JP2007142234A - 塗布膜の成膜方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面に凹凸を有する被処理基板である半導体ウエハWに対して塗布液を供給し、ウエハの表面に塗布膜を成膜する成膜装置において、ウエハを外気から遮断して収容する処理室12と、処理室内に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給手段1と、処理室内に配設されて、ウエハを表面が下向きになるように回転可能に保持するチャック20と、処理室内に配設されて、ウエハの表面に向けて塗布液39を帯電した粒子としてミスト状に供給する塗布液供給手段30と、ウエハに上記粒子と反対の電位を付与する手段35とを有する構成とする。
【選択図】 図1
Description
2 溶剤供給源
3 気化器
4 排気手段
5 吸引ポンプ
10 筐体
10a 搬入・搬出口
12 処理室
20 チャック(保持手段)
21 モータ
24 昇降手段
30 レジスト液供給ノズル(塗布液供給手段)
33 処理カップ
34 帯電防止板
35 直流電圧
37 レジスト液収容タンク
39 レジスト液
40 大きな粒子
41 小さな粒子
42 塗布膜
50 制御手段
60 ホットプレート載置台
Claims (6)
- 表面に凹凸を有する被処理基板に対して塗布液を供給し、上記被処理基板の表面に塗布膜を成膜する成膜方法であって、
上記被処理基板を表面が下向きの状態で外気から遮断された処理室内に搬送する工程と、
上記処理室内を溶剤ガス雰囲気に置換する工程と、
上記被処理基板を水平方向に回転しつつ塗布液を帯電した粒子として被処理基板の表面に向かって噴霧すると共に、被処理基板に上記粒子と反対の電位を付与して、被処理基板の表面に塗布液を帯電付着する工程と、
を有することを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 請求項1記載の塗布膜の成膜方法において、
上記被処理基板の表面に塗布液を付着して塗布膜を形成した後、上記処理室内の溶剤ガスを排気する工程を更に有することを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 請求項1又は2記載の塗布膜の成膜方法において、
上記被処理基板の表面に塗布膜を形成した後に、上記被処理基板を加熱して塗布膜の膜質を安定化させる工程を更に有することを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 表面に凹凸を有する被処理基板に対して塗布液を供給し、上記被処理基板の表面に塗布膜を成膜する成膜装置であって、
上記被処理基板を外気から遮断して収容する処理室と、
上記処理室内に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給手段と、
上記処理室内に配設されて、上記被処理基板を表面が下向きになるように回転可能に保持する保持手段と、
上記処理室内に配設されて、上記被処理基板の表面に向けて塗布液を帯電した粒子としてミスト状に供給する塗布液供給手段と、
上記被処理基板に上記粒子と反対の電位を付与する手段と、
を有することを特徴とする塗布膜の成膜装置。 - 請求項4記載の塗布膜の成膜装置において、
上記処理室内の溶剤ガスを排気する排気手段を更に有することを特徴とする塗布膜の成膜装置。 - 請求項4又は5記載の塗布膜の成膜装置において、
上記保持手段と塗布液供給手段の一方又は双方を、両者の間隔を相対的に調整移動可能に構成したことを特徴とする塗布膜の成膜装置。
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