JP2007125725A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. インクジェット記録ヘッドの製造方法において、
   インク液滴吐出のためのエネルギー発生素子を有する第１の基板上に第１の感光性材料層を形成し、該第１の感光性材料層をパターン露光して、該第１の感光性材料層にインク流路となる潜像パターンを形成する工程と、
   前記エネルギー発生素子の上方に位置する前記第１の感光性材料層上に、犠牲層パターンを形成する工程と、
   前記犠牲層パターンが形成された前記第１の基板上に、シリコンからなる第２の基板を貼り合わせる工程と、
   前記第２の基板をドライエッチングし、その後にウェットエッチングして、前記第２の基板にインク吐出口を形成する工程と、
   前記潜像パターンを溶出してインク流路を形成する工程と、
   を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
2. 前記第２の基板にインク吐出口を形成する工程として、
   前記第２の基板上に、第２の感光性材料層を形成する工程と、
   前記第２の感光性材料層を露光及び現像して、前記第２の感光性材料層にインク吐出口開口部パターンを形成する工程と、
   前記第２の基板をドライエッチングして、前記第２の基板にインク吐出口を形成する工程と、
   前記インク吐出口が形成された前記第２の基板をウェットエッチングして、該インク吐出口をテーパー形状にする工程と、
   を有することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
3. 前記第１の基板上に位置合わせマークが形成されており、前記第２の感光性材料層にインク吐出口開口部パターンを形成する工程の露光の際に、前記位置合わせマークにより位置合わせを行うことを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
4. 前記犠牲層パターンが、前記ドライエッチングのストップ層及び前記ウェットエッチングの犠牲層の機能を兼ね備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
5. 前記ウェットエッチングとして、前記第２の基板の結晶異方性エッチングを行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
6. 前記第２の基板として、結晶方位が＜１００＞であるシリコン基板を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
7. 前記第１の感光性材料層が、熱硬化性を有する材料で形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
8. 前記犠牲層パターンが、アルミ層で形成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法により製造されたインクジェット記録ヘッド。
10. 前記インク吐出口が切頭四角錐形状であることを特徴とする請求項９に記載のインクジェット記録ヘッド。