JP2007112719A - カーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、新規なカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法に関する。該(メタ)アクリレート化合物は、塗料・インキ材料、接着剤、フォトレジスト材料、各種ディスプレイ材料、ゲル電解質等に好適なものである。
(メタ)アクリレート化合物は、可撓性、基材との密着性、耐候性等に優れ、熱や光、紫外線、電子線等のエネルギー線を照射すると硬化することから、塗料、接着剤、繊維、感光性樹脂材料等の種々の用途に用いられている。
例えば、下記特許文献1には、ポリカーボネート(メタ)アクリレート及びその重合体が開示されており、下記特許文献2には、(メタ)アクリル酸エステル及びその(共)重合体が開示されている。
しかし、従来の(メタ)アクリレート化合物は、顔料、可塑剤、溶媒等に対する親和性に劣っており、必ずしも満足のいく相溶性が得られていなかった。
従って、本発明の目的は、顔料、可塑剤、溶媒等との相溶性に優れた(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法を提供することにある。
本発明者等は、検討を重ねた結果、(メタ)アクリレート化合物に、極性基であるカーボネート基を導入することにより、上記課題を解決し得ることを知見した。
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、下記一般式(I)で表されるカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物を提供するものである。
また、本発明は、n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)とを反応させて得られる水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)に、ハロゲン化ギ酸アルキル(D)を反応させることを特徴とする、上記一般式(I)で示されるカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物の製造方法を提供するものである。
本発明によれば、顔料、可塑剤、溶媒等との相溶性に優れた(メタ)アクリレート化合物を提供できる。該(メタ)アクリレート化合物は、塗料・インキ材料、接着剤、フォトレジスト材料、各種ディスプレイ材料、ゲル電解質等に好適である。
以下、本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
まず、上記一般式(I)で表される本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物について説明する。
上記一般式(I)におけるR1で表されるn価の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、1,2−ジクロロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル等の置換基を有してもよいアルキル基;メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチルプロピレン、1,2−ジメチルプロピレン、1,3−ジメチルプロピレン、1−メチルブチレン、2−メチルブチレン、3−メチルブチレン、4−メチルブチレン、2,4−ジメチルブチレン、1,3−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン−1,1−ジイル、プロパン−2,2−ジイル等の置換基を有してもよいアルキレン基;CH、CH3−C、CH2−CH、CH2−CH−CH2、CH3−C−CH2、CH2−C(CH3CH2)−CH2等の三価のアルコール残基;C、CH2−C、CH−CH、C(CH3)−C(CH3)、CH2−CH−CH−CH2、C(CH2)4等の四価のアルコール残基;CH2−CO−CH−CH−CH−CH2等の五価のアルコール残基;CH2−CH−CH−CH−CH−CH2等の六価のアルコール残基、その他7〜10価のアルコール残基等が挙げられ、これらの炭化水素基中のメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基等で中断されていてもよい。また、R1で表されるn価の炭化水素基は、炭素原子数が1〜10であることが好ましい。
上記一般式(I)におけるR1で表されるn価の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、1,2−ジクロロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル等の置換基を有してもよいアルキル基;メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチルプロピレン、1,2−ジメチルプロピレン、1,3−ジメチルプロピレン、1−メチルブチレン、2−メチルブチレン、3−メチルブチレン、4−メチルブチレン、2,4−ジメチルブチレン、1,3−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン−1,1−ジイル、プロパン−2,2−ジイル等の置換基を有してもよいアルキレン基;CH、CH3−C、CH2−CH、CH2−CH−CH2、CH3−C−CH2、CH2−C(CH3CH2)−CH2等の三価のアルコール残基;C、CH2−C、CH−CH、C(CH3)−C(CH3)、CH2−CH−CH−CH2、C(CH2)4等の四価のアルコール残基;CH2−CO−CH−CH−CH−CH2等の五価のアルコール残基;CH2−CH−CH−CH−CH−CH2等の六価のアルコール残基、その他7〜10価のアルコール残基等が挙げられ、これらの炭化水素基中のメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基等で中断されていてもよい。また、R1で表されるn価の炭化水素基は、炭素原子数が1〜10であることが好ましい。
R3で表される置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基としては、例えば、上記一般式(I)におけるR1で表されるn価の炭化水素基として例示した置換基を有してもよいアルキル基のうち、炭素原子数1〜6のものが挙げられる。
上記一般式(I)において、nの値は、1〜10、好ましくは2〜6である。nの値が10より大きいと、反応生成物の粘度が大幅に増加し、場合によってはゲル化する可能性がある。
