほとんど損ねることなく優れた絶縁性を発揮できる絶縁材料を提供することができる。
本発明の絶縁材料は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、厚み2nm以下でアスペクト比40以下のナノ充填材とを含有する。
上記ナノ充填材のアスペクト比は、上記ナノ充填材の厚み(最も短い長さ)に対する幅(最も長い長さ)の比で表すことができる。
上記ナノ充填材の厚み及び幅は、上記粘土鉱物を適宜選択することにより変更することができる。したがって、上記粘土鉱物の種類を選択すると、およその上記ナノ充填材の厚み及び幅を決定できる。
また、上記絶縁材料中の上記ナノ充填材の厚み及び幅は、硬化させた上記絶縁材料を例えばX線回折法及び透過型電子顕微鏡(TEM)等により測定することにより得ることができる。
上記有機化処理は、例えば上記有機アンモニウムイオンを含む水溶液等の液体中に上記粘土鉱物を浸漬すること等により行うことができる。有機化処理により、上記粘土鉱物の層間に上記有機アンモニウムイオンが入り込み、その層間隔を広げることができる。したがって、有機化処理により、粘土鉱物の層間に有機アンモニウムイオンが挿入されて層間隔が拡大された上記有機化クレイを得ることができる。
上記有機化クレイを例えば混合等により上記エポキシ樹脂中で分散させると、上記エポキシ樹脂が上記有機化クレイの層間に入り込み、層間の結合が壊れ、上記有機化クレイを構成する層が上記ナノシート充填材としてエポキシ樹脂中に分散される。
このとき、上記有機化クレイを構成する層が単一層で分散される場合もあるが、2層以上が積層した状態で分散される場合もある。好ましくは、単一層で分散されていることがよい。この場合には、上記ナノ充填材の厚みを例えば1nm程度にまで小さくすることができる。そしてこの場合には、少量(重量)の上記有機化クレイの添加で、上記絶縁材料中における上記ナノ充填材の表面積の総和を大きくすることができるため、上記絶縁材料の絶縁破壊をより一層抑制することができる。
上記硬化剤としては、例えば酸無水物又はアミン化合物等を用いることができる。
上記酸無水物としては、例えばヘキサヒドロ酸無水物、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水メチルCD酸、無水CD酸、メチルハイミック酸、ハイミック酸、無水コハク酸、テトラヒドロ酸無水物、リカシッドHL、クロレンド酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、3メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸マレイン酸付加物、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ドデセニル無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、及びメチルナジック酸等がある。
また、上記硬化剤の含有量は、上記エポキシ樹脂100重量部に対して30重量部〜170重量部であることが好ましい。
この場合には、エポキシ樹脂本来の特性を損なわずに、硬化させることができる。
上記有機アンモニウムとして、窒素原子に1個の有機修飾基が結合してなる1級アンモニウムで有機化処理すると、上記絶縁材料を加熱により硬化させたときに、1級有機アンモニウムが上記エポキシ樹脂の硬化反応に悪影響を及ぼし、絶縁性が低下するおそれがある。
2〜4級の有機アンモニウムイオンの構造を下記の式(1)〜(3)に示す。式(1)〜(3)においてR1〜R3は、有機修飾基を示す。
そして上記有機アンモニウムイオンが挿入された上記粘土鉱物、即ち上記有機化クレイは、その層間距離が大きくなっている。そのため、上記有機化クレイと上記エポキシ樹脂と混合し分散させることにより、上記有機化クレイの層間に上記エポキシ樹脂が容易に入り込むことができる。その結果、上記有機化クレイの層間隔がさらに広がって、有機化クレイの層間の結合が切断され、有機化クレイを構成する層を上記ナノ充填材としてエポキシ樹脂中に分散させることができる。
シクロアルキル基、アルケニル基等の炭化水素基等がある。また、上記有機修飾基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の比較的極性が大きく反応性の高い官能基を含有するものを用いることもできる。
好ましくは、有機アンモニウムイオンの上記有機修飾基は、炭素数が30以下であることがよい(請求項2)。
炭素数が30を越える場合には、上記有機アンモニウムイオンが上記粘土鉱物の層間に入り込み難くなるおそれがある。そのため、上記有機化クレイの層間距離を充分に拡大させることが困難になり、上記ナノ充填材を上記エポキシ樹脂中に充分に分散させることが困難になるおそれがある。
上記有機アンモニウムイオンにおける上記有機修飾基のいずれもが炭素数2未満である場合には、上記有機化クレイの層間距離を充分に拡大させることができず、その結果、上記ナノ充填材を上記エポキシ樹脂中に充分に分散させることが困難になるおそれがある。より好ましくは、上記有機アンモニウムイオンの上記有機修飾基のうち少なくとも一つは、炭素数10以上がよく、さらに好ましくは炭素数15以上がよい。