上記一般式(I)で表される本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物の中でも、R1がCH2−C(R)−CH2又はCH2−CH2であるもの(Rは置換基を有してもよい炭素原子数1〜4のアルキル基を表す);R3が置換基を有してもよい炭素原子数1〜4のアルキル基であるものが、得られる(メタ)アクリレート化合物の相溶性が特に良好であり、しかも安価に製造できるので好ましい。
次に、本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物の製造方法について説明する。
本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物の製造方法は、n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)とを反応させて得られる水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)に、ハロゲン化ギ酸アルキル(D)を反応させるものである。
本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物の製造方法は、n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)とを反応させて得られる水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)に、ハロゲン化ギ酸アルキル(D)を反応させるものである。
上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,5−ペンタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,8−オクタンジオールジグリシジルエーテル、1,10−デカンジオールジグリシジルエーテル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ジペンタリスリトールヘキサグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ジオールジグリシジルエーテル、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)エタン、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)メタン等が挙げられる。
上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)は、通常、n価アルコールに相当量の1−ブチレンオキシドを反応させることにより製造することができる。n価アルコールと1−ブチレンオキシドとの仕込モル比は、特に限定されないが、通常、n価アルコールの水酸基1モルに対して1−ブチレンオキシドが0.01〜10モル、好ましくは、0.1〜5モルである。
上記ハロゲン化ギ酸アルキル(D)としては、例えば、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸プロピル、ブロモギ酸ブチル等が挙げられるが、クロロギ酸メチルが好ましい。
また、本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物の製造方法において、n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)との反応は、反応温度80〜200℃、反応時間0.5〜20時間で、触媒及び溶媒の存在下で行なうのが好ましい。
上記触媒としては、塩化テトラメチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、テトラブチルアンモニウムアセテート等の相間移動触媒、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸等の酸触媒、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等の塩基触媒、金属アルコラート触媒、有機スズ化合物触媒等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。上記触媒の使用量は、特に限定されないが、上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)及び(メタ)アクリル酸(B)の合計量に対して、通常、0.001〜10質量%が好ましい。
上記溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル等のエステル系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセルソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、イソ−又はn−プロパノール、イソ−又はn−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等のBTX系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は1種で又は2種以上の混合溶媒として使用することができる。上記溶媒の使用量は、特に限定されないが、上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)及び(メタ)アクリル酸(B)の合計量に対して、通常、0.1〜500質量%が好ましい。
上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)との反応において、上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と上記(メタ)アクリル酸(B)との仕込モル比は特に限定されないが、通常、n価アルコールのグリシジルエーテル(A)の水酸基1モルに対して、(メタ)アクリル酸(B)が0.01〜30モル、好ましくは0.1〜20モルである。
上記n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)とを反応させて得られる水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)と、ハロゲン化ギ酸アルキル(D)との反応は、反応温度0〜100℃、反応時間0.5〜10時間で、塩基性物質及び溶媒の存在下で行なうのが好ましい。
上記塩基性物質としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセン(DBU)等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。上記塩基性物質の使用量は、特に限定されないが、上記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)及び上記ハロゲン化ギ酸アルキル(D)の合計量に対して、通常、0.01〜50質量%が好ましい。
上記溶媒としては、例えば、n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)との反応で用い得る溶媒として上記で例示したものが挙げられる。上記溶媒の使用量は、特に限定されないが、上記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)及び上記ハロゲン化ギ酸アルキル(D)の合計量に対して、通常、0.1〜200質量%が好ましい。
上記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)とハロゲン化ギ酸アルキル(D)との反応において、上記(メタ)アクリレート化合物(C)と上記ハロゲン化ギ酸アルキル(D)との仕込モル比は特に限定されないが、通常、上記(メタ)アクリレート化合物(C)の水酸基1モルに対して、上記ハロゲン化アルキル(D)が0.2〜2モル、好ましくは0.5〜1.5モルである。
n価アルコールのグリシジルエーテル(A)と(メタ)アクリル酸(B)との反応、及び水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)とハロゲン化ギ酸アルキル(D)との反応においては、必要に応じて重合禁止剤を用いることもできる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ベンゼンプロパン酸ステアリルエステル、ベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−2,2−ビス[[3−[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]−1−オキソプロプキシ]メチル]−1,3−プロパンジイルエステル等が挙げられるが、これらの重合禁止剤に限定されるものではない。
本発明のカーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物は、例えば、コーティング材料、接着剤、シーリング材料、印刷版用感光性樹脂、プリント配線用フォトレジスト材料、平版印刷版用フォトレジスト材料、半導体用フォトレジスト材料、塗料・インキ材料、歯科衛生材料、酵素・微生物固定用光硬化性樹脂、光学機能材料、光ファイバー用コーティング材料、プラスチック光ファイバー材料、光学レンズ材料、液晶ディスプレイ基板材料、プラズマディスプレイ封止材料、有機ELディスプレイ封止材料、カラーフィルタ等の各種ディスプレイ材料、電池、キャパシタ等に用いられるゲル電解質等の原料モノマーとして用いることができるが、これらに限定されるものではない。
以下、実施例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
[実施例1]カーボネート基含有トリアクリレートの製造
反応フラスコに、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル90.6g(0.3モル)、アクリル酸75.6g(1.1モル)、テトラブチルアンモニウムヒドロオキシド4.32g(6ミリモル)、重合禁止剤としてのベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−2,2−ビス[[3−[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]−1−オキソプロプキシ]メチル]−1,3−プロパンジイルエステル0.28g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート310gを仕込み、115℃で9時間撹拌した。室温に冷却し、ピリジン95g(1.2モル)を加え、クロロギ酸メチル113g(1.2モル)を徐々に滴下して室温で2時間撹拌した。析出した塩をろ別し、溶媒を留去した。n−ヘキサン200g、トルエン300g及びシリカゲル50gを加えて30分撹拌後、シリカゲルをろ別して溶媒を留去し、淡黄色液体166gを収率80%で得た(数平均分子量944、質量平均分子量1052)。得られた淡黄色透明液体は、元素分析、1H−NMR分析及びIR分析の結果、上記一般式(I)におけるR1がCH2−C(CH3CH2)−CH2、R2が水素原子、R3がメチル基、nが3であるアクリレート化合物であることを確認した。これらの分析結果、及びTG−DTAによる50質量%減少温度測定結果を以下に示す。
反応フラスコに、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル90.6g(0.3モル)、アクリル酸75.6g(1.1モル)、テトラブチルアンモニウムヒドロオキシド4.32g(6ミリモル)、重合禁止剤としてのベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−2,2−ビス[[3−[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]−1−オキソプロプキシ]メチル]−1,3−プロパンジイルエステル0.28g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート310gを仕込み、115℃で9時間撹拌した。室温に冷却し、ピリジン95g(1.2モル)を加え、クロロギ酸メチル113g(1.2モル)を徐々に滴下して室温で2時間撹拌した。析出した塩をろ別し、溶媒を留去した。n−ヘキサン200g、トルエン300g及びシリカゲル50gを加えて30分撹拌後、シリカゲルをろ別して溶媒を留去し、淡黄色液体166gを収率80%で得た(数平均分子量944、質量平均分子量1052)。得られた淡黄色透明液体は、元素分析、1H−NMR分析及びIR分析の結果、上記一般式(I)におけるR1がCH2−C(CH3CH2)−CH2、R2が水素原子、R3がメチル基、nが3であるアクリレート化合物であることを確認した。これらの分析結果、及びTG−DTAによる50質量%減少温度測定結果を以下に示す。
(分析値)
(1)元素分析(理論値 C:50.6%、H:6.0%、O:43.3%)