この場合には、上記有機アンモニウムイオンは、上記粘土鉱物の層間に容易に入り込むことができると共に、上記粘土鉱物の層間距離を充分に拡大させることができる。
上記ナノ充填材の配合割合が上記の範囲内にある場合には、少量のナノ充填材で優れた絶縁性を発揮できるという本発明の作用効果をより顕著に得ることができる。より好ましくは、上記絶縁材料における上記ナノ充填材の含有量は、1〜20重量部がよく、さらに好ましくは1〜10重量部がよい。
次に、本発明の実施例につき、図1〜図3を用いて説明する。本例においては、本発明の実施例にかかる絶縁材料と比較用の絶縁材料とを作製し、絶縁性を比較する。
図1に示すごとく、本例の絶縁材料1は、エポキシ樹脂2と、硬化剤と、厚み2nm以下でアスペクト比40以下の板状のナノ充填材3とを含有する。ナノ充填材3は、エポキシ樹脂2中で有機化クレイを分散させてなる。図2(a)、(b)に示すごとく、有機化クレイ4は、窒素原子に2〜4個の有機修飾基が結合してなる2〜4級の有機アンモニウムイオン5により層状構造の粘土鉱物6を有機化処理してなる。
まず、層状構造の粘土鉱物を有機化処理して有機化クレイを作製した。
具体的には、まず、粘土鉱物6として、層状構造のモンモリロナイト(Na−モンモリロナイト)を準備した(図2(a)参照)。この粘土鉱物を水に分散させて分散液を作製した。
次に、有機アンモニウム塩を準備し、この有機アンモニウム塩を水に溶解して有機アンモニウム水溶液を作製した。この有機アンモニウム水溶液中には、上記式(4)で表される有機アンモニウムイオンが存在する。
次に、有機化クレイ4の沈殿物をろ過により回収し、水で洗浄し、凍結乾燥することにより有機化クレイ(有機化モンモリロナイト)4を得た。これを試料e1とする。
次いで、X線回折法及び透過型電子顕微鏡(TEM)により試料e1の層状構造における層間距離を測定した。その結果を後述の表1に示す。
具体的には、試料e2の作製にあたっては、まず、有機アンモニウム塩を水に溶解して有機アンモニウム水溶液を作製した。この有機アンモニウム水溶液中には、下記式(5)で表される有機アンモニウムイオンが存在する。
また、上記試料e1の場合と同様にして、各試料(試料e2、試料e3、試料c1)の有機化クレイと、エポキシ樹脂と硬化剤とを混合し、有機化クレイの各層(ナノ充填材)がエポキシ樹脂中に分散された絶縁材料を得た。
試料e2の有機化クレイを用いて作製した絶縁材料を試料E2とし、試料e3の有機化クレイを用いて作製した絶縁材料を試料E3とし、試料c1の有機化クレイを用いて作製した絶縁材料を試料C1とする。各試料においては、厚み2nm以下でアスペクト比40以下のナノ充填材がエポキシ樹脂中に分散されていた。また、試料E2、試料E3、及び試料C1におけるナノ充填材の含有割合は、試料E1と同様に、いずれもエポキシ樹脂100重量部に対して7重量部であった。
即ち、エポキシ樹脂としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂100重量部と、硬化剤としてのヘキサヒドロ酸無水物85重量部とを、試料E1と同様に、真空脱泡しながら攪拌混合し、比較用の絶縁材料を得た。これを試料C2とする。
Tgの測定は、TMA(Thermomechanical
Analysys)法により、各試料を温度90℃で17時間加熱後、さらに170℃で15時間加熱して得られた硬化物を熱物理試験機TM−1500型(真空理工株式会社製)を用いて昇温速度2.0℃/minで昇温させることにより測定した。
具体的には、図3に示すごとく、まず上記のように加熱により硬化させた各試料の絶縁材料を立方体形状の試験片1に成形した。次いで、立方体形状の試験片1の一つの面に、導電性ペーストを焼き付けて電極面10を形成した。次に、電極面10と対抗する面から試験片1に針電極8(φ30μm)を挿入し、針電極8と電極面間に電圧を印加し、絶縁破壊が起こるまでの時間(破壊時間)を測定した。なお、針電極8と電極面10との距離dは2mmとした。
次いで、破壊時間と印加電圧との関係から破壊時間が1000時間となる電圧(耐電圧)を算出した。その結果を表2に示す。
これに対し、試料c1の有機化クレイを用いて作製した絶縁材料(試料C1)においては、試料C2に比べても著しく耐電性が低下していた。
この理由は、1級の有機アンモニウムイオンを含有する絶縁材料(試料C1)においては、該絶縁材料を加熱により硬化させるとき、1級の有機アンモニウムイオンがエポキシ樹脂の硬化反応に悪影響を及ぼすためであると考えられる。
具体的には、表2より知られるごとく、上記試料E1〜試料E3は、エポキシ樹脂からなる試料C2と同程度のガラス転移点を示した。一方、試料C1は、ガラス転移点が試料C2よりも低下していた。
このように、試料E1〜試料E3は、ナノ充填材を含有していない試料C2と同等の優れたガラス転移点を発揮できる。
2 エポキシ樹脂
3 ナノ充填材
Claims (6)
- エポキシ樹脂と、硬化剤と、厚み2nm以下でアスペクト比40以下のナノ充填材とを含有する絶縁材料であって、
上記ナノ充填材は、上記エポキシ樹脂中で有機化クレイを分散させてなり、
該有機化クレイは、窒素原子に2〜4個の有機修飾基が結合してなる2〜4級の有機アンモニウムイオンにより層状構造の粘土鉱物を有機化処理してなることを特徴とする絶縁材料。 - 請求項1において、上記有機アンモニウムイオンの上記有機修飾基は、炭素数が30以下であることを特徴とする絶縁材料。