C:53.3%、H:6.6%、O:40.1%
(2)1H−NMR(溶媒:クロロホルム)(ケミカルシフト:多重度:H数)
(0.81;t:3H)、(1.34:q:2H)、(3.29:s:6H)、(3.59:d:6H)、(3.80:s:9H)、(4.26:m:3H)、(4.45:d:6H)、(5.85:d:3H)、(6.12:t:3H)、(6.43:d:3H)
(3)IR(cm-1)
1751、1729、1444、1410、1270、1186
(4)TG−DTAによる50質量%減少温度(Ar100ml/min、10℃/min昇温、サンプル量4.46mg)
385.7℃
(1)元素分析(理論値 C:50.6%、H:6.0%、O:43.3%)
C:53.3%、H:6.6%、O:40.1%
(2)1H−NMR(溶媒:クロロホルム)(ケミカルシフト:多重度:H数)
(0.81;t:3H)、(1.34:q:2H)、(3.29:s:6H)、(3.59:d:6H)、(3.80:s:9H)、(4.26:m:3H)、(4.45:d:6H)、(5.85:d:3H)、(6.12:t:3H)、(6.43:d:3H)
(3)IR(cm-1)
1751、1729、1444、1410、1270、1186
(4)TG−DTAによる50質量%減少温度(Ar100ml/min、10℃/min昇温、サンプル量4.46mg)
385.7℃
[実施例2]カーボネート基含有ジアクリレートの製造
反応フラスコに、エチレングリコールジグリシジルエーテル87.0g(0.5モル)、アクリル酸75.6g(1.1モル)、テトラブチルアンモニウムヒドロオキシド4.32g(6ミリモル)、重合禁止剤としてのベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−2,2−ビス[[3−[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]−1−オキソプロプキシ]メチル]−1,3−プロパンジイルエステル0.28g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート310gを仕込み、115℃で9時間撹拌した。室温に冷却し、ピリジン95g(1.2モル)を加え、クロロギ酸メチル113g(1.2モル)を徐々に滴下して室温で2時間撹拌した。析出した塩をろ別し、溶媒を留去した。n−ヘキサン200g、トルエン300g及びシリカゲル50gを加えて30分撹拌後、シリカゲルをろ別して溶媒を留去し、淡黄色液体93.3gを収率78%で得た(数平均分子量567、質量平均分子量896)。得られた淡黄色透明液体は、元素分析、1H−NMR分析及びIR分析の結果、上記一般式(I)におけるR1がCH2−CH2、R2が水素原子、R3がメチル基、nが2であるアクリレート化合物であることを確認した。これらの分析結果、及びTG−DTAによる50質量%減少温度測定結果を以下に示す。
反応フラスコに、エチレングリコールジグリシジルエーテル87.0g(0.5モル)、アクリル酸75.6g(1.1モル)、テトラブチルアンモニウムヒドロオキシド4.32g(6ミリモル)、重合禁止剤としてのベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−2,2−ビス[[3−[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]−1−オキソプロプキシ]メチル]−1,3−プロパンジイルエステル0.28g、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート310gを仕込み、115℃で9時間撹拌した。室温に冷却し、ピリジン95g(1.2モル)を加え、クロロギ酸メチル113g(1.2モル)を徐々に滴下して室温で2時間撹拌した。析出した塩をろ別し、溶媒を留去した。n−ヘキサン200g、トルエン300g及びシリカゲル50gを加えて30分撹拌後、シリカゲルをろ別して溶媒を留去し、淡黄色液体93.3gを収率78%で得た(数平均分子量567、質量平均分子量896)。得られた淡黄色透明液体は、元素分析、1H−NMR分析及びIR分析の結果、上記一般式(I)におけるR1がCH2−CH2、R2が水素原子、R3がメチル基、nが2であるアクリレート化合物であることを確認した。これらの分析結果、及びTG−DTAによる50質量%減少温度測定結果を以下に示す。
(分析値)
(1)元素分析(理論値 C:49.8%、H:6.0%、O:44.2%)
C:51.7%、H:6.2%、O:42.1%
(2)1H−NMR(溶媒:クロロホルム)(ケミカルシフト:多重度:H数)
(3.55−3.74:m:4H)、(3.80:s:3H)、(4.19−4.33:m:1H)、(4.42−4.47:d:2H)、(5.85:t:1H)、(6.12:t:1H)、(6.43:d:1H)
(3)IR(cm-1)
1752、1728、1443、1409、1272、1189
(4)TG−DTAによる50質量%減少温度(Ar100ml/min、10℃/min昇温、サンプル量18.8mg)
347.6℃
(1)元素分析(理論値 C:49.8%、H:6.0%、O:44.2%)
C:51.7%、H:6.2%、O:42.1%
(2)1H−NMR(溶媒:クロロホルム)(ケミカルシフト:多重度:H数)
(3.55−3.74:m:4H)、(3.80:s:3H)、(4.19−4.33:m:1H)、(4.42−4.47:d:2H)、(5.85:t:1H)、(6.12:t:1H)、(6.43:d:1H)
(3)IR(cm-1)
1752、1728、1443、1409、1272、1189
(4)TG−DTAによる50質量%減少温度(Ar100ml/min、10℃/min昇温、サンプル量18.8mg)
347.6℃
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JP2005303140A JP2007112719A (ja) | 2005-10-18 | 2005-10-18 | カーボネート基を有する(メタ)アクリレート化合物 |
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JP2019006990A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
-
2005
- 2005-10-18 JP JP2005303140A patent/JP2007112719A/ja active Pending
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