- 請求項1又は2において、上記有機アンモニウムイオンの上記有機修飾基のうち少なくとも一つは、炭素数が2以上であることを特徴とする絶縁材料。
- 請求項1〜3のいずれか一項においては、上記有機アンモニウムイオンの上記有機修飾基のうちの1つは炭素数2以上であり、その他は炭素数30以下であることを特徴とする絶縁材料。
- 請求項1〜4のいずれか一項において、上記粘土鉱物は、モンモリロナイト、サボナイト、バイデライト、ノントロナイト、ヘクトライト、及びスティブンサイトから選ばれる1種以上であることを特徴とする絶縁材料。
- 請求項1〜5のいずれか一項において、上記絶縁材料は、上記エポキシ樹脂100重量部に対して上記ナノ充填材を1〜35重量部含有することを特徴とする絶縁材料。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005345554A JP2007146077A (ja) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 絶縁材料 |
DE102006055919A DE102006055919A1 (de) | 2005-11-30 | 2006-11-27 | Isoliermaterial |
US11/605,512 US20070123055A1 (en) | 2005-11-30 | 2006-11-28 | Insulating material |
CNA2006101667836A CN101192466A (zh) | 2005-11-30 | 2006-11-30 | 绝缘材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005345554A JP2007146077A (ja) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 絶縁材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007146077A true JP2007146077A (ja) | 2007-06-14 |
Family
ID=38037975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005345554A Pending JP2007146077A (ja) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 絶縁材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070123055A1 (ja) |
JP (1) | JP2007146077A (ja) |
CN (1) | CN101192466A (ja) |
DE (1) | DE102006055919A1 (ja) |
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ITTV20080160A1 (it) | 2008-12-05 | 2010-06-06 | Nanto Srl | Vernici e rivestimenti anticorrosione contenenti nanoclay |
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2005
- 2005-11-30 JP JP2005345554A patent/JP2007146077A/ja active Pending
-
2006
- 2006-11-27 DE DE102006055919A patent/DE102006055919A1/de not_active Ceased
- 2006-11-28 US US11/605,512 patent/US20070123055A1/en not_active Abandoned
- 2006-11-30 CN CNA2006101667836A patent/CN101192466A/zh active Pending
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---|---|
US20070123055A1 (en) | 2007-05-31 |
CN101192466A (zh) | 2008-06-04 |
DE102006055919A1 (de) | 2007-05-31 |
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Legal Events
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A711 | Notification of change in applicant |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A521 | Request for written amendment filed |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